薄板収納容器
【課題】極薄ウエハを破損せずに出し入れすると同時に、搬送、処理することが可能な薄板収納容器を提供する。
【解決手段】極薄化ウエハ３７を真空吸着し固定できる薄板収納容器を用いる。収納容器の真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を持つ。減圧室には支持隔壁が設置され、吸着板を支える。吸着板は、収納容器から分離できる構造である。吸着面が弾性材料で、他方が一定の強度を有する高分子材料で構成する二層構造である。収納容器は、好適にはウエハ吸着面が周縁部に対し凹状である。ウエハが真空吸着固定されるので、薄板収納容器の搬送やプロセスも自動化が可能となる。収納容器は繰り返し使用でき、環境負荷も少ない。
【解決手段】極薄化ウエハ３７を真空吸着し固定できる薄板収納容器を用いる。収納容器の真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を持つ。減圧室には支持隔壁が設置され、吸着板を支える。吸着板は、収納容器から分離できる構造である。吸着面が弾性材料で、他方が一定の強度を有する高分子材料で構成する二層構造である。収納容器は、好適にはウエハ吸着面が周縁部に対し凹状である。ウエハが真空吸着固定されるので、薄板収納容器の搬送やプロセスも自動化が可能となる。収納容器は繰り返し使用でき、環境負荷も少ない。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体用ウエハを搭載する薄板収納容器に関する。特に極薄化したウエハを安全に確実に搭載する薄板収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体用ウエハの一方の面（以下、表面）に、トランジスタ、不純物拡散層および導電体層等の素子を形成した後で、ウエハの裏面を研削しウエハ厚みを所望の厚みに加工することが一般に行われている。この加工の後で、所望の形状（大きさ）にダイシングされ、半導体チップ加工される。このチップが半導体パッケージや、回路基板等に搭載される。この半導体パッケージや回路基板等に、極めて薄いものが要求されてきていて、その場合には最終のウエハ厚みを極薄化する必要がある。半導体素子形成時における初期のウエハの厚みは、300〜1000μmであるが、最終のウエハ厚み（チップ厚み）は10〜200μmになる場合もある。このような薄いウエハになると、何ら支持のない単独のウエハでは、ウエハの表面と裏面の応力差により激しく湾曲したり（いわゆる、反りが大きくなり）、またウエハの強度が小さくなり、ウエハに傷や欠陥を誘発する可能性が高くなる。あるいは、最終のウエハ厚みが上記ほど薄くない場合であっても（たとえば、ウエハ厚み200〜400μm）、ウエハが大口径化した場合（たとえば、200mm以上）にも、ウエハが激しく湾曲したり、ウエハに傷や欠陥を誘発する可能性が高くなる。この結果、ウエハが極薄化した後は、ウエハの搬送やプロセスが非常に困難である。
【０００３】
上記の問題に対して、平板上より極薄ウエハの直径より僅かに大きい直径の半円弧状ガイドを起立させた収納棚の複数を、支柱を介して等間隔で上下に平行に並べた多段式収納カセットが提案されている（たとえば、特開2004-273867）。また、互いに嵌合して積層可能な収納容器の間に極薄ウエハをスペーサーシートで挟持して収納するものも提案されている（たとえば、特開2005-191419）。さらには、ウエハ裏面研削工程で用いたウエハ表面保護フィルムを付着させた状態で、ウエハ裏面研削工程の後に、ウエハ裏面にダイシングテープを貼合し、その後で前記ウエハ表面保護フィルムを剥離し、ダイシングすることが提案されている（たとえば、特開2002-246345号公報、特開2004-186296号公報）。
【０００４】
また、ウエハ裏面研削後のウエハは、たとえウエハ表面保護フィルムやダイシングテープが付着しウエハを支持していても、そのままでは平坦な状態を維持できないため、工程間搬送や工程内搬送を自動で行うことができず、大半はマニュアルで行っている。たとえば、ウエハ切断前後の外観検査も一枚一枚手動で搬送している。
【０００５】
【特許文献１】特開2004-273867
【特許文献２】特開2005-191419
【特許文献３】特開2002-246345号公報
【特許文献４】特開2004-186296号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、提案された収納カセットにおいては、開閉機構が大掛かりになる上に、常にウエハを平坦な状態で取り扱うことが困難である。この結果、容器の高価格化を招くと同時に、ウエハの変形によるマイクロクラックの発生や作業性の困難さなどが原因となるウエハの損傷が発生するという課題を有している。また、スペーサーシートを有する容器においては、消耗品であるスペーサーが必要となるために、ランニングコストが高くなり、地球に優しい構造となっていない。さらに、搬送時にウエハが動きやすい構造になっているために、搬送時にウエハを損傷し易いという問題もある。ウエハ裏面研削後にウエハ厚みが極薄になった場合、または／及びウエハが大口径の場合には、ウエハ裏面研削後にウエハ表面保護フィルムを剥離すると、ウエハが反ったり、破損しやすくなるという問題がある。
【０００７】
また、ウエハ裏面研削後にウエハ厚みが極薄になった場合、または／及びウエハが大口径の場合には、たとえウエハ表面保護フィルムが付着していても、ダイシングテープが付着していても、ウエハはフレキシビリティ（柔軟性）があり、ウエハ単独で平坦な状態を維持することは困難である。このため、ウエハ裏面研削後の工程を自動で搬送または処理することができず、人手が介在したり、ウエハに損傷を与える危険性が高いという問題がある。このため極めて高価なプロセスとなっている。
【０００８】
さらに、良品判定の電気特性検査は、ウエハの裏面研削前に行うため、ウエハ裏面研削後に変動した電気特性の変化を検出することができなかったり、不良化したチップを良品として製品に搭載してしまうという問題がある。これを防止する一つの方法として、ウエハ裏面研削前の検査では、ある程度厳しい検査をして、ウエハ裏面研削後に変動した電気特性の変化に対応しているが、歩留まりを落とす原因となり、コストアップの要因となっている。ウエハ裏面研削後に破壊したり、損傷を受けたウエハは、電気特性検査を全くする必要がないにも関わらず、ウエハ裏面検査前に電気特性検査をしなければならず、高価な半導体検査装置（テスター）を使うため、
これもコストアップの要因となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、微小な外力によって破損しやすい極薄ウエハを破損せずに出し入れすると同時に、搬送・処理することが可能な薄板収納（保持）容器を提供することを目的とする。
【００１０】
ウエハを真空吸着し固定できる薄板収納容器を用いる。薄板収納容器は真空吸着部を有していて、ウエハ裏面を真空吸着できるようになっている。真空吸着部は、ウエハを載置する吸着面、ウエハを真空吸着する吸着孔、真空を保持する減圧室、外部の真空引き装置に接続する吸引口、および吸引口と減圧室を結ぶ吸気孔を含む。吸引口には、外部と真空吸着部との接続を開閉する切替弁や逆止弁がついている。減圧室には支持隔壁が配置され、多数の部分室に分離されている。支持隔壁には連通孔があいている。薄板収納容器は、減圧室より上の部分（吸着板という）が、減圧室、吸気孔および吸引口を含む下の部分（薄板収納容器基板という）と分離できる。また、好適な薄板収納容器の構造は、薄板収納容器のウエハ載置部が周縁部に対して凹状になっている。さらには、吸着板の構造は、ウエハ吸着面側が弾性高分子材料であり、他方が一定の強度を有する高分子材料である、二層構造となっている。
【発明の効果】
【００１１】
薄板収納容器の吸引口が外部の真空引き装置に接続し、ウエハが薄板収納容器に載置されると、真空引き装置によって吸引口および吸気孔を通して、減圧室の空気が吸引され、さらに吸着口を通してウエハが吸着面に吸着される。ウエハが確実に吸着され、薄板収納容器に固定された後に、切替弁等が閉じられ、薄板収納容器の真空吸着部が真空に保持される。また、切替弁等が閉じられた後には、薄板収納容器は外部の真空引き装置と切り離される。ウエハは大気圧と真空吸着部との圧力差によって、薄板収納容器に固定され平坦状に保持されているので、薄板収納容器の搬送やプロセスなどにおいても、ウエハは薄板収納容器から動くことはない。また、ウエハを薄板収納容器に吸着した後は、ウエハが平坦な状態を維持できる。従って、ウエハが極薄になった後でも、搬送を自動化できる。
【００１２】
吸着板は薄板収納容器基板から分離できるため、吸着板が磨耗したりして使用困難になった場合には簡単に交換できる。減圧室には支持隔壁が設置されているので、吸着板を下から支持しているため、吸着板の変形が殆ど発生しない。従って、吸着板を薄くすることができる。繰り返しの真空引きにも変形が少ないためウエハの吸着が確実に行われるため、ウエハ吸着用の薄板収納容器としての信頼性も高い。減圧室は、支持隔壁により多数の部分室に分離されているが、連通孔があいているために、すべての部分室が真空に引かれる。部分室には吸着孔があいていて、その上に載置されるウエハを真空吸着する。多数の部分室が均等な面積になるように設計されているので、ウエハの吸着がウエハ内全面に渡り均等に行われる。指示隔壁がない場合には、減圧室の中でも最も先に真空引きされる吸引開口付近のウエハ吸着が急速に行われ、そこから遠い場所は真空引きが遅かったため、ウエハにかかる負担が大きくウエハ損傷の原因になっていたが、支持隔壁を設けることにより、ウエハの吸着がウエハ内全面に渡り均等に行われ、ウエハ損傷がかなり少なくなる。吸着板は取り外し可能であるから、薄板収納容器の内部まで洗浄できるようになった。加えて、支持隔壁も取り外し可能にすることにより、減圧室や吸気孔までも洗浄可能となった。この結果、汚染やパーティクル対策が充分行われ、薄板収納容器の寿命を飛躍的に長くすることができる。
【００１３】
また、薄板収納容器のウエハ載置部が周縁部に対して凹状になった薄板収納容器は、ウエハを吸着し搭載しても、何ら冶工具を使わずにそのまま薄板収納容器を積層できるという利点がある。また、ウエハを載置する時にウエハの端部が傾斜面にかかってもウエハが滑り載置部（ウエハ吸着面）に載置することができる。特にこの部分に潤滑性高分子材料を用いた場合には、この効果が顕著である。潤滑性高分子材料として、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）。ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等が挙げられる。尚、潤滑性材料と潤滑性高分子以外の材料とを一緒に用いた場合にも上記の効果がある。
【００１４】
吸着板を二層構造としたり、吸着板に弾性高分子材料からなる支持ネットを付着することにより、ウエハを載置したり真空吸着する時の衝撃が緩和され、ウエハの破損や損傷が殆ど起こらなくなる。減圧室に支持隔壁を設置しているので、弾性高分子材料を用いても吸着板を厚くしたりする必要もない。
【００１５】
以上のような効果があるので、本発明の薄板収納容器を用いることにより、たとえ、ウエハが極薄（たとえば、ウエハ厚み10〜200μm）であっても、または大口径（ウエハ厚みが200〜400μmで、ウエハ直径が200mm以上）であっても、ウエハが破損したりすることはない。
【００１６】
以上から、本発明の薄板収納容器を用いることにより、歩留まりの高いプロセスを構築できる。
【００１７】
以上の他にも、本発明は以下のような効果もある。
【００１８】
ウエハを吸着した薄板収納容器が工程中で滞留しても、工程間で清浄かつ安全にストックできるために、加工効率を向上させることができ、工程設計が容易になる。すなわち、ウエハの表面が他のものに接触しないように、ウエハ（収納容器）ケースに収納あるいは、ウエハが重ならないような収納容器を用いることにより、収納容器の上積み保管も可能となる。このことにより、工程間にウエハ（収納容器）やウエハ（収納容器）ケースをストックできるため、装置効率や処理効率を高めることができ、フレキシブル（柔軟）に工程設計が可能となる。
【００１９】
薄板収納容器等に、バーコードや、RFタグ（Radio Frequency Tag）のような無線タグなどの情報表示手段を取り付けることが容易となり、ウエハの枚葉管理ができ、的確かつ正確な処理をウエハに施すことができる。また、ウエハのトレーサビリティを向上させることが可能となる。
【００２０】
また、繰り返しになるが、工程間および工程内搬送や処理が自動化できるため、ウエハ（収納容器）検査や処理において、ウエハを破損することなく安全に行うことができ、加工歩留まりを向上させることができる。
【００２１】
薄板収納容器は洗浄することで繰り返し使用することが可能であり、消耗品を極力少なくし、環境にやさしく、安価な製造が可能となるという利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明において、ウエハとは主には半導体ウエハを指す。たとえば、半導体ウエハの材料は、シリコン(Si)やゲルマニウム(Ge)などの単元素半導体材料や、シリコンゲルマニム(SiGe)や砒化ガリウム(GaAs)やインジウムリン(InP)等の化合物半導体材料や、GaAlAs等の３元系以上の半導体材料である。しかし、これらにかかわらず、絶縁物の上に半導体デバイスを形成したものも含まれる。たとえば、ガラスや石英やプラスチックなどの上に薄膜デバイスを作成したもの、ガラスや石英やプラスチックなどの上に半導体材料を貼りあわせたものである。あるいは、金属の上に絶縁物・半導体材料を貼りあわせたものも含まれる。さらには、プラスチック等の高分子材料も含まれる。
【００２３】
半導体プロセスにおいて、ウエハの表面にトランジスタ等の能動素子、抵抗・コンデンサ・インダクタンス等の受動素子や配線・絶縁層等を形成し、半導体デバイスが作製される。本発明に適用される半導体デバイスとして、メモリ、CPU、システムIC、アナログIC、デジタルICなどがあるが、広義には単体の能動素子や受動素子も含まれる。すなわち、能動素子や受動素子を少なくとも１個以上含むものを表す。一般に半導体ウエハ上には、これらの半導体デバイスが多数形成され、個片（いわゆる、チップ）に切断された後に、用途に応じて種々の製品に搭載される。たとえば、半導体パッケージの場合には、リードフレームに搭載される。また回路基板に搭載され、携帯電話やICカードやPCなど種々の機器に用いられる場合もある。さらに、液晶や有機EL（エレクトロルミネッセンス）等の表示素子も含まれる。
【００２４】
