【課題】極薄ウエハを破損せずに出し入れすると同時に、搬送、処理することが可能な薄板収納容器を提供する。
【解決手段】極薄化ウエハ３７を真空吸着し固定できる薄板収納容器を用いる。収納容器の真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を持つ。減圧室には支持隔壁が設置され、吸着板を支える。吸着板は、収納容器から分離できる構造である。吸着面が弾性材料で、他方が一定の強度を有する高分子材料で構成する二層構造である。収納容器は、好適にはウエハ吸着面が周縁部に対し凹状である。ウエハが真空吸着固定されるので、薄板収納容器の搬送やプロセスも自動化が可能となる。収納容器は繰り返し使用でき、環境負荷も少ない。 （もっと読む）

【課題】 基板吸着エラーを未然に回避できる信頼性の高い基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板吸着部の真空圧を検出し、検出された圧力データの演算処理を行うことにより、次に処理する基板の吸着部真空圧の変化を予測する手段及び、基板保持状態を判別する手段及び、吸着部真空圧の圧力値に応じた加速度変更手段及び、基板吸着面のクリーニング手段を備える。これにより、基板吸着面に付着する異物による吸着部真空圧の上昇によって起こる搬送装置の吸着エラーに対して、未然に吸着エラーを予測し警告信号を出力する。吸着エラーが発生する前に吸着面のクリーニングを効率よく実行することで装置の生産性を低下させない。また、突発的な吸着エラーに対しては基板保持状態を判別し、吸着圧力に応じて搬送加速度を変更することで安全に基板搬送を続行可能とする。 （もっと読む）

【課題】基板搬送容器内空間のガス置換を満遍なく、また効率よく行うことができる基板搬送容器、および基板搬送容器内空間のガス置換を満遍なく、また効率よく行い得る方法を提供する。
【解決手段】一側面に開口部３が設けられ且つ複数枚の基板を夫々独立に収容できる基板支持手段４を有する容器本体１と、容器本体１に３開口部を閉塞可能にかつ開閉自在に取り付けられる蓋体２とを有する基板搬送容器であって、蓋体２には、容器外部から不活性ガスを導入するためのガス導入口１１と、ガス導入口１１から導入された不活性ガスを容器内に収容される基板間の空間に噴出可能に設けられてなるガス供給ノズルと、容器内のガスを容器外に排出するためのガス排出口１２とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】空気通路のメンテナンスが容易で、ロボットに再ティーチングを行なわなくても、ウェハをチャックにセットできる薄形のウェハ搬送用ハンドを提供する。
【解決手段】上面にウェハ吸着面を持つ薄板状のハンド本体（１３）が、その後端部（３０５）にて、ロボットアーム（１９）上で支持される。ハンド本体（１３）は、ロボットアーム（１９）に対して、ウェハ吸着面に垂直な方向へ移動可能なように弾性的に支持される。ハンド本体（１３）内の空気通路（３０７）はハンド本体（１３）の下面から掘られた溝であり、そこに蓋（３２３）が被せてある。ハンド本体（１３）の下面の蓋（３２３）を覆う領域に樹脂テープ（３２５）が貼られ、樹脂テープ（３２５）が空気通路（３０７）の蓋（３２３）の周囲の隙間を封止する。樹脂テープ（３２５）を剥がし蓋（３２３）を外すと、空気通路（３０７）の掃除ができる。 （もっと読む）

【課題】拭き取り作業における試料へのパーティクルの再付着などが発生しない試料保持具を提供する。
【解決手段】セラミック基体の一主面上に備えられ、試料を保持するための複数のピン１と、セラミック基体上方側の主面の外縁部に、保持される試料との間を密閉する空間を形成するためのシール部と、を備えており、ピン１は、先端に向かって先細り状であり、複数の傾斜面６からなるショルダー部４を外周にわたって少なくとも１つ備えている。 （もっと読む）

【課題】いわゆるオープンカセットを用いる場合の不具合を解消することができる研削装置を提供すること。
【解決手段】第一のカセットテーブル１２と第二のカセットテーブル１４に載置された第一のカセットと第二のカセットをそれぞれ閉塞する閉塞位置に位置づけ可能な第一のカセットカバー６６と第二のカセットカバー６７を設けるとともに、第一のカセットと搬出手段との間、および第二のカセットと搬入手段との間をそれぞれ開閉可能に仕切る第一の仕切り壁６４と第二の仕切り壁６５を設け、第一の仕切り壁６４や第二の仕切り壁６５の開状態で搬出手段または搬入手段が作用する時にはそれぞれ第一のカセットカバー６６や第二のカセットカバー６７により閉塞させることで、手が入り込まないようにした。 （もっと読む）

【課題】キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成できるウェーハ移載手順作成装置を提供する。
【解決手段】工場内から提供される提供ウェーハ構成に含まれ、次工程から要求される要求ウェーハ構成に含まれないウェーハをピックアップし、このウェーハに対応したキャリアを新たに想定し、この想定したキャリアにウェーハを配置する。これにより、目標ウェーハ構成を決定する（Ｓ２）。次に、キャリアを１つ選択し、この選択されたキャリアについて提供ウェーハ構成と目標ウェーハ構成とを比較して、このキャリアから退避させるべきウェーハを退避させ、このキャリア内で移動させるべきウェーハを移動させ、他のキャリアからこのキャリアに移入させるべきウェーハを移入させる。この手順を全てのキャリアについて繰り返す。これにより、移載手順を作成する（Ｓ３）。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく歩留まりを高くすることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、大気系搬送装置３内に搬送アーム５２とガス供給系６０とを、ロードロック室４内に移載アーム７０とガス供給系７２とを備える。大気系搬送装置３内において、ガス供給系６０はヒーティングユニット６２によって加熱された高温ガスを搬送アーム５２及び搬送アーム５２によって搬送されているウエハＷに吹き付ける。また、ロードロック室４内において、ガス供給系７２はヒーティングユニット７６によって加熱された高温のＮ_２ガス等の不活性ガスを移載アーム７０及び移載アーム７０によって搬送されているウエハＷに吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置などにおける高純度ガス供給システムの現地での施工時間等を短縮する。
【解決手段】表面清浄化部品の施工方法は、複数個の表面清浄化部品２ｃを組み立てるに際し、高純度不活性ガスを流しながら、ガスの流れ方向に沿って上流側から下流側へと組み立てを行っていく。前記表面清浄化部品２ｃは、所定の表面清浄化を行った後、大気に暴露させる事なく高純度不活性ガスを充満させて気密封じを行ったものである。 （もっと読む）

【課題】ダイボンディング工程終了後のウエーハリングからダイシングテープと不良チップとを効率よく分別することができるウエーハリングの再生処理装置を提供する。
【解決手段】再生処理装置２０は、紫外線照射部２２、リング反転部２３、チップ剥離部２４、テープ剥離部２５、およびリング洗浄部２６を含む。紫外線照射部２２は、不良チップ１３が付着した紫外線硬化性の粘着面１１ａを上方に向けた状態で、ダイシングテープ１１の下方から粘着面１１ａの裏側全体に紫外線を照射する。リング反転部２３は、ウエーハリング１０の上下を反転させ、粘着面１１ａを下方に向ける。チップ剥離部２４は、粘着面１１ａをブラシで擦り、不良チップ１３を剥ぎ落とす。テープ剥離部２５は、昇降テーブルを粘着面１１ａに下方から接触させ、上方へ持ち上げることでダイシングテープ１１を剥離する。リング洗浄部２６は、ウエーハリング１０を拭き取り洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄する基板収納容器用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板収納容器をローディングするローディング部と、前記基板収納容器をドライアイス粒子により洗浄する洗浄部と、洗浄部で洗浄された前記基板収納容器をアンローディングするアンローディング部とを含み、ドライアイス粒子を用いて基板収納容器を洗浄するので、排出される廃棄物がなく新環境的であり、また、ドライアイスを用いるので、微細洗浄が可能であり、基板収納容器の変形や破損を最小化することにより、その使用寿命を延長させるという効果があり、更に、従来の湿式洗浄装置に比べて洗浄工程が単純に進行されるので、機器のサイズも著しく小型化でき、よって経済的であるという効果がある。 （もっと読む）

静電チャック（ESC）の洗浄方法であって、ESCのセラミック表面を誘電性流体に浸す工程と、ESCのセラミック表面を導電性表面から離して、誘電性流体がESCのセラミック表面と導電性表面との間に満たされる工程と、誘電性流体を超音波攪拌すると同時にESCに電圧を印加する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ステージに配置される静電チャックの基板吸着面に付着したパーティクルを容易かつ確実に除去することのできる、静電チャックのパーティクル除去方法及び除去装置を提供する。
【解決手段】ステージ１１に配置される静電チャック４３の基板吸着面４３ａに付着したパーティクルを除去する静電チャック４３のパーティクル除去方法において、前記基板吸着面４３ａに、粘着部材８８を有する押圧部材８７を押圧手段１２により押圧し、前記粘着部材８８に前記パーティクルを付着させた後、前記粘着部材８８を前記基板吸着面４３ａから離脱して前記基板吸着面４３ａに付着した前記パーティクルを除去する。 （もっと読む）