近年の最終製品は超小型化を要求されるものが多く、その傾向は今後も益々進化していくと予想できる。従って、それらの最終製品に搭載されるチップは非常に薄い厚みのものであることを要求される。チップの厚みを薄くするには、その前段階であるウエハを薄くする必要がある。ウエハを薄くするには、ウエハ上にデバイスが形成された後に、ウエハ裏面加工研削を行う。
【００２５】
本発明は、通常の厚みのウエハ（薄板）にも適用できることは当然であるが、特に、ウエハ裏面研削等により、薄くなったウエハを搭載できる薄板収納容器に関する。本発明で記載する「薄板収納容器」とは、「ウエハ（薄板）を支持または保持可能で、ウエハ（薄板）を搭載した状態でウエハ（薄板）を搬送しプロセスを行うこと（いわゆる、ウエハ（薄板）を処理すること）ができるもの」である。従って、このようなものとして考えるならば、「ウエハ（薄板）支持トレイ」、「ウエハ（薄板）保持トレイ」、「ウエハ（薄板）支持容器」、あるいは「ウエハ（薄板）キャリヤ」と呼んでも良い。
【００２６】
裏面研削工程とは所望の厚みのウエハにするために、半導体デバイスが形成されているウエハ表面と反対側のウエハ裏面を研削し、ウエハを薄くする工程である。この工程では、ウエハ表面に形成されている半導体デバイスを保護するために、ウエハ表面に保護フィルムを貼合する。この保護フィルムとして、たとえばリンテック製E-seriesや三井化学製イクロステープがある。保護フィルムを貼合したウエハを裏面研削装置（いわゆる、バックグラインド装置）に配置し、砥粒を含んだ水を加えながら砥石でウエハ裏面を研削する。所望のウエハ厚みを得た時点で裏面研削を終了する。裏面研削は、一般に粗研削と仕上げ研削とからなる。粗研削は、粗い砥粒を用いて早くウエハ裏面を削る方法である。従って、ウエハ裏面には粗い研磨後に大きな歪や応力が残る。仕上げ研削は粗研削の後で行い、より細かい砥粒を用いて、前記の歪や応力を緩和する。しかし、歪や応力は完全には除去できないので、裏面加工歪除去を行う場合もある。
【００２７】
ウエハ裏面研削を行った後や裏面加工歪除去を行った後に、本発明である薄板収納容器を使用できる。すなわち、ウエハ表面保護フィルムを付着したままの状態で、本発明の薄板収納容器に載置する。薄板収納容器には真空吸着部があり、ウエハはその真空吸着部に載り、真空で吸着される。ウエハ裏面が真空吸着面となる。薄板収納容器に載置するまではウエハにはウエハ表面保護フィルムで支持されているが、ウエハ表面保護フィルムは柔らかいので、ウエハが極薄の場合（たとえば、１０〜２００μmの厚みのウエハ）、または／及びウエハが大口径化の場合（たとえば、ウエハ厚みが２００〜４００μmで、ウエハ直径が２００mm以上）には、ウエハ表面保護フィルムを付着したままのウエハでは、柔軟な状態となっていて平坦な状態を保つことはできない。従って、薄板収納容器にウエハを載せるまでは、自動搬送が困難であり、マニュアル搬送が望ましい。もちろん、手動搬送と同程度の配慮のされた自動搬送なら自動でも良い。薄板収納容器に載置した後は、薄板収納容器に吸着されているので、ウエハが反ることはなく、平坦な状態を維持できる。
【００２８】
本発明の薄板収納容器の第１の実施形態を図１に示す。図1(a)は、第１の実施形態の薄板収納容器１にウエハ１７を搭載した状態を示す。薄板収納容器１の上側面および下側面は平面状である。すなわち、薄板収納容器１は平板状である。
【００２９】
薄板収納容器１は、減圧室２、吸着孔３、吸着面４、吸気孔５及び吸引口６を含んでいる。減圧室２、吸着孔３、吸着面４、吸気孔５及び吸引口６を薄板収納容器１の真空吸着部と考えることができる。この実施形態においては、減圧室２の下側に吸気孔５との接続口である吸引開口１０があり、吸気孔５は薄板収納容器下側部分７の下方に伸び、中途で曲がり、薄板収納容器横側部分８で薄板収納容器の外部へ出ていて、吸気孔５は吸引口６で終端になっている。減圧室２は吸着面４の裏面である上側部分９と吸着収納容器の下方に位置する下側部分７とで主に囲まれて構成されてなる収納容器内部に配置している。薄板収納容器下側部分７とは、減圧室２を含む薄板収納容器の下側部分を指す。また、薄板収納容器横側部分８とは、上側部分９と下側部分７とで主に構成される減圧室２の内、減圧室の側面を構成して減圧室２を完全ならしめる部分を指す。薄板収納容器上側部分９とは、吸着面４の裏面であって減圧室２の一部を構成する部分を指す。
【００３０】
本発明の第１の実施形態では、図１(b)に示すように、薄板収納容器１を薄板収納容器下側部分７と薄板収納容器上側部分９に分離できるようになっている。すなわち、薄板収納容器下側部分７は、減圧室２、吸気孔５、吸引開口１０および吸引口６を含む平板状の部分である。これを本発明においては、薄板収納容器基板と呼ぶ。薄板収納容器上側部分９は、吸気孔３および吸着面４を含む平板状の部分である。これを本発明においては、吸着板と呼ぶ。第１の実施形態においては、吸着板は減圧室２の天井部分を構成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。本発明においては、薄板収納容器下側部分と薄板収納容器基板とは同じものを意味し、薄板収納容器上側部分と吸着板とは同じものを意味するので、同じ番号で示すことにする。
【００３１】
薄板収納容器基板７の減圧室は、図１(ｂ)に示すように、支持隔壁１１で仕切られている。支持隔壁の目的は、吸着板を支持する（下から支える）ことである。本発明に用いる薄板収納容器の吸着板は、高分子材料をベースとした薄い板状のものである。従って、中空の減圧室の上を覆う吸着板は自重で変形する可能性がある。特に大口径ウエハを載置する薄板収納容器では、その変形が顕著になる。さらに、ウエハを吸着する時に、減圧室を真空にひいた時に、吸着板が重力で押しつぶされ、大きな変形をする可能性もある。そうなれば、ウエハを吸着するという本来の目的を達成できない。これを防止するために、吸着板にある程度の強度を持たせることが考えられるが、吸着板が厚くなり、薄板収納容器全体が大型化する。この結果、取り扱いや自動プロセスに用いることが困難になる。その上、材料費がかかり、プロセスコストも増大する。また、仮に強度の大きい吸着板を作製できたとしても、繰り返しの真空引きにより磨耗したり変形したりして長期間の使用は困難である。そこで、本発明においては、減圧室に支持隔壁を設けることにより、より薄い軽量の吸着板を使用できるようにした。減圧室２は支持隔壁１１によって、完全に分離されているわけではなく、支持隔壁１１には、部分的に溝または孔があり（連通孔１２）、支持隔壁で仕切られた部分同士は、この連通孔１２によりつながっている。
【００３２】
図１(c)は、薄板収納容器基板７を上側から見た平面図である。この実施形態においては、支持隔壁１１が同心円状に配列している。また、同心円状の部分も細かく分離している。支持隔壁１１には、連通孔１２が存在していて、分離した部分室はつながっている。すべての部分室が連通孔等を通じてつながっていて、すべての部分室を真空引きできることが望ましい。この連通孔の目的は、減圧室の中を真空にするためである。また、真空になった後で、空気などを導入して、真空を破る時にも使われる。連通孔１２は、余り小さいと減圧室全体を真空にしたり、真空を破ったりするのに時間がかかるし、余り大きいと支持隔壁１１の強度が小さくなるので、適度な大きさにする必要がある。連通孔１２は、支持隔壁１１に空けられた孔や溝のほかに、減圧室２と支持隔壁１１との間、または吸着板９と支持隔壁１１との間に部分的な空間を設けても良い。ただしこれも、真空引き時間等や支持隔壁の強度等が問題にならない程度に設計する必要がある。また、各部分の連通孔の数も真空引き時間等や支持隔壁の強度等を考慮して設計する必要がある。支持隔壁１１は、吸着板が部分的または局部的に変形しないように、均等に配列することが望ましい。支持隔壁の数を増やしていけば、吸着板の変形に対しては望ましいが、真空引き時間が長くなったり、作製が困難となるため、最適化が望ましい。また、支持隔壁の幅も大きくしすぎると、吸着板の吸着孔を塞ぎウエハを部分的に吸着できない場合も出てくる。支持隔壁の幅も小さくしすぎると支持隔壁の強度が不十分となり、吸着板の変形が起こりやすくなる。従って、支持隔壁の最適化も重要である。第１の実施形態に用いた同心円状の支持隔壁１１は、より均等に吸着板９を支えることができるものである。しかし、同心円状に限られず、網目状の支持隔壁でも良い。
【００３３】
支持隔壁は、薄板収納容器基板７に固定している必要はなく、取り外しができるものでも良い。また、支持隔壁は吸着板の減圧室２側に形成されていても良い。吸着板９を取り外した時に、一緒に取り外して洗浄などもできる。薄板収納容器は真空吸着を繰り返しているので、パーティクル等の汚染物質を減圧室に蓄積する可能性もあるが、支持隔壁を取り外しできれば洗浄も容易である。但し、減圧室に適合するように作製する必要がある。そうでなければ、吸着板９を充分に支持できなくなる。
【００３４】
また、できるだけ均等に吸着板９の吸着孔が存在することが望ましい。支持隔壁で仕切られた各部分には、少なくとも一つ以上の吸着孔を配置することが望ましい。それにより、ウエハの吸着が充分にかつ均等になるようにすることが可能となる。支持隔壁がない場合には、吸着板の各吸着孔のウエハを吸引する力を均等にすることが困難であるが、支持隔壁を設けて部分室に分けることにより、ウエハの真空引きを均等に行うことができる。
【００３５】
支持隔壁は、吸着板を支えているので一定程度の強度が必要である。そのような材料として、たとえば、熱可塑性エラストマーやフッ素樹脂等の弾性高分子材料が挙げられる。
【００３６】
熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰＥ（ポリフェニレンエーテル）、ＰＵＥ（ポリウレタンエラストマー）等がある。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。また、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料も使用できる。尚、上記の高分子材料は単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００３７】
図１に示すように、薄板収納容器基板７にはシール材１８が減圧室周囲を取り巻いている。シール材１８は、薄板収納容器基板７のシール材保持溝（図に示されていない）に入っている。吸着板９が薄板収納容器基板７と結合した時に、シール材１８は吸着板９のシール材受け溝１４に入る。このシール部（シール材１８、シール材受け溝１４およびシール保持溝を含む）の役割は、減圧室の真空度を保持することである。薄板収納容器には、薄板収納容器基板７と吸着板９とを結合する結合部がついている。第１の実施形態においては、薄板収納容器基板７側にフック１５が、吸着板９にはフック受け溝１６がついている。図１(ｃ)および図１(d)に示すように、フック１５とフック受け溝１６の位置は、対応している。これらの結合部を設けることにより、薄板収納容器基板７と吸着板９を確実に結合できる。
【００３８】
ウエハの吸着方法について、図１(a)に基づいて説明する。吸引口６は真空引き装置に接続されている（図には示されていない）。ウエハ１７が薄板収納容器１の吸着面４に載置される。裏面研削後に厚みが極薄化したウエハは一般には反っているので、ウエハ１７が真空に引かれる前には、平坦な面である薄板収納容器１の吸着面４とウエハ１７との間には隙間があいている。真空引き装置によって真空引きされると、吸引口６において真空引き装置に接続した吸気孔５を通って、吸引開口１０で吸気孔５と連結した減圧室２が真空引きされる。減圧室は、支持隔壁１１によって多数の部分室に分けられているが、連通孔１２を通じて各部分室が真空に引かれていく。さらに、減圧室２と吸着面４とを連結した吸着孔３を通ってウエハ１７が真空に引かれ、隙間がなくなってウエハ１７が薄板収納容器１の吸着面４にしっかりと吸着される。薄板収納容器１の吸着面４において、吸着孔３はウエハが載置および吸着される場所以外の場所には存在しないように配置されている。また、吸着孔３は図１(ｅ)に示すように、ウエハの載置および吸着される場所に多数存在している。吸着孔の大きさと数は、ウエハが吸着され固定されるために充分な程度に設計される。好ましくは、吸着孔３の大きさは、直径が０．５mm以上である。０．５mm未満の大きさの吸着孔では、吸着孔の数にもよるが、真空引きに時間がかかるととともに、十分にウエハ１１が吸着されない場合がある。また、０．５mm未満の大きさの吸着孔では、異物で塞がる場合もある。吸着孔の大きさの最大値は、ウエハサイズ、ウエハの厚み、ウエハの反り量あるいはウエハ吸着面の粗さによって変化する。しかし、一般にウエハ厚みが極薄の場合には、５０mmを越える大きさの吸着孔３では真空引きのスピードが速すぎて、ウエハが破損する可能性もある。また、ウエハ側の吸着面の微小な凹凸により真空がリークしやすくなる場合もある。吸着孔３の大きさは、そろっている必要はない。たとえば、中心の吸着孔３のサイズを大きくし、周辺側に向かう吸着孔３のサイズを徐々に小さくすると、ウエハの吸着が好ましい場合がある。一般にウエハの中心付近は反り量が大きく、周辺は反り量が小さい場合が多いからである。ウエハ１７上に形成される個々のチップの下にのみ吸着孔３を配置し、ウエハ１７上のスクライブラインにあたる位置には吸着孔を配置しないことが効果的な場合もある。たとえば、スクライブライン上をダイシングした後にも、個々のチップを確実に吸着する場合である。このような場合には、薄板収納容器をチップの大きさや配置によって変更することが必要となる。薄板収納容器には、容易に情報表示手段を取り付けることができるので、薄板収納容器をウエハ毎に変更することは、工程管理上も特に問題なく可能である。また、図１に示されるように、吸気孔５の１部および吸引口６は薄板収納容器の外側に出ている。
【００３９】
吸気孔５または吸引口６には切替弁あるいは逆止弁が付いていて（図示されていない）、薄板収納容器１の真空吸着部が真空になりウエハを完全に吸着した後で、それらの弁を閉じると真空が保持されるようになっている。従って、真空が保持された後には、真空引き装置を薄板収納容器の吸引口６から取り外しても、ウエハ１７は薄板収納容器１に確実に吸着されていて、その後に薄板収納容器１を使用して搬送やプロセスを行っても、ウエハ１７は、薄板収納容器１から離脱したり、薄板収納容器１の吸着面４上で動くことはない。尚、切替弁や逆止弁の他にも、真空を保持できるような方法であれば、本発明の薄板収納容器に適用できる。たとえば、吸引口６に蓋をする方法や吸引口６に栓をする方法が挙げられる。切替弁等の開閉や、蓋や栓をすることは、自動化も可能である。
【００４０】
図２は、第１の実施形態における薄板収納容器２つを、その裏面同士を結合させたものである。結合の方法として、第１の実施形態における薄板収納容器の裏面にフック部等の結合手段を付ける方法や、単純に両者をクランプする方法もある。あるいは、製造時に一体ものとして作ることもできる。ウエハ３０は、吸着面２４Ａおよび２４Ｂに真空吸着されて固定されているので、一方の面が下向きや横向きになってもウエハ３０が薄板収納容器から離れたり、動いたりすることはない。第１の実施形態の薄板収納容器はこのような使用も可能なので、薄板収納容器の小型化や薄板収納容器ケース（容器）の小型化ができ、搬送装置の小型化やプロセス装置の小型化も容易に可能となる。
【００４１】
図３は、本発明の第２の実施形態を示す図である。
【００４２】
図３(a)は横方向断面図、図３(b)は平面図である。図１に示す場合と異なるのは、ウエハを載置する場所（ウエハ載置部またはウエハ吸着面３４）が周辺に比較し凹状になっていることである。尚、ウエハ吸着面３４はもちろん平坦な形状である。ウエハの載置部３４には、図３(b)に示すように、吸着孔３３が多数存在し、ウエハ３７を確実に吸着できるようになっている。図３(b)の吸着孔は小さな円形で示しているが、他の形状、たとえば四角形や楕円形や三角形やそれらに類似した形状でも良い。あるいは、それらの組合わせでも良い。あるいは、ウエハ３７を吸着できるその他の形状でも良い。ウエハ３７を平坦状に維持でき、かつ確実に固定できる程度に吸着孔の数と形状と大きさを選択することができる。尚、吸着孔３３はウエハ搭載位置の範囲内にあることが必要であることは、図１に示す薄板収納容器と同様である。
【００４３】
図３に示す薄板収納容器３１の周辺部から載置部（吸着面）３４への傾斜は、図３の傾斜面３８で示されるように、テーパー状になっている。ウエハ３７が薄板収納容器３１の載置部３４に置かれる時に、多少位置ずれしてウエハの端が傾斜面３８にかかっても、ウエハ３７は傾斜面３８から滑って載置部３４に載置される。すなわち、図１の場合の薄板収納容器に比較し、ウエハ３７の載置場所が安定化するという利点がある。また、ウエハの破損を防止するという利点もある。薄板収納容器３１の周縁部３９はある程度平坦となっている。周縁部３９の高さが、ウエハを載置部３４に吸着した場合のウエハ３７の表面（最上面）の高さよりも高くしておくことにより、薄板収納容器３１を重ねて積層しても、ウエハ３７への接触がないという利点もある。周縁平坦部３９の面積は、積み重ねても安定する程度の面積を確保する必要がある。従って、この場合は、特別のウエハ（薄板収納容器）ケースを使う必要がない。
【００４４】
しかし、薄板収納容器を結合したければ、周縁部３９に図１と同様なフック部などの結合手段を取り付ければ良い。薄板収納容器の結合により、一括で薄板収納容器を移動したり、プロセスができるという利点がある。また、周縁部３９にシール部も取り付ければ、薄板収納容器に囲まれた領域である薄板収納容器の凹状部にあるウエハは、外部環境から隔離されるので、外部環境からの汚染やクリーン度の異常などの影響を受けないという利点もある。
【００４５】
図３に示す薄板収納容器３１の吸気孔３５および吸引口３６のタイプは、図１に示した薄板収納容器１の吸気孔５および吸引口６のタイプと少し異なっている。
図１に示す薄板収納容器１の吸気孔５は、薄板収納容器下側部分７の下方に伸びていたが、図３に示す薄板収納容器３１においては、吸気孔３５は減圧室３２の横側部分４０に伸び、そのまま外部に出ている。このような構造になっている場合には、薄板収納容器の下部分を薄くできるため、薄板収納容器３１を薄くすることが可能となる。薄板収納容器ケースに薄板収納容器３１を収納する場合には、薄板収納容器ケースも小さくすることができる。
【００４６】
尚、薄板収納容器３１のような薄板収納容器を積み重ねができるような薄板収納容器の場合には、薄板収納容器３１の裏にもウエハを吸着し載置可能である。この表裏一体の収納容器においては、下向きになるウエハも存在するが、薄板収納容器の吸着面にウエハが確実に吸着されているので、ウエハが落下することはない。
【００４７】
さらに、傾斜面が垂直に近い段差を有するものでも良い。ウエハの位置ずれに対しては余裕度が小さいが、精度良くウエハを載置部（吸着部）に載置できれば特に問題が発生することもない。本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、さらに本発明の支持隔壁１０１および連通孔１０２を減圧室３２の内部に持つ。その働きは、第１の実施形態と同様である。なお、図３においては薄板収納容器３１の裏面形状は平坦になっているが、薄板収納容器３１の表面形状と裏面形状とを略相似にすることによって、2枚の薄板収納容器を互いに積層するときに、収納する薄板を上下からしっかりと押えて固定することができる。このようにして薄板を固定した後は、薄板を吸着するための真空引きは解除することができる。また、このとき、薄板収納容器３１の裏面にも、吸着面３４の形状に対応した領域に上記の弾性材料を配しておくのが好ましい。
【００４８】
本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、上記にて説明したように大きなメリットを有するが、本発明の一つである吸着板はさらにその効果を増大できる。第１の実施形態において説明したように、吸着板は減圧室３２の天井部分を構成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。また、吸着板の天井部分は、支持隔壁と共に減圧室３２を分割して（連通孔等を通して）連通した複数の部分室を形成する。減圧室３２と天井部分を分離する方法について、幾つかの実施形態について、以下に説明する。尚、下記に示した以外にも、吸着板の底面を球面状にする場合、底面を凹凸状に分離する場合など多くの形態もある。あるいは、減圧室３２の中途で分離する方法、減圧室３２を吸着板側に含める方法などもあり、どれも実用的である。また、上記は第１の実施形態にも適用できる。
【００４９】
図４に基づいて、本発明の第３の実施形態を説明する。
【００５０】
図４に示す吸着板４９は、図３に示す第２の実施形態における減圧室の天井から上側部分を平面状に切ったものである。減圧室４２は、支持隔壁１１１で仕切られていて、支持隔壁１１１で分離された部分（部分室）は支持隔壁１１１にあけられた連通孔１１２でつながっている。減圧室４２の周囲をシール材１１８が囲んでいる。これに対応して、シール受け溝１１３が吸着板４９側に取り付いている。吸着板４９と薄板収納容器基板４７との結合機構の結合部として、フック１１５が薄板収納容器基板４７側に、フック受け溝１１６が吸着板４９側についている。（尚、これらは、逆側に取り付いていても、第１の実施形態と同様に目的を達成できることは自明である。）第３の実施形態の吸着板は、薄板収納容器基板４７に合わせて押すだけで簡単に結合できる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５１】
図５に基づいて、本発明の第４の実施形態を説明する。
【００５２】
図５に示す吸着板５９は、横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形形状のものである。減圧室５２の上側部分がそのまま吸着板５９となっている。吸着板５９の傾斜面５８Ａおよび薄板収納容器基板５７の傾斜面５８Ｂに結合部（フック１２５、フック受け溝１２６）やシール部（シール材１２８、シール受け溝１２４）が付いている。吸着板５９を薄板収納容器基板５７の凹部へ押し込むことにより、吸着板５９と薄板収納容器基板５７とを結合することができる。第４の実施形態の吸着板は、薄板収納容器基板５７の傾斜面５８に合わせて押すだけで簡単にセットできる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５３】
図６に基づいて、本発明の第５の実施形態を説明する。
【００５４】
図６も図５と同じく、吸着板６９は横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形形状のものである。しかし、第５の実施形態の吸着板６９は、凹状部の平坦部に結合部（フック１３５、フック受け溝１３６）やシール部（シール材１３８、シール保持溝、シール受け溝１３４）が付いている。減圧室６２は、凹状部全体より小さくなっていて、吸着板６９は、凹状部の平坦部で支えられる。従って、第5の実施形態の吸着板６９は、薄板収納容器基板６７の凹状部に載せて押すだけで簡単にセットできる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５５】
図７は、吸着板の構造に関する本発明の第６の実施形態を示す図である。吸着板は、ウエハを載置する場所であり、またウエハを真空吸着する場所であるから、一定程度の強度が必要で、また繰り返し使用できるような耐久性も必要である。一方、ウエハは、シリコンやガラス等のもろい材料で作られているので、吸着板はウエハを損傷させない柔軟性も要求される。このような相反するような要求に対して本発明の第６の実施形態が有用である。
【００５６】
本発明の第６の実施形態における吸着板７１は、吸着基板７２と吸着シート７５との２層の構造になっている。ウエハに直接接触する吸着面７４の側に吸着シート７５がある。吸着シート７５は、主に弾性材料からなり、ウエハが載置してもウエハに衝撃を与えないレベルの弾性を有する。このような材料としては、弾性高分子材料があり、弾性高分子材料として、熱可塑性エラストマーや発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰＥ（ポリフェニレンエーテル）、ＰＵＥ等がある。発泡高分子として、発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、発泡ＰＥ（ポリエチレン）発泡ＰＵ（ポリウレタン）や発泡ＰＳ（ポリスチレン）等が挙げられる。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。さらに、ウエハを滑らせて最適位置にウエハを載置するために、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）やＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）等の潤滑性高分子も使用できる。吸着基板７２は、繰り返しの真空引き等に対して耐久性と強度を有する材料である。この吸着基板に用いられる材料として、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料が挙げられる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００５７】
吸着板には、吸着孔があいているので、その作製方法としては、吸着シートと吸着基板を貼りあわせたものを型抜きする方法や二色成形法で形成する方法がある。また、最初から吸着孔をあけたものを貼り合せる方法などもある。吸着シートと吸着基板との貼り合せる方法には、融着法や溶接法を用いたりする方法や、特殊な接着剤を用いる接着法などがある。以上のように、吸着板の構造を2層構造にすることにより、第６の実施形態における吸着板は、所定の強度を有しながら、ウエハに対して損傷も与えない特性を有する。
【００５８】
尚、ウエハを損傷しないように充分注意をしてプロセスを行う場合には、吸着シートを付けないで１層の吸着板で充分である場合もある。１層の吸着板の時には、上述の高分子材料を含む材料で構成すれば良い。たとえば、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料である。また、吸着板の厚みや構造を最適化することにより、弾性高分子材料も使用できる。弾性高分子材料として、熱可塑性エラストマーや発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレートエラストマー）、ＰＰＥ（ポリプロピレンエラストマ−）、ＰＵＥ（ポリウレタンエラストマー）等がある。発泡高分子として、発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、発泡ＰＥ（ポリエチレン）発泡ＰＵ（ポリウレタン）や発泡ＰＳ（ポリスチレン）等が挙げられる。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００５９】
図８は、吸着板の構造に関する本発明の第６の実施形態を示す図である。吸着板８１に支持ネット８２を付着させた構造である。図８(a)は、横方向断面図、図８(b)は、平面図である。支持ネット８２は、網目状構造またはすのこ状構造または碁盤の目状構造等になっている。支持ネット８２で仕切られた領域でウエハが載置される領域には、吸着板８１に設けられた吸着孔８３が存在し、吸着孔８３を通して、ウエハが真空に引かれウエハは支持ネット８２上に吸着される。支持ネット８２の網目状等の構造は、余り大きいと、ウエハの周辺を吸着できないとか、網目状等の空間でウエハの載置していない周辺の領域が存在して、吸着孔が外気とつながって、真空吸着が充分行われないという問題が発生するので、適度に小さな網目状等構造にする必要がある。
【００６０】
この支持ネットの目的も第５の実施形態と同じで、ウエハに衝撃を与えずにウエハを吸着板に吸着させることである。従って、支持ネットの材料も弾性材料が望ましい。しかも繰り返し使用もできるものが望ましい。たとえば、ＰＥＥ、ＰＢＴＥ、ＰＢＮＥ、ＰＰＥまたはＰＵＥ等の熱可塑性エラストマー、或いは、発泡ＰＥＴ、発泡ＰＥ、発泡ＰＵまたは発泡ＰＳ等の発泡高分子、或いは、ＰＴＦＥやＰＦＡ等のフッ素樹脂、或いはＰＰなどである。これらの高分子材料は、柔軟性があり、また耐久性も有している。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【実施例】
【００６１】
図９に本発明の実施例を示す。この薄板収納容器９１は吸着面９４を有する吸着板９９が取り外しできるようになっている。吸着面９４上に多数の吸着孔９３が存在する。減圧室９２には支持隔壁１０３が同心円状の網目構造に配置している。外部の真空装置と吸着口９６を接続して、吸気孔９５および減圧室９２とつながった吸引開口９７から減圧室９２が真空引きされる。支持隔壁１０３には連通孔１００があいていて、支持隔壁１０３で仕切られた部分室は真空が引かれるようになっている。吸着板９９は、支持隔壁１０３に支えられているので、一定程度の強度があれば、真空引きによって変形することはない。
【００６２】