【課題】吸着面の洗浄性を向上させた吸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る吸着装置は、吸着部材５１と、吸着部材５１を保持する保持部材とを備え、吸着部材５１は、表面に吸着面５５が形成されるとともに複数の吸着穴５３がこの吸着面５５から裏面側に貫通して形成された第１プレート部材５２と、表面に第１プレート部材５２の裏面側が接合されるとともに複数の吸着穴５３と繋がる複数の吸着通路５８がこの表面から裏面側に貫通して形成された第２プレート部材５７とからなり、第１プレート部材５２がパンチングメタルを用いて形成されてパンチングメタルの穴部が吸着穴５３となるように構成されるとともに、第２プレート部材５７の裏面側と保持部材における第３保持プレート７１の表面側との間に複数の吸着通路５８と真空源とに繋がる通路空間Ｓが吸着通路５８よりも断面積の大きい円板状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、かつ、所定の粒子径を有する異物を特に効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に設けられたクリーニング層とを有する。クリーニング層は、算術平均粗さＲａが０．０５μｍ以下であり、かつ、最大高さＲｚが１．０μｍ以下である凹凸形状を有する。好ましくは、クリーニング層の平面１ｍｍ^２あたりの実質表面積は、シリコンウェハミラー面の平面１ｍｍ^２あたりの実質表面積の１５０％以上である。 （もっと読む）

半導体ウエハ容器を洗浄し乾かすための装置は、汚れた容器を受け入れて、デッキアセンブリにそれを供給する、固定具を備えたロードポートを含んでいる。キャリアーは、さらにハンドリングのために容器を受け入れる。第１先端部を備えたロボットは、容器のドアを外し、キャリアーの一部にそれを置く。ロボットは、キャリアーに係合し、処理室内への挿入のためキャリアー及び容器を持ち上げる第２先端部を含んでいる。処理室は、少なくとも一つのレセプタクルを備えたローターを含んでいる。スピニングローターは、高圧及び低圧領域の両方を作成する。処理液は、容器とキャリアーに供給される。すすぎ工程後、ローターが回転している間、容器及びキャリアーが乾かされる。その後、ロボットは、処理室から容器及びキャリアーの両方を取り除き、容器にドアを再び組み立てる。
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【課題】処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部１０を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部１０は、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配して、該吸着用材１１に磁気を帯びさせたものである。 （もっと読む）

【課題】 搬送時に純水や薬液が垂れることを抑制できるドアシェル搬送機及びドアシェル搬送方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るドアシェル搬送機は、ドアシェルを搬送するドアシェル搬送機において、ＦＯＵＰにおいてポッドシェルからドアシェルを分離する分離機能を有するとともに前記ドアシェルを保持する保持機能を有する分離保持機構としてのオープナー３２と、前記オープナーを回転させる回転機構とを具備する。この回転機構はオープナー３２が回転軸３８を介して接続されたロータリーアクチュエーター３７を有するものである。 （もっと読む）

【課題】 ＦＯＵＰの金属による汚れを除去できるＦＯＵＰ洗浄乾燥装置及びＦＯＵＰ洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＦＯＵＰ洗浄乾燥装置は、ドアシェルを薬液で洗浄し純水でリンスするドアシェル洗浄リンス槽１と、前記ドアシェルの水切りを行うドアシェル水切り槽２と、前記ドアシェルを乾燥させるドアシェル乾燥槽３と、ポッドシェルを薬液で洗浄し純水でリンスするポッドシェル洗浄槽４と、前記ポッドシェルの水切りを行うポッドシェル水切り槽５と、前記ポッドシェルを乾燥させるポッドシェル乾燥槽６と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ドアシェルの金属による汚れを除去できるドアシェル洗浄装置及びドアシェル洗浄方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るドアシェル洗浄装置は、ドアシェル８３の内面の金属汚染部分を覆うシャワーボックス３１と、前記シャワーボックス内に配置され、前記金属汚染部分に薬液を噴射する薬液シャワーノズル３４と、前記シャワーボックス内に配置され、前記金属汚染部分に純水を噴射する純水シャワーノズル３５と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）