この吸着孔９３はウエハ上の個々のチップに対応するように配置することもできるので、ダイシング工程でウエハがチップ毎に完全に切断されてもチップが個々に吸着面に吸着される。吸着板９９は、薄板収納容器９１にシール部９８で連結されるようになっている。デバイスが変わり、ウエハ内のチップ位置が異なる場合は、そのチップ位置に合わせた吸着板に変更することができる。吸着板が薄板収納容器基板１０４と連結すると、支持隔壁１０３に支持されるようになっている。吸着板９９や薄板収納容器９１に情報表示手段を取り付ければデバイスや吸着板や薄板収納容器の管理も容易になる。このような薄板収納容器９１を使用することにより、種々のデバイスについて、ウエハ切断後に電気特性検査や外観検査などを行うことも可能となる。
【００６３】
ウエハ裏面研削を行い、極薄化したウエハについては、ウエハ表面保護用フィルムをウエハに付着した状態で薄板収納容器に載置した方が、ウエハの反りの影響が少ないこととウエハの破損を少なくできることから、望ましい場合が多い。
【００６４】
本発明の薄板収納容器をウエハ切断工程に用いる方法について説明する。
【００６５】
ウエハ切断方法として、ダイシングブレードを用いたダイシング装置（いわゆる、ダイサー）を用いる方法がある。これは、薄板収納容器上に載置されたウエハを所望の大きさにダイシングブレードで切断する方法である。一般にウエハ上にパターン形成されたスクライブラインに沿って切断する。ウエハの厚みや、ウエハの材質、ウエハ上に形成された薄膜等に応じてダイシングの条件を変化させてウエハ切断（ダイシング）を行う。また、ダイシングをするウエハの量によって、フルカット、セミフルカット及びハーフカット等の方法がある。しかし、主には、フルカット法にてダイシングを行う。
【００６６】
フルカットとは、ウエハを完全に切断する方法である。従って、切込みが薄板収納容器側に入る。また、セミフルカットとはウエハ厚み量程度を切断する方法であり、ウエハはほぼ完全に切断されるが、できるだけ切込みを薄板収納容器側に入れないようにする方法である。フルカットでは、薄板収納容器側にダイシングの切込みが入り、傷がつくので、薄板収納容器を繰り返し使うことが困難である場合が多い。薄板収納容器も比較的高価であるため、ダイシング時に薄板収納容器に傷が入らないようにし、薄板収納容器を繰り返し使用することが望ましい。
【００６７】
フルカットを用いて完全にウエハを切断しながら、薄板収納容器に損傷を与えない方法として、ダイシングテープを用いる方法がある。これは、薄板収納容器吸着前に、ウエハ表面保護フィルムが付着したウエハの裏面にダイシングテープを付着させ、その後で薄板収納容器に載置し吸着する方法である。ウエハ表面保護フィルムは薄板収納容器に吸着した後で剥離する。あるいは、ダイシングテープを付着させた後に、薄板収納容器吸着工程に入る前に、ウエハ表面保護フィルムを剥離しても良い。ウエハ表面保護フィルムを剥離した場合でも、薄板収納容器やダイシングテープがウエハを支持しているので、たとえウエハが極薄でも、または／及びウエハが大口径であっても、ウエハが反ることはなくウエハを平坦な状態でプロセスできる。フルカットの場合、切断部はウエハを完全に分離し、しかもダイシングテープにも切込みが入る。しかし、薄板収納容器には切込みは入らず、薄板収納容器は損傷しないので、薄板収納容器を繰返し使用できる。
【００６８】
本発明の薄板収納容器はウエハ切断工程後にチップ移載工程にも適用可能である。すなわち、薄板収納容器に吸着されたウエハを所望のサイズのチップに切断した後で、チップをピックアップして所定の場所に移載することができる。所定の場所とは、チップのその後の使用方法によって異なる。たとえば、ＩＣパッケージの場合には、リードフレームやＣＯＢ基板上に搭載する。チップトレイに移載する場合もある。回路基板上に移載する場合もある。
【００６９】
チップのピックアップはたとえばコレットをチップにあて真空吸引して行う。チップをピックアップする前に、薄板収納容器側の真空を破るか、真空度を少し弱めるかすることが好ましい場合がある。一般には、ピックアップ時にウエハ表面から真空吸着するが、このピックアップ側の真空度が、薄板収納容器の真空度より強ければ、チップはピックアップできる。しかし、ピックアップ側の真空度が強すぎると、ピックアップ後に、チップに大気圧と真空度との圧力差による力がチップに加わるので、チップにダメッジが入る場合もある。そのような恐れのある場合（チップ厚みが薄い場合や、チップサイズが大きい場合など）には、チップをピックアップする前に、真空を破るか、真空度を少し弱めるかすることが好ましい。
【００７０】
また、チップの下に吸着孔がある場合などには、チップをピックアップ後などに、切替弁や逆止弁を用いて減圧室９２の真空を保持している場合は、真空が破れる可能性があるので、ピックアップ時に薄板収納容器の真空部分を真空に引く必要がある場合もある。このように薄板収納容器の真空部分を真空に引くことにより、一部のチップをピックアップ後もチップは薄板収納容器側に引かれるので、真空が破れたりすることによるチップの位置ずれ等の問題も発生しない。また、ピックアップ装置側や移載側等に位置ずれ補正が装備されている場合には、真空が破れることによる問題の発生は少ない。
【００７１】
前述のダイシングテープを用いてウエハを吸着する場合も、たとえフルカット法を用いても、ダイシングテープは深さ方向には完全に切断されていないので、チップのピックアップによる薄板収納容器の真空が破れるという問題は発生しない。
【００７２】
以上説明したように、チップ移載においても本発明の薄板収納容器を用いているので、チップ移載工程の自動化もできるし、ウエハ切断工程の自動化およびウエハ切断からチップ移載工程との工程間の連結も自動（たとえば、自動移送）化が可能となる。
【００７３】
ダイシングテープとチップの密着性を減少させるために、チップを移載する前に、UV照射を行うこともできる。UV照射はダイシングテープの糊残り対策として有効である。本発明の薄板収納容器を用いて、UV照射も可能であるから、ＵＶ照射工程の自動化はもちろん、その前後工程との工程間の連結も自動（たとえば、自動移送）化が可能である。
【００７４】
ウエハ表面に形成されたデバイスの最終電気特性検査は、ウエハ切断前に行うことが望ましい。さらに望ましくは、ウエハ切断後、チップ移載前に行うことがさらに望ましい。何故ならウエハの電気特性は前の工程の影響を受けるからである。しかし、ウエハ裏面研削後において、ウエハが２００μm以下の厚みになった場合、またはウエハ厚みが２００〜４００μmでもウエハ径が２００mm以上（たとえば、２００〜１０００mm）と大口径になった場合には、ウエハの反りが大きくなったり、強度不足によるウエハ損傷の恐れがあるために、従来は、ウエハ裏面研削後はウエハの電気特性検査を行うことが困難であった。しかし、本発明の薄板収納容器を用いることにより、ウエハ切断前に電気特性検査を行うことが可能となる。すなわち、薄板収納容器にウエハを吸着した状態で、電気特性検査を行うことができる。しかも自動化にも対応できる。たとえば、薄板収納容器を薄板収納容器ケースに複数枚セットしておけば、あるいは、積み重ねの可能な薄板収納容器を使えば、複数枚の薄板収納容器を重ねてテスターにセットしておけば、やはり電気特性検査装置（テスターなど）で自動的に処理可能である。
【００７５】
さらに、本発明の薄板収納容器を用いれば、ウエハ切断後にも電気特性検査を行うことができる。すなわち、ウエハ切断後にもチップとして薄板収納容器に吸着させることも可能であるから、電気特性検査が可能となる。たとえば、ウエハのチップ配列に合わせて、吸着孔を配置しておけばよい。ウエハのチップ配列に合わせた薄板収納容器をデバイス毎に用意しておけば良い。あるいはウエハのチップ配列に合わせた吸着板を用意して、デバイス毎に吸着板を変更するということもできる。このことにより、ウエハが切断場所（いわゆる、スクライブライン）に沿って完全に切断されたとしても、チップはチップ毎に配列した吸着孔によって吸着されているので、切断後もチップ位置が変化することはない。また、ダイシングテープに付着したウエハを薄板収納容器に吸着させ、かつダイシングテープの内部で切込み部を留めておけば、ウエハを切断してもダイシングテープは薄板収納容器に吸着されており、薄板収納容器の真空は破られないから切断後のチップは固定されていて、チップの電気特性検査を行うことが可能となる。また、ハーフカット方式を用いれば、ウエハ切断後も薄板収納容器の真空は破られないので、ウエハ（チップ）の電気特性検査を行うことが可能となる。尚、ダイシングテープがあった場合でも、ハーフカット方式の場合でも、ウエハのチップ配列に合わせた吸着孔があれば、ウエハ切断後にもチップの位置ずれが少ない場合もあり、安全性が高いということが言える。
【００７６】
薄板収納容器には、バーコードやRFタグのような無線タグなどの情報表示手段を取り付けることができる。たとえば、薄板収納容器の側面や底面などに取り付けることができる。また、図３で示すような周辺部が高くなっている収納容器では、周辺部のウエハが載置されない平坦な場所にも取り付けることができるし、テーパー部にも取り付けることが可能である。さらに、図１に示すような上面が平坦な収納容器でも、ウエハの周辺または、ウエハのファセットの外側部分などウエハが載置されない場所にも取り付けることができる。最近の情報表示手段は非常に小さくなっているので、少しのスペースがあれば取付けが可能である。これらの表示手段を取り付けることにより、種々のプロセス情報を書き込んだり、読み込んだりできる。その情報に従って、プロセスの条件を変更することも可能となる。収納容器毎に情報表示手段を取り付けることができるので、ウエハの枚葉管理もできる。従って、種々のデバイスを混在して流動が可能となる。たとえば、本発明の薄板収納容器を用いると、ダイシング工程においても、ウエハ１枚ごとに、ダイシングの条件を変更可能である。また、電気特性検査においても、１枚ごとに異なったデバイスの検査が可能となる。さらに、１枚のウエハ内のチップ毎に検査条件の変更も可能である。加工処理能力の異なる場合などによりウエハが工程間で滞留しても、１枚ごとに誤りなく情報を把握できる。また、情報を保管することも容易となるので、薄板収納容器を使用してプロセスを行ったウエハについては、トレーサビリティも高くなり、信頼性の高い製品を作製できる。
【００７７】
また、本発明の薄板収納容器は収納容器ケースに収納もできるし、クリーンボックスなどにも保管できる。また、積み重ねが可能な薄板収納容器の場合には、単純積み重ねも可能なので、スペースを最小化もできる。従って、工程内および工程間に清浄かつ安全に、または／及び大量にストックでき、工程設計が容易になる。
【００７８】
さらに、極薄ウエハまたは／及び大口径ウエハでは工程間搬送時に破損しやすいという問題を防止するために、ウエハを積層する時に各ウエハの間に消耗品である層間紙を挿入していたが、本発明の薄板収納容器を使用する場合は、このような層間紙は不要となり、これもコストダウンにつながるという利点もある。
【００７９】
これまでも説明したように、薄板収納容器にウエハを吸着後は、薄板収納容器の自動搬送が可能となるので、薄板収納容器吸着工程に続けて、ウエハ切断工程に、さらにチップ移載工程へと工程間搬送が自動で可能となる。従って、これらの一貫ラインを構築できる。さらに、これらの工程の間にウエハ電気特性検査工程やウエハ外観検査工程が入っても、同様に一貫した自動化ラインを構築でき、非常にコストの安い製造ラインを作ることが可能となる。また、薄板収納容器に情報表示手段を容易に付置できるので、ウエハの枚葉管理ができ自由度の高い製造ラインを作ることが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明は、半導体プロセスにおけるウエハ裏面研削工程以降ウエハのプロセスや搬送工程において、利用することができる。特に、極薄ウエハや極薄チップや大口径ウエハを用いる半導体産業において、利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１（ａ）】図１(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｂ）】図１(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｃ）】図１(c)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｄ）】図１(d)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｅ）】図１(e)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図２】図２は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態の応用を示す図である。
【図３（ａ）】図３(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第２の実施形態を示す図である。
【図３（ｂ）】図３(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第２の実施形態を示す図である。
【図４】図４は、本発明の薄板収納容器に係る第３の実施形態を示す図である。
【図５】図５は、本発明の薄板収納容器に係る第４の実施形態を示す図である。
【図６】図６は、本発明の薄板収納容器に係る第５の実施形態を示す図である。
【図７（ａ）】図７(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第６の実施形態を示す図である。
【図７（ｂ）】図７(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第６の実施形態を示す図である。
【図８（ａ）】図８(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第７の実施形態を示す図である。
【図８（ｂ）】図８(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第７の実施形態を示す図である。
【図９】図９は、本発明の薄板収納容器に係る実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００８２】
１・・・薄板収納容器、２・・・減圧室、３・・・吸着孔、４・・・吸着面、
５・・・吸気孔、６・・吸引口、７・・薄板収納容器下側部分（薄板収納容器基板）、
８・・薄板収納容器横側部分、９・・薄板収納容器上側部分（吸着板）、
１０・・吸引開口、１１・・支持隔壁、１２・・連通孔、１４・・・シール材受け溝、
１５・・・フック、１６・・・フック受け溝、１７・・・ウエハ、１８・・・シール材、
２４A・・・吸着面、２４B・・・吸着面、２７A・・・薄板収納容器基板、
２７B・・薄板収納容器基板、２９A・・吸着板、２９B・・・吸着板、３０・・・ウエハ
３１・・・薄板収納容器、３２・・・減圧室、３３・・・吸着孔、３４・・・吸着面、
３５・・吸気孔、３６・・吸引口、３７・・ウエハ、３８・・傾斜面、３９・・周縁部、
４０・・・（薄板収納容器）横側部分、４２・・・減圧室、４３・・・吸着孔、
４４・・・吸着面、４５・・・吸気孔、４６・・・吸引口、４７・・・薄板収納容器基板、
４９・・吸着板、５２・・・減圧室、５３・・・吸着孔、５４・・・吸着面、
５５・・・吸気孔、５６・・・吸引口、５７・・・薄板収納容器基板、
５８A・・・傾斜面、５８B・・・傾斜面、５９・・・吸着板、６７・・薄板収納容器基板、
６９・・・吸着板、７１・・・吸着板、７２・・・吸着基板、７３・・・吸着孔、
７４・・・吸着面、７５・・・吸着シート、８１・・吸着板、８２・・支持ネット、
８３・・吸着孔、９１・・・薄板収納容器、９２・・・減圧室、９３・・・吸着孔、
９４・・・吸着面、９５・・・吸気孔、９６・・・吸引口、９７・・・吸引開口、
９８・・・シール材、９９・・・吸着板、１００・・・連通孔（溝）、
１０１・・・支持隔壁、１０２・・・連通孔、１０３・・・支持隔壁、
１０４・・・薄板収納容器基板、１１１・・・支持隔壁、１１２・・連通孔、
１１３・・・シール受け溝、１１５・・・１１６・・・フック受け溝、
１１８・・・シール材、１２１・・・支持隔壁、１２２・・・連通孔、
１２４・・・シール受け溝、１２５・・・フック、１２６・・・フック受け溝、
１２８・・・シール材、１３４・・・シール受け溝、１３５・・・フック、
１３６・・・フック受け溝、１３８・・・シール材、
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体用ウエハを搭載する薄板収納容器に関する。特に極薄化したウエハを安全に確実に搭載する薄板収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体用ウエハの一方の面（以下、表面）に、トランジスタ、不純物拡散層および導電体層等の素子を形成した後で、ウエハの裏面を研削しウエハ厚みを所望の厚みに加工することが一般に行われている。この加工の後で、所望の形状（大きさ）にダイシングされ、半導体チップ加工される。このチップが半導体パッケージや、回路基板等に搭載される。この半導体パッケージや回路基板等に、極めて薄いものが要求されてきていて、その場合には最終のウエハ厚みを極薄化する必要がある。半導体素子形成時における初期のウエハの厚みは、300〜1000μmであるが、最終のウエハ厚み（チップ厚み）は10〜200μmになる場合もある。このような薄いウエハになると、何ら支持のない単独のウエハでは、ウエハの表面と裏面の応力差により激しく湾曲したり（いわゆる、反りが大きくなり）、またウエハの強度が小さくなり、ウエハに傷や欠陥を誘発する可能性が高くなる。あるいは、最終のウエハ厚みが上記ほど薄くない場合であっても（たとえば、ウエハ厚み200〜400μm）、ウエハが大口径化した場合（たとえば、200mm以上）にも、ウエハが激しく湾曲したり、ウエハに傷や欠陥を誘発する可能性が高くなる。この結果、ウエハが極薄化した後は、ウエハの搬送やプロセスが非常に困難である。
【０００３】
上記の問題に対して、平板上より極薄ウエハの直径より僅かに大きい直径の半円弧状ガイドを起立させた収納棚の複数を、支柱を介して等間隔で上下に平行に並べた多段式収納カセットが提案されている（たとえば、特開2004-273867）。また、互いに嵌合して積層可能な収納容器の間に極薄ウエハをスペーサーシートで挟持して収納するものも提案されている（たとえば、特開2005-191419）。さらには、ウエハ裏面研削工程で用いたウエハ表面保護フィルムを付着させた状態で、ウエハ裏面研削工程の後に、ウエハ裏面にダイシングテープを貼合し、その後で前記ウエハ表面保護フィルムを剥離し、ダイシングすることが提案されている（たとえば、特開2002-246345号公報、特開2004-186296号公報）。
【０００４】
また、ウエハ裏面研削後のウエハは、たとえウエハ表面保護フィルムやダイシングテープが付着しウエハを支持していても、そのままでは平坦な状態を維持できないため、工程間搬送や工程内搬送を自動で行うことができず、大半はマニュアルで行っている。たとえば、ウエハ切断前後の外観検査も一枚一枚手動で搬送している。
【０００５】
【特許文献１】特開2004-273867
【特許文献２】特開2005-191419
【特許文献３】特開2002-246345号公報
【特許文献４】特開2004-186296号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、提案された収納カセットにおいては、開閉機構が大掛かりになる上に、常にウエハを平坦な状態で取り扱うことが困難である。この結果、容器の高価格化を招くと同時に、ウエハの変形によるマイクロクラックの発生や作業性の困難さなどが原因となるウエハの損傷が発生するという課題を有している。また、スペーサーシートを有する容器においては、消耗品であるスペーサーが必要となるために、ランニングコストが高くなり、地球に優しい構造となっていない。さらに、搬送時にウエハが動きやすい構造になっているために、搬送時にウエハを損傷し易いという問題もある。ウエハ裏面研削後にウエハ厚みが極薄になった場合、または／及びウエハが大口径の場合には、ウエハ裏面研削後にウエハ表面保護フィルムを剥離すると、ウエハが反ったり、破損しやすくなるという問題がある。
【０００７】
また、ウエハ裏面研削後にウエハ厚みが極薄になった場合、または／及びウエハが大口径の場合には、たとえウエハ表面保護フィルムが付着していても、ダイシングテープが付着していても、ウエハはフレキシビリティ（柔軟性）があり、ウエハ単独で平坦な状態を維持することは困難である。このため、ウエハ裏面研削後の工程を自動で搬送または処理することができず、人手が介在したり、ウエハに損傷を与える危険性が高いという問題がある。このため極めて高価なプロセスとなっている。
【０００８】
さらに、良品判定の電気特性検査は、ウエハの裏面研削前に行うため、ウエハ裏面研削後に変動した電気特性の変化を検出することができなかったり、不良化したチップを良品として製品に搭載してしまうという問題がある。これを防止する一つの方法として、ウエハ裏面研削前の検査では、ある程度厳しい検査をして、ウエハ裏面研削後に変動した電気特性の変化に対応しているが、歩留まりを落とす原因となり、コストアップの要因となっている。ウエハ裏面研削後に破壊したり、損傷を受けたウエハは、電気特性検査を全くする必要がないにも関わらず、ウエハ裏面検査前に電気特性検査をしなければならず、高価な半導体検査装置（テスター）を使うため、
これもコストアップの要因となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、微小な外力によって破損しやすい極薄ウエハを破損せずに出し入れすると同時に、搬送・処理することが可能な薄板収納（保持）容器を提供することを目的とする。
【００１０】
ウエハを真空吸着し固定できる薄板収納容器を用いる。薄板収納容器は真空吸着部を有していて、ウエハ裏面を真空吸着できるようになっている。真空吸着部は、ウエハを載置する吸着面、ウエハを真空吸着する吸着孔、真空を保持する減圧室、外部の真空引き装置に接続する吸引口、および吸引口と減圧室を結ぶ吸気孔を含む。吸引口には、外部と真空吸着部との接続を開閉する切替弁や逆止弁がついている。減圧室には支持隔壁が配置され、多数の部分室に分離されている。支持隔壁には連通孔があいている。薄板収納容器は、減圧室より上の部分（吸着板という）が、減圧室、吸気孔および吸引口を含む下の部分（薄板収納容器基板という）と分離できる。また、好適な薄板収納容器の構造は、薄板収納容器のウエハ載置部が周縁部に対して凹状になっている。さらには、吸着板の構造は、ウエハ吸着面側が弾性高分子材料であり、他方が一定の強度を有する高分子材料である、二層構造となっている。
【発明の効果】
【００１１】
薄板収納容器の吸引口が外部の真空引き装置に接続し、ウエハが薄板収納容器に載置されると、真空引き装置によって吸引口および吸気孔を通して、減圧室の空気が吸引され、さらに吸着口を通してウエハが吸着面に吸着される。ウエハが確実に吸着され、薄板収納容器に固定された後に、切替弁等が閉じられ、薄板収納容器の真空吸着部が真空に保持される。また、切替弁等が閉じられた後には、薄板収納容器は外部の真空引き装置と切り離される。ウエハは大気圧と真空吸着部との圧力差によって、薄板収納容器に固定され平坦状に保持されているので、薄板収納容器の搬送やプロセスなどにおいても、ウエハは薄板収納容器から動くことはない。また、ウエハを薄板収納容器に吸着した後は、ウエハが平坦な状態を維持できる。従って、ウエハが極薄になった後でも、搬送を自動化できる。
【００１２】
吸着板は薄板収納容器基板から分離できるため、吸着板が磨耗したりして使用困難になった場合には簡単に交換できる。減圧室には支持隔壁が設置されているので、吸着板を下から支持しているため、吸着板の変形が殆ど発生しない。従って、吸着板を薄くすることができる。繰り返しの真空引きにも変形が少ないためウエハの吸着が確実に行われるため、ウエハ吸着用の薄板収納容器としての信頼性も高い。減圧室は、支持隔壁により多数の部分室に分離されているが、連通孔があいているために、すべての部分室が真空に引かれる。部分室には吸着孔があいていて、その上に載置されるウエハを真空吸着する。多数の部分室が均等な面積になるように設計されているので、ウエハの吸着がウエハ内全面に渡り均等に行われる。指示隔壁がない場合には、減圧室の中でも最も先に真空引きされる吸引開口付近のウエハ吸着が急速に行われ、そこから遠い場所は真空引きが遅かったため、ウエハにかかる負担が大きくウエハ損傷の原因になっていたが、支持隔壁を設けることにより、ウエハの吸着がウエハ内全面に渡り均等に行われ、ウエハ損傷がかなり少なくなる。吸着板は取り外し可能であるから、薄板収納容器の内部まで洗浄できるようになった。加えて、支持隔壁も取り外し可能にすることにより、減圧室や吸気孔までも洗浄可能となった。この結果、汚染やパーティクル対策が充分行われ、薄板収納容器の寿命を飛躍的に長くすることができる。
【００１３】
また、薄板収納容器のウエハ載置部が周縁部に対して凹状になった薄板収納容器は、ウエハを吸着し搭載しても、何ら冶工具を使わずにそのまま薄板収納容器を積層できるという利点がある。また、ウエハを載置する時にウエハの端部が傾斜面にかかってもウエハが滑り載置部（ウエハ吸着面）に載置することができる。特にこの部分に潤滑性高分子材料を用いた場合には、この効果が顕著である。潤滑性高分子材料として、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）。ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等が挙げられる。尚、潤滑性材料と潤滑性高分子以外の材料とを一緒に用いた場合にも上記の効果がある。
【００１４】
吸着板を二層構造としたり、吸着板に弾性高分子材料からなる支持ネットを付着することにより、ウエハを載置したり真空吸着する時の衝撃が緩和され、ウエハの破損や損傷が殆ど起こらなくなる。減圧室に支持隔壁を設置しているので、弾性高分子材料を用いても吸着板を厚くしたりする必要もない。
【００１５】
以上のような効果があるので、本発明の薄板収納容器を用いることにより、たとえ、ウエハが極薄（たとえば、ウエハ厚み10〜200μm）であっても、または大口径（ウエハ厚みが200〜400μmで、ウエハ直径が200mm以上）であっても、ウエハが破損したりすることはない。
【００１６】
以上から、本発明の薄板収納容器を用いることにより、歩留まりの高いプロセスを構築できる。
【００１７】
以上の他にも、本発明は以下のような効果もある。
【００１８】
ウエハを吸着した薄板収納容器が工程中で滞留しても、工程間で清浄かつ安全にストックできるために、加工効率を向上させることができ、工程設計が容易になる。すなわち、ウエハの表面が他のものに接触しないように、ウエハ（収納容器）ケースに収納あるいは、ウエハが重ならないような収納容器を用いることにより、収納容器の上積み保管も可能となる。このことにより、工程間にウエハ（収納容器）やウエハ（収納容器）ケースをストックできるため、装置効率や処理効率を高めることができ、フレキシブル（柔軟）に工程設計が可能となる。
【００１９】
薄板収納容器等に、バーコードや、RFタグ（Radio Frequency Tag）のような無線タグなどの情報表示手段を取り付けることが容易となり、ウエハの枚葉管理ができ、的確かつ正確な処理をウエハに施すことができる。また、ウエハのトレーサビリティを向上させることが可能となる。
【００２０】
また、繰り返しになるが、工程間および工程内搬送や処理が自動化できるため、ウエハ（収納容器）検査や処理において、ウエハを破損することなく安全に行うことができ、加工歩留まりを向上させることができる。
【００２１】
薄板収納容器は洗浄することで繰り返し使用することが可能であり、消耗品を極力少なくし、環境にやさしく、安価な製造が可能となるという利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明において、ウエハとは主には半導体ウエハを指す。たとえば、半導体ウエハの材料は、シリコン(Si)やゲルマニウム(Ge)などの単元素半導体材料や、シリコンゲルマニム(SiGe)や砒化ガリウム(GaAs)やインジウムリン(InP)等の化合物半導体材料や、GaAlAs等の３元系以上の半導体材料である。しかし、これらにかかわらず、絶縁物の上に半導体デバイスを形成したものも含まれる。たとえば、ガラスや石英やプラスチックなどの上に薄膜デバイスを作成したもの、ガラスや石英やプラスチックなどの上に半導体材料を貼りあわせたものである。あるいは、金属の上に絶縁物・半導体材料を貼りあわせたものも含まれる。さらには、プラスチック等の高分子材料も含まれる。
【００２３】
半導体プロセスにおいて、ウエハの表面にトランジスタ等の能動素子、抵抗・コンデンサ・インダクタンス等の受動素子や配線・絶縁層等を形成し、半導体デバイスが作製される。本発明に適用される半導体デバイスとして、メモリ、CPU、システムIC、アナログIC、デジタルICなどがあるが、広義には単体の能動素子や受動素子も含まれる。すなわち、能動素子や受動素子を少なくとも１個以上含むものを表す。一般に半導体ウエハ上には、これらの半導体デバイスが多数形成され、個片（いわゆる、チップ）に切断された後に、用途に応じて種々の製品に搭載される。たとえば、半導体パッケージの場合には、リードフレームに搭載される。また回路基板に搭載され、携帯電話やICカードやPCなど種々の機器に用いられる場合もある。さらに、液晶や有機EL（エレクトロルミネッセンス）等の表示素子も含まれる。
【００２４】
近年の最終製品は超小型化を要求されるものが多く、その傾向は今後も益々進化していくと予想できる。従って、それらの最終製品に搭載されるチップは非常に薄い厚みのものであることを要求される。チップの厚みを薄くするには、その前段階であるウエハを薄くする必要がある。ウエハを薄くするには、ウエハ上にデバイスが形成された後に、ウエハ裏面加工研削を行う。
【００２５】
本発明は、通常の厚みのウエハ（薄板）にも適用できることは当然であるが、特に、ウエハ裏面研削等により、薄くなったウエハを搭載できる薄板収納容器に関する。本発明で記載する「薄板収納容器」とは、「ウエハ（薄板）を支持または保持可能で、ウエハ（薄板）を搭載した状態でウエハ（薄板）を搬送しプロセスを行うこと（いわゆる、ウエハ（薄板）を処理すること）ができるもの」である。従って、このようなものとして考えるならば、「ウエハ（薄板）支持トレイ」、「ウエハ（薄板）保持トレイ」、「ウエハ（薄板）支持容器」、あるいは「ウエハ（薄板）キャリヤ」と呼んでも良い。
【００２６】
裏面研削工程とは所望の厚みのウエハにするために、半導体デバイスが形成されているウエハ表面と反対側のウエハ裏面を研削し、ウエハを薄くする工程である。この工程では、ウエハ表面に形成されている半導体デバイスを保護するために、ウエハ表面に保護フィルムを貼合する。この保護フィルムとして、たとえばリンテック製E-seriesや三井化学製イクロステープがある。保護フィルムを貼合したウエハを裏面研削装置（いわゆる、バックグラインド装置）に配置し、砥粒を含んだ水を加えながら砥石でウエハ裏面を研削する。所望のウエハ厚みを得た時点で裏面研削を終了する。裏面研削は、一般に粗研削と仕上げ研削とからなる。粗研削は、粗い砥粒を用いて早くウエハ裏面を削る方法である。従って、ウエハ裏面には粗い研磨後に大きな歪や応力が残る。仕上げ研削は粗研削の後で行い、より細かい砥粒を用いて、前記の歪や応力を緩和する。しかし、歪や応力は完全には除去できないので、裏面加工歪除去を行う場合もある。
【００２７】
ウエハ裏面研削を行った後や裏面加工歪除去を行った後に、本発明である薄板収納容器を使用できる。すなわち、ウエハ表面保護フィルムを付着したままの状態で、本発明の薄板収納容器に載置する。薄板収納容器には真空吸着部があり、ウエハはその真空吸着部に載り、真空で吸着される。ウエハ裏面が真空吸着面となる。薄板収納容器に載置するまではウエハにはウエハ表面保護フィルムで支持されているが、ウエハ表面保護フィルムは柔らかいので、ウエハが極薄の場合（たとえば、１０〜２００μmの厚みのウエハ）、または／及びウエハが大口径化の場合（たとえば、ウエハ厚みが２００〜４００μmで、ウエハ直径が２００mm以上）には、ウエハ表面保護フィルムを付着したままのウエハでは、柔軟な状態となっていて平坦な状態を保つことはできない。従って、薄板収納容器にウエハを載せるまでは、自動搬送が困難であり、マニュアル搬送が望ましい。もちろん、手動搬送と同程度の配慮のされた自動搬送なら自動でも良い。薄板収納容器に載置した後は、薄板収納容器に吸着されているので、ウエハが反ることはなく、平坦な状態を維持できる。
【００２８】
本発明の薄板収納容器の第１の実施形態を図１に示す。図1(a)は、第１の実施形態の薄板収納容器１にウエハ１７を搭載した状態を示す。薄板収納容器１の上側面および下側面は平面状である。すなわち、薄板収納容器１は平板状である。
【００２９】
薄板収納容器１は、減圧室２、吸着孔３、吸着面４、吸気孔５及び吸引口６を含んでいる。減圧室２、吸着孔３、吸着面４、吸気孔５及び吸引口６を薄板収納容器１の真空吸着部と考えることができる。この実施形態においては、減圧室２の下側に吸気孔５との接続口である吸引開口１０があり、吸気孔５は薄板収納容器下側部分７の下方に伸び、中途で曲がり、薄板収納容器横側部分８で薄板収納容器の外部へ出ていて、吸気孔５は吸引口６で終端になっている。減圧室２は吸着面４の裏面である上側部分９と吸着収納容器の下方に位置する下側部分７とで主に囲まれて構成されてなる収納容器内部に配置している。薄板収納容器下側部分７とは、減圧室２を含む薄板収納容器の下側部分を指す。また、薄板収納容器横側部分８とは、上側部分９と下側部分７とで主に構成される減圧室２の内、減圧室の側面を構成して減圧室２を完全ならしめる部分を指す。薄板収納容器上側部分９とは、吸着面４の裏面であって減圧室２の一部を構成する部分を指す。
【００３０】
本発明の第１の実施形態では、図１(b)に示すように、薄板収納容器１を薄板収納容器下側部分７と薄板収納容器上側部分９に分離できるようになっている。すなわち、薄板収納容器下側部分７は、減圧室２、吸気孔５、吸引開口１０および吸引口６を含む平板状の部分である。これを本発明においては、薄板収納容器基板と呼ぶ。薄板収納容器上側部分９は、吸気孔３および吸着面４を含む平板状の部分である。これを本発明においては、吸着板と呼ぶ。第１の実施形態においては、吸着板は減圧室２の天井部分を構成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。本発明においては、薄板収納容器下側部分と薄板収納容器基板とは同じものを意味し、薄板収納容器上側部分と吸着板とは同じものを意味するので、同じ番号で示すことにする。
【００３１】
薄板収納容器基板７の減圧室は、図１(ｂ)に示すように、支持隔壁１１で仕切られている。支持隔壁の目的は、吸着板を支持する（下から支える）ことである。本発明に用いる薄板収納容器の吸着板は、高分子材料をベースとした薄い板状のものである。従って、中空の減圧室の上を覆う吸着板は自重で変形する可能性がある。特に大口径ウエハを載置する薄板収納容器では、その変形が顕著になる。さらに、ウエハを吸着する時に、減圧室を真空にひいた時に、吸着板が重力で押しつぶされ、大きな変形をする可能性もある。そうなれば、ウエハを吸着するという本来の目的を達成できない。これを防止するために、吸着板にある程度の強度を持たせることが考えられるが、吸着板が厚くなり、薄板収納容器全体が大型化する。この結果、取り扱いや自動プロセスに用いることが困難になる。その上、材料費がかかり、プロセスコストも増大する。また、仮に強度の大きい吸着板を作製できたとしても、繰り返しの真空引きにより磨耗したり変形したりして長期間の使用は困難である。そこで、本発明においては、減圧室に支持隔壁を設けることにより、より薄い軽量の吸着板を使用できるようにした。減圧室２は支持隔壁１１によって、完全に分離されているわけではなく、支持隔壁１１には、部分的に溝または孔があり（連通孔１２）、支持隔壁で仕切られた部分同士は、この連通孔１２によりつながっている。
【００３２】
図１(c)は、薄板収納容器基板７を上側から見た平面図である。この実施形態においては、支持隔壁１１が同心円状に配列している。また、同心円状の部分も細かく分離している。支持隔壁１１には、連通孔１２が存在していて、分離した部分室はつながっている。すべての部分室が連通孔等を通じてつながっていて、すべての部分室を真空引きできることが望ましい。この連通孔の目的は、減圧室の中を真空にするためである。また、真空になった後で、空気などを導入して、真空を破る時にも使われる。連通孔１２は、余り小さいと減圧室全体を真空にしたり、真空を破ったりするのに時間がかかるし、余り大きいと支持隔壁１１の強度が小さくなるので、適度な大きさにする必要がある。連通孔１２は、支持隔壁１１に空けられた孔や溝のほかに、減圧室２と支持隔壁１１との間、または吸着板９と支持隔壁１１との間に部分的な空間を設けても良い。ただしこれも、真空引き時間等や支持隔壁の強度等が問題にならない程度に設計する必要がある。また、各部分の連通孔の数も真空引き時間等や支持隔壁の強度等を考慮して設計する必要がある。支持隔壁１１は、吸着板が部分的または局部的に変形しないように、均等に配列することが望ましい。支持隔壁の数を増やしていけば、吸着板の変形に対しては望ましいが、真空引き時間が長くなったり、作製が困難となるため、最適化が望ましい。また、支持隔壁の幅も大きくしすぎると、吸着板の吸着孔を塞ぎウエハを部分的に吸着できない場合も出てくる。支持隔壁の幅も小さくしすぎると支持隔壁の強度が不十分となり、吸着板の変形が起こりやすくなる。従って、支持隔壁の最適化も重要である。第１の実施形態に用いた同心円状の支持隔壁１１は、より均等に吸着板９を支えることができるものである。しかし、同心円状に限られず、網目状の支持隔壁でも良い。
【００３３】
支持隔壁は、薄板収納容器基板７に固定している必要はなく、取り外しができるものでも良い。また、支持隔壁は吸着板の減圧室２側に形成されていても良い。吸着板９を取り外した時に、一緒に取り外して洗浄などもできる。薄板収納容器は真空吸着を繰り返しているので、パーティクル等の汚染物質を減圧室に蓄積する可能性もあるが、支持隔壁を取り外しできれば洗浄も容易である。但し、減圧室に適合するように作製する必要がある。そうでなければ、吸着板９を充分に支持できなくなる。
【００３４】
また、できるだけ均等に吸着板９の吸着孔が存在することが望ましい。支持隔壁で仕切られた各部分には、少なくとも一つ以上の吸着孔を配置することが望ましい。それにより、ウエハの吸着が充分にかつ均等になるようにすることが可能となる。支持隔壁がない場合には、吸着板の各吸着孔のウエハを吸引する力を均等にすることが困難であるが、支持隔壁を設けて部分室に分けることにより、ウエハの真空引きを均等に行うことができる。
【００３５】
支持隔壁は、吸着板を支えているので一定程度の強度が必要である。そのような材料として、たとえば、熱可塑性エラストマーやフッ素樹脂等の弾性高分子材料が挙げられる。
【００３６】
熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰＥ（ポリフェニレンエーテル）、ＰＵＥ（ポリウレタンエラストマー）等がある。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。また、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料も使用できる。尚、上記の高分子材料は単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００３７】
図１に示すように、薄板収納容器基板７にはシール材１８が減圧室周囲を取り巻いている。シール材１８は、薄板収納容器基板７のシール材保持溝（図に示されていない）に入っている。吸着板９が薄板収納容器基板７と結合した時に、シール材１８は吸着板９のシール材受け溝１４に入る。このシール部（シール材１８、シール材受け溝１４およびシール保持溝を含む）の役割は、減圧室の真空度を保持することである。薄板収納容器には、薄板収納容器基板７と吸着板９とを結合する結合部がついている。第１の実施形態においては、薄板収納容器基板７側にフック１５が、吸着板９にはフック受け溝１６がついている。図１(ｃ)および図１(d)に示すように、フック１５とフック受け溝１６の位置は、対応している。これらの結合部を設けることにより、薄板収納容器基板７と吸着板９を確実に結合できる。
【００３８】
ウエハの吸着方法について、図１(a)に基づいて説明する。吸引口６は真空引き装置に接続されている（図には示されていない）。ウエハ１７が薄板収納容器１の吸着面４に載置される。裏面研削後に厚みが極薄化したウエハは一般には反っているので、ウエハ１７が真空に引かれる前には、平坦な面である薄板収納容器１の吸着面４とウエハ１７との間には隙間があいている。真空引き装置によって真空引きされると、吸引口６において真空引き装置に接続した吸気孔５を通って、吸引開口１０で吸気孔５と連結した減圧室２が真空引きされる。減圧室は、支持隔壁１１によって多数の部分室に分けられているが、連通孔１２を通じて各部分室が真空に引かれていく。さらに、減圧室２と吸着面４とを連結した吸着孔３を通ってウエハ１７が真空に引かれ、隙間がなくなってウエハ１７が薄板収納容器１の吸着面４にしっかりと吸着される。薄板収納容器１の吸着面４において、吸着孔３はウエハが載置および吸着される場所以外の場所には存在しないように配置されている。また、吸着孔３は図１(ｅ)に示すように、ウエハの載置および吸着される場所に多数存在している。吸着孔の大きさと数は、ウエハが吸着され固定されるために充分な程度に設計される。好ましくは、吸着孔３の大きさは、直径が０．５mm以上である。０．５mm未満の大きさの吸着孔では、吸着孔の数にもよるが、真空引きに時間がかかるととともに、十分にウエハ１１が吸着されない場合がある。また、０．５mm未満の大きさの吸着孔では、異物で塞がる場合もある。吸着孔の大きさの最大値は、ウエハサイズ、ウエハの厚み、ウエハの反り量あるいはウエハ吸着面の粗さによって変化する。しかし、一般にウエハ厚みが極薄の場合には、５０mmを越える大きさの吸着孔３では真空引きのスピードが速すぎて、ウエハが破損する可能性もある。また、ウエハ側の吸着面の微小な凹凸により真空がリークしやすくなる場合もある。吸着孔３の大きさは、そろっている必要はない。たとえば、中心の吸着孔３のサイズを大きくし、周辺側に向かう吸着孔３のサイズを徐々に小さくすると、ウエハの吸着が好ましい場合がある。一般にウエハの中心付近は反り量が大きく、周辺は反り量が小さい場合が多いからである。ウエハ１７上に形成される個々のチップの下にのみ吸着孔３を配置し、ウエハ１７上のスクライブラインにあたる位置には吸着孔を配置しないことが効果的な場合もある。たとえば、スクライブライン上をダイシングした後にも、個々のチップを確実に吸着する場合である。このような場合には、薄板収納容器をチップの大きさや配置によって変更することが必要となる。薄板収納容器には、容易に情報表示手段を取り付けることができるので、薄板収納容器をウエハ毎に変更することは、工程管理上も特に問題なく可能である。また、図１に示されるように、吸気孔５の１部および吸引口６は薄板収納容器の外側に出ている。
【００３９】
吸気孔５または吸引口６には切替弁あるいは逆止弁が付いていて（図示されていない）、薄板収納容器１の真空吸着部が真空になりウエハを完全に吸着した後で、それらの弁を閉じると真空が保持されるようになっている。従って、真空が保持された後には、真空引き装置を薄板収納容器の吸引口６から取り外しても、ウエハ１７は薄板収納容器１に確実に吸着されていて、その後に薄板収納容器１を使用して搬送やプロセスを行っても、ウエハ１７は、薄板収納容器１から離脱したり、薄板収納容器１の吸着面４上で動くことはない。尚、切替弁や逆止弁の他にも、真空を保持できるような方法であれば、本発明の薄板収納容器に適用できる。たとえば、吸引口６に蓋をする方法や吸引口６に栓をする方法が挙げられる。切替弁等の開閉や、蓋や栓をすることは、自動化も可能である。
【００４０】
図２は、第１の実施形態における薄板収納容器２つを、その裏面同士を結合させたものである。結合の方法として、第１の実施形態における薄板収納容器の裏面にフック部等の結合手段を付ける方法や、単純に両者をクランプする方法もある。あるいは、製造時に一体ものとして作ることもできる。ウエハ３０は、吸着面２４Ａおよび２４Ｂに真空吸着されて固定されているので、一方の面が下向きや横向きになってもウエハ３０が薄板収納容器から離れたり、動いたりすることはない。第１の実施形態の薄板収納容器はこのような使用も可能なので、薄板収納容器の小型化や薄板収納容器ケース（容器）の小型化ができ、搬送装置の小型化やプロセス装置の小型化も容易に可能となる。
【００４１】
図３は、本発明の第２の実施形態を示す図である。
【００４２】
図３(a)は横方向断面図、図３(b)は平面図である。図１に示す場合と異なるのは、ウエハを載置する場所（ウエハ載置部またはウエハ吸着面３４）が周辺に比較し凹状になっていることである。尚、ウエハ吸着面３４はもちろん平坦な形状である。ウエハの載置部３４には、図３(b)に示すように、吸着孔３３が多数存在し、ウエハ３７を確実に吸着できるようになっている。図３(b)の吸着孔は小さな円形で示しているが、他の形状、たとえば四角形や楕円形や三角形やそれらに類似した形状でも良い。あるいは、それらの組合わせでも良い。あるいは、ウエハ３７を吸着できるその他の形状でも良い。ウエハ３７を平坦状に維持でき、かつ確実に固定できる程度に吸着孔の数と形状と大きさを選択することができる。尚、吸着孔３３はウエハ搭載位置の範囲内にあることが必要であることは、図１に示す薄板収納容器と同様である。
【００４３】
図３に示す薄板収納容器３１の周辺部から載置部（吸着面）３４への傾斜は、図３の傾斜面３８で示されるように、テーパー状になっている。ウエハ３７が薄板収納容器３１の載置部３４に置かれる時に、多少位置ずれしてウエハの端が傾斜面３８にかかっても、ウエハ３７は傾斜面３８から滑って載置部３４に載置される。すなわち、図１の場合の薄板収納容器に比較し、ウエハ３７の載置場所が安定化するという利点がある。また、ウエハの破損を防止するという利点もある。薄板収納容器３１の周縁部３９はある程度平坦となっている。周縁部３９の高さが、ウエハを載置部３４に吸着した場合のウエハ３７の表面（最上面）の高さよりも高くしておくことにより、薄板収納容器３１を重ねて積層しても、ウエハ３７への接触がないという利点もある。周縁平坦部３９の面積は、積み重ねても安定する程度の面積を確保する必要がある。従って、この場合は、特別のウエハ（薄板収納容器）ケースを使う必要がない。
【００４４】
しかし、薄板収納容器を結合したければ、周縁部３９に図１と同様なフック部などの結合手段を取り付ければ良い。薄板収納容器の結合により、一括で薄板収納容器を移動したり、プロセスができるという利点がある。また、周縁部３９にシール部も取り付ければ、薄板収納容器に囲まれた領域である薄板収納容器の凹状部にあるウエハは、外部環境から隔離されるので、外部環境からの汚染やクリーン度の異常などの影響を受けないという利点もある。
【００４５】
図３に示す薄板収納容器３１の吸気孔３５および吸引口３６のタイプは、図１に示した薄板収納容器１の吸気孔５および吸引口６のタイプと少し異なっている。
図１に示す薄板収納容器１の吸気孔５は、薄板収納容器下側部分７の下方に伸びていたが、図３に示す薄板収納容器３１においては、吸気孔３５は減圧室３２の横側部分４０に伸び、そのまま外部に出ている。このような構造になっている場合には、薄板収納容器の下部分を薄くできるため、薄板収納容器３１を薄くすることが可能となる。薄板収納容器ケースに薄板収納容器３１を収納する場合には、薄板収納容器ケースも小さくすることができる。
【００４６】
尚、薄板収納容器３１のような薄板収納容器を積み重ねができるような薄板収納容器の場合には、薄板収納容器３１の裏にもウエハを吸着し載置可能である。この表裏一体の収納容器においては、下向きになるウエハも存在するが、薄板収納容器の吸着面にウエハが確実に吸着されているので、ウエハが落下することはない。
【００４７】
さらに、傾斜面が垂直に近い段差を有するものでも良い。ウエハの位置ずれに対しては余裕度が小さいが、精度良くウエハを載置部（吸着部）に載置できれば特に問題が発生することもない。本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、さらに本発明の支持隔壁１０１および連通孔１０２を減圧室３２の内部に持つ。その働きは、第１の実施形態と同様である。なお、図３においては薄板収納容器３１の裏面形状は平坦になっているが、薄板収納容器３１の表面形状と裏面形状とを略相似にすることによって、2枚の薄板収納容器を互いに積層するときに、収納する薄板を上下からしっかりと押えて固定することができる。このようにして薄板を固定した後は、薄板を吸着するための真空引きは解除することができる。また、このとき、薄板収納容器３１の裏面にも、吸着面３４の形状に対応した領域に上記の弾性材料を配しておくのが好ましい。
【００４８】
本発明の載置部が凹状になった薄板収納容器は、上記にて説明したように大きなメリットを有するが、本発明の一つである吸着板はさらにその効果を増大できる。第１の実施形態において説明したように、吸着板は減圧室３２の天井部分を構成し、薄板収納容器基板は残りの部分を構成する。また、吸着板の天井部分は、支持隔壁と共に減圧室３２を分割して（連通孔等を通して）連通した複数の部分室を形成する。減圧室３２と天井部分を分離する方法について、幾つかの実施形態について、以下に説明する。尚、下記に示した以外にも、吸着板の底面を球面状にする場合、底面を凹凸状に分離する場合など多くの形態もある。あるいは、減圧室３２の中途で分離する方法、減圧室３２を吸着板側に含める方法などもあり、どれも実用的である。また、上記は第１の実施形態にも適用できる。
【００４９】
図４に基づいて、本発明の第３の実施形態を説明する。
【００５０】
図４に示す吸着板４９は、図３に示す第２の実施形態における減圧室の天井から上側部分を平面状に切ったものである。減圧室４２は、支持隔壁１１１で仕切られていて、支持隔壁１１１で分離された部分（部分室）は支持隔壁１１１にあけられた連通孔１１２でつながっている。減圧室４２の周囲をシール材１１８が囲んでいる。これに対応して、シール受け溝１１３が吸着板４９側に取り付いている。吸着板４９と薄板収納容器基板４７との結合機構の結合部として、フック１１５が薄板収納容器基板４７側に、フック受け溝１１６が吸着板４９側についている。（尚、これらは、逆側に取り付いていても、第１の実施形態と同様に目的を達成できることは自明である。）第３の実施形態の吸着板は、薄板収納容器基板４７に合わせて押すだけで簡単に結合できる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５１】
図５に基づいて、本発明の第４の実施形態を説明する。
【００５２】
図５に示す吸着板５９は、横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形形状のものである。減圧室５２の上側部分がそのまま吸着板５９となっている。吸着板５９の傾斜面５８Ａおよび薄板収納容器基板５７の傾斜面５８Ｂに結合部（フック１２５、フック受け溝１２６）やシール部（シール材１２８、シール受け溝１２４）が付いている。吸着板５９を薄板収納容器基板５７の凹部へ押し込むことにより、吸着板５９と薄板収納容器基板５７とを結合することができる。第４の実施形態の吸着板は、薄板収納容器基板５７の傾斜面５８に合わせて押すだけで簡単にセットできる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５３】
図６に基づいて、本発明の第５の実施形態を説明する。
【００５４】
図６も図５と同じく、吸着板６９は横方向断面図が傾斜面部に適合した逆台形形状のものである。しかし、第５の実施形態の吸着板６９は、凹状部の平坦部に結合部（フック１３５、フック受け溝１３６）やシール部（シール材１３８、シール保持溝、シール受け溝１３４）が付いている。減圧室６２は、凹状部全体より小さくなっていて、吸着板６９は、凹状部の平坦部で支えられる。従って、第5の実施形態の吸着板６９は、薄板収納容器基板６７の凹状部に載せて押すだけで簡単にセットできる。それぞれの働きは、第１の実施形態および第２の実施形態で説明したものと同様である。
【００５５】
図７は、吸着板の構造に関する本発明の第６の実施形態を示す図である。吸着板は、ウエハを載置する場所であり、またウエハを真空吸着する場所であるから、一定程度の強度が必要で、また繰り返し使用できるような耐久性も必要である。一方、ウエハは、シリコンやガラス等のもろい材料で作られているので、吸着板はウエハを損傷させない柔軟性も要求される。このような相反するような要求に対して本発明の第６の実施形態が有用である。
【００５６】
本発明の第６の実施形態における吸着板７１は、吸着基板７２と吸着シート７５との２層の構造になっている。ウエハに直接接触する吸着面７４の側に吸着シート７５がある。吸着シート７５は、主に弾性材料からなり、ウエハが載置してもウエハに衝撃を与えないレベルの弾性を有する。このような材料としては、弾性高分子材料があり、弾性高分子材料として、熱可塑性エラストマーや発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰＥ（ポリフェニレンエーテル）、ＰＵＥ等がある。発泡高分子として、発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、発泡ＰＥ（ポリエチレン）発泡ＰＵ（ポリウレタン）や発泡ＰＳ（ポリスチレン）等が挙げられる。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。さらに、ウエハを滑らせて最適位置にウエハを載置するために、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）やＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）等の潤滑性高分子も使用できる。吸着基板７２は、繰り返しの真空引き等に対して耐久性と強度を有する材料である。この吸着基板に用いられる材料として、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料が挙げられる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００５７】
吸着板には、吸着孔があいているので、その作製方法としては、吸着シートと吸着基板を貼りあわせたものを型抜きする方法や二色成形法で形成する方法がある。また、最初から吸着孔をあけたものを貼り合せる方法などもある。吸着シートと吸着基板との貼り合せる方法には、融着法や溶接法を用いたりする方法や、特殊な接着剤を用いる接着法などがある。以上のように、吸着板の構造を2層構造にすることにより、第６の実施形態における吸着板は、所定の強度を有しながら、ウエハに対して損傷も与えない特性を有する。
【００５８】
尚、ウエハを損傷しないように充分注意をしてプロセスを行う場合には、吸着シートを付けないで１層の吸着板で充分である場合もある。１層の吸着板の時には、上述の高分子材料を含む材料で構成すれば良い。たとえば、ＰＣ（ポリカーボネート），ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＢＮ（ポリブチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）等の高分子材料である。また、吸着板の厚みや構造を最適化することにより、弾性高分子材料も使用できる。弾性高分子材料として、熱可塑性エラストマーや発泡高分子やフッ素樹脂がある。熱可塑性エラストマーとして、ＰＥＥ（ポリエステルエラストマー）、ＰＢＴＥ（ポリブチレンテレフタレートエラストマー），ＰＢＮＥ（ポリブチレンナフタレートエラストマー）、ＰＰＥ（ポリプロピレンエラストマ−）、ＰＵＥ（ポリウレタンエラストマー）等がある。発泡高分子として、発泡ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、発泡ＰＥ（ポリエチレン）発泡ＰＵ（ポリウレタン）や発泡ＰＳ（ポリスチレン）等が挙げられる。フッ素樹脂として、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）が挙げられる。また、ＰＰ（ポリプロピレン）も用いることができる。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【００５９】
図８は、吸着板の構造に関する本発明の第６の実施形態を示す図である。吸着板８１に支持ネット８２を付着させた構造である。図８(a)は、横方向断面図、図８(b)は、平面図である。支持ネット８２は、網目状構造またはすのこ状構造または碁盤の目状構造等になっている。支持ネット８２で仕切られた領域でウエハが載置される領域には、吸着板８１に設けられた吸着孔８３が存在し、吸着孔８３を通して、ウエハが真空に引かれウエハは支持ネット８２上に吸着される。支持ネット８２の網目状等の構造は、余り大きいと、ウエハの周辺を吸着できないとか、網目状等の空間でウエハの載置していない周辺の領域が存在して、吸着孔が外気とつながって、真空吸着が充分行われないという問題が発生するので、適度に小さな網目状等構造にする必要がある。
【００６０】
この支持ネットの目的も第５の実施形態と同じで、ウエハに衝撃を与えずにウエハを吸着板に吸着させることである。従って、支持ネットの材料も弾性材料が望ましい。しかも繰り返し使用もできるものが望ましい。たとえば、ＰＥＥ、ＰＢＴＥ、ＰＢＮＥ、ＰＰＥまたはＰＵＥ等の熱可塑性エラストマー、或いは、発泡ＰＥＴ、発泡ＰＥ、発泡ＰＵまたは発泡ＰＳ等の発泡高分子、或いは、ＰＴＦＥやＰＦＡ等のフッ素樹脂、或いはＰＰなどである。これらの高分子材料は、柔軟性があり、また耐久性も有している。尚、上記の材料単独でも良いし、複数を含む材料でも良い。
【実施例】
【００６１】
図９に本発明の実施例を示す。この薄板収納容器９１は吸着面９４を有する吸着板９９が取り外しできるようになっている。吸着面９４上に多数の吸着孔９３が存在する。減圧室９２には支持隔壁１０３が同心円状の網目構造に配置している。外部の真空装置と吸着口９６を接続して、吸気孔９５および減圧室９２とつながった吸引開口９７から減圧室９２が真空引きされる。支持隔壁１０３には連通孔１００があいていて、支持隔壁１０３で仕切られた部分室は真空が引かれるようになっている。吸着板９９は、支持隔壁１０３に支えられているので、一定程度の強度があれば、真空引きによって変形することはない。
【００６２】
この吸着孔９３はウエハ上の個々のチップに対応するように配置することもできるので、ダイシング工程でウエハがチップ毎に完全に切断されてもチップが個々に吸着面に吸着される。吸着板９９は、薄板収納容器９１にシール部９８で連結されるようになっている。デバイスが変わり、ウエハ内のチップ位置が異なる場合は、そのチップ位置に合わせた吸着板に変更することができる。吸着板が薄板収納容器基板１０４と連結すると、支持隔壁１０３に支持されるようになっている。吸着板９９や薄板収納容器９１に情報表示手段を取り付ければデバイスや吸着板や薄板収納容器の管理も容易になる。このような薄板収納容器９１を使用することにより、種々のデバイスについて、ウエハ切断後に電気特性検査や外観検査などを行うことも可能となる。
【００６３】
ウエハ裏面研削を行い、極薄化したウエハについては、ウエハ表面保護用フィルムをウエハに付着した状態で薄板収納容器に載置した方が、ウエハの反りの影響が少ないこととウエハの破損を少なくできることから、望ましい場合が多い。
【００６４】
本発明の薄板収納容器をウエハ切断工程に用いる方法について説明する。
【００６５】
ウエハ切断方法として、ダイシングブレードを用いたダイシング装置（いわゆる、ダイサー）を用いる方法がある。これは、薄板収納容器上に載置されたウエハを所望の大きさにダイシングブレードで切断する方法である。一般にウエハ上にパターン形成されたスクライブラインに沿って切断する。ウエハの厚みや、ウエハの材質、ウエハ上に形成された薄膜等に応じてダイシングの条件を変化させてウエハ切断（ダイシング）を行う。また、ダイシングをするウエハの量によって、フルカット、セミフルカット及びハーフカット等の方法がある。しかし、主には、フルカット法にてダイシングを行う。
【００６６】
フルカットとは、ウエハを完全に切断する方法である。従って、切込みが薄板収納容器側に入る。また、セミフルカットとはウエハ厚み量程度を切断する方法であり、ウエハはほぼ完全に切断されるが、できるだけ切込みを薄板収納容器側に入れないようにする方法である。フルカットでは、薄板収納容器側にダイシングの切込みが入り、傷がつくので、薄板収納容器を繰り返し使うことが困難である場合が多い。薄板収納容器も比較的高価であるため、ダイシング時に薄板収納容器に傷が入らないようにし、薄板収納容器を繰り返し使用することが望ましい。
【００６７】
フルカットを用いて完全にウエハを切断しながら、薄板収納容器に損傷を与えない方法として、ダイシングテープを用いる方法がある。これは、薄板収納容器吸着前に、ウエハ表面保護フィルムが付着したウエハの裏面にダイシングテープを付着させ、その後で薄板収納容器に載置し吸着する方法である。ウエハ表面保護フィルムは薄板収納容器に吸着した後で剥離する。あるいは、ダイシングテープを付着させた後に、薄板収納容器吸着工程に入る前に、ウエハ表面保護フィルムを剥離しても良い。ウエハ表面保護フィルムを剥離した場合でも、薄板収納容器やダイシングテープがウエハを支持しているので、たとえウエハが極薄でも、または／及びウエハが大口径であっても、ウエハが反ることはなくウエハを平坦な状態でプロセスできる。フルカットの場合、切断部はウエハを完全に分離し、しかもダイシングテープにも切込みが入る。しかし、薄板収納容器には切込みは入らず、薄板収納容器は損傷しないので、薄板収納容器を繰返し使用できる。
【００６８】
本発明の薄板収納容器はウエハ切断工程後にチップ移載工程にも適用可能である。すなわち、薄板収納容器に吸着されたウエハを所望のサイズのチップに切断した後で、チップをピックアップして所定の場所に移載することができる。所定の場所とは、チップのその後の使用方法によって異なる。たとえば、ＩＣパッケージの場合には、リードフレームやＣＯＢ基板上に搭載する。チップトレイに移載する場合もある。回路基板上に移載する場合もある。
【００６９】
チップのピックアップはたとえばコレットをチップにあて真空吸引して行う。チップをピックアップする前に、薄板収納容器側の真空を破るか、真空度を少し弱めるかすることが好ましい場合がある。一般には、ピックアップ時にウエハ表面から真空吸着するが、このピックアップ側の真空度が、薄板収納容器の真空度より強ければ、チップはピックアップできる。しかし、ピックアップ側の真空度が強すぎると、ピックアップ後に、チップに大気圧と真空度との圧力差による力がチップに加わるので、チップにダメッジが入る場合もある。そのような恐れのある場合（チップ厚みが薄い場合や、チップサイズが大きい場合など）には、チップをピックアップする前に、真空を破るか、真空度を少し弱めるかすることが好ましい。
【００７０】
また、チップの下に吸着孔がある場合などには、チップをピックアップ後などに、切替弁や逆止弁を用いて減圧室９２の真空を保持している場合は、真空が破れる可能性があるので、ピックアップ時に薄板収納容器の真空部分を真空に引く必要がある場合もある。このように薄板収納容器の真空部分を真空に引くことにより、一部のチップをピックアップ後もチップは薄板収納容器側に引かれるので、真空が破れたりすることによるチップの位置ずれ等の問題も発生しない。また、ピックアップ装置側や移載側等に位置ずれ補正が装備されている場合には、真空が破れることによる問題の発生は少ない。
【００７１】
前述のダイシングテープを用いてウエハを吸着する場合も、たとえフルカット法を用いても、ダイシングテープは深さ方向には完全に切断されていないので、チップのピックアップによる薄板収納容器の真空が破れるという問題は発生しない。
【００７２】
以上説明したように、チップ移載においても本発明の薄板収納容器を用いているので、チップ移載工程の自動化もできるし、ウエハ切断工程の自動化およびウエハ切断からチップ移載工程との工程間の連結も自動（たとえば、自動移送）化が可能となる。
【００７３】
ダイシングテープとチップの密着性を減少させるために、チップを移載する前に、UV照射を行うこともできる。UV照射はダイシングテープの糊残り対策として有効である。本発明の薄板収納容器を用いて、UV照射も可能であるから、ＵＶ照射工程の自動化はもちろん、その前後工程との工程間の連結も自動（たとえば、自動移送）化が可能である。
【００７４】
ウエハ表面に形成されたデバイスの最終電気特性検査は、ウエハ切断前に行うことが望ましい。さらに望ましくは、ウエハ切断後、チップ移載前に行うことがさらに望ましい。何故ならウエハの電気特性は前の工程の影響を受けるからである。しかし、ウエハ裏面研削後において、ウエハが２００μm以下の厚みになった場合、またはウエハ厚みが２００〜４００μmでもウエハ径が２００mm以上（たとえば、２００〜１０００mm）と大口径になった場合には、ウエハの反りが大きくなったり、強度不足によるウエハ損傷の恐れがあるために、従来は、ウエハ裏面研削後はウエハの電気特性検査を行うことが困難であった。しかし、本発明の薄板収納容器を用いることにより、ウエハ切断前に電気特性検査を行うことが可能となる。すなわち、薄板収納容器にウエハを吸着した状態で、電気特性検査を行うことができる。しかも自動化にも対応できる。たとえば、薄板収納容器を薄板収納容器ケースに複数枚セットしておけば、あるいは、積み重ねの可能な薄板収納容器を使えば、複数枚の薄板収納容器を重ねてテスターにセットしておけば、やはり電気特性検査装置（テスターなど）で自動的に処理可能である。
【００７５】
さらに、本発明の薄板収納容器を用いれば、ウエハ切断後にも電気特性検査を行うことができる。すなわち、ウエハ切断後にもチップとして薄板収納容器に吸着させることも可能であるから、電気特性検査が可能となる。たとえば、ウエハのチップ配列に合わせて、吸着孔を配置しておけばよい。ウエハのチップ配列に合わせた薄板収納容器をデバイス毎に用意しておけば良い。あるいはウエハのチップ配列に合わせた吸着板を用意して、デバイス毎に吸着板を変更するということもできる。このことにより、ウエハが切断場所（いわゆる、スクライブライン）に沿って完全に切断されたとしても、チップはチップ毎に配列した吸着孔によって吸着されているので、切断後もチップ位置が変化することはない。また、ダイシングテープに付着したウエハを薄板収納容器に吸着させ、かつダイシングテープの内部で切込み部を留めておけば、ウエハを切断してもダイシングテープは薄板収納容器に吸着されており、薄板収納容器の真空は破られないから切断後のチップは固定されていて、チップの電気特性検査を行うことが可能となる。また、ハーフカット方式を用いれば、ウエハ切断後も薄板収納容器の真空は破られないので、ウエハ（チップ）の電気特性検査を行うことが可能となる。尚、ダイシングテープがあった場合でも、ハーフカット方式の場合でも、ウエハのチップ配列に合わせた吸着孔があれば、ウエハ切断後にもチップの位置ずれが少ない場合もあり、安全性が高いということが言える。
【００７６】
薄板収納容器には、バーコードやRFタグのような無線タグなどの情報表示手段を取り付けることができる。たとえば、薄板収納容器の側面や底面などに取り付けることができる。また、図３で示すような周辺部が高くなっている収納容器では、周辺部のウエハが載置されない平坦な場所にも取り付けることができるし、テーパー部にも取り付けることが可能である。さらに、図１に示すような上面が平坦な収納容器でも、ウエハの周辺または、ウエハのファセットの外側部分などウエハが載置されない場所にも取り付けることができる。最近の情報表示手段は非常に小さくなっているので、少しのスペースがあれば取付けが可能である。これらの表示手段を取り付けることにより、種々のプロセス情報を書き込んだり、読み込んだりできる。その情報に従って、プロセスの条件を変更することも可能となる。収納容器毎に情報表示手段を取り付けることができるので、ウエハの枚葉管理もできる。従って、種々のデバイスを混在して流動が可能となる。たとえば、本発明の薄板収納容器を用いると、ダイシング工程においても、ウエハ１枚ごとに、ダイシングの条件を変更可能である。また、電気特性検査においても、１枚ごとに異なったデバイスの検査が可能となる。さらに、１枚のウエハ内のチップ毎に検査条件の変更も可能である。加工処理能力の異なる場合などによりウエハが工程間で滞留しても、１枚ごとに誤りなく情報を把握できる。また、情報を保管することも容易となるので、薄板収納容器を使用してプロセスを行ったウエハについては、トレーサビリティも高くなり、信頼性の高い製品を作製できる。
【００７７】
また、本発明の薄板収納容器は収納容器ケースに収納もできるし、クリーンボックスなどにも保管できる。また、積み重ねが可能な薄板収納容器の場合には、単純積み重ねも可能なので、スペースを最小化もできる。従って、工程内および工程間に清浄かつ安全に、または／及び大量にストックでき、工程設計が容易になる。
【００７８】
さらに、極薄ウエハまたは／及び大口径ウエハでは工程間搬送時に破損しやすいという問題を防止するために、ウエハを積層する時に各ウエハの間に消耗品である層間紙を挿入していたが、本発明の薄板収納容器を使用する場合は、このような層間紙は不要となり、これもコストダウンにつながるという利点もある。
【００７９】
これまでも説明したように、薄板収納容器にウエハを吸着後は、薄板収納容器の自動搬送が可能となるので、薄板収納容器吸着工程に続けて、ウエハ切断工程に、さらにチップ移載工程へと工程間搬送が自動で可能となる。従って、これらの一貫ラインを構築できる。さらに、これらの工程の間にウエハ電気特性検査工程やウエハ外観検査工程が入っても、同様に一貫した自動化ラインを構築でき、非常にコストの安い製造ラインを作ることが可能となる。また、薄板収納容器に情報表示手段を容易に付置できるので、ウエハの枚葉管理ができ自由度の高い製造ラインを作ることが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明は、半導体プロセスにおけるウエハ裏面研削工程以降ウエハのプロセスや搬送工程において、利用することができる。特に、極薄ウエハや極薄チップや大口径ウエハを用いる半導体産業において、利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１（ａ）】図１(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｂ）】図１(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｃ）】図１(c)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｄ）】図１(d)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図１（ｅ）】図１(e)は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態を示す図である。
【図２】図２は、本発明の薄板収納容器に係る第１の実施形態の応用を示す図である。
【図３（ａ）】図３(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第２の実施形態を示す図である。
【図３（ｂ）】図３(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第２の実施形態を示す図である。
【図４】図４は、本発明の薄板収納容器に係る第３の実施形態を示す図である。
【図５】図５は、本発明の薄板収納容器に係る第４の実施形態を示す図である。
【図６】図６は、本発明の薄板収納容器に係る第５の実施形態を示す図である。
【図７（ａ）】図７(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第６の実施形態を示す図である。
【図７（ｂ）】図７(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第６の実施形態を示す図である。
【図８（ａ）】図８(a)は、本発明の薄板収納容器に係る第７の実施形態を示す図である。
【図８（ｂ）】図８(b)は、本発明の薄板収納容器に係る第７の実施形態を示す図である。
【図９】図９は、本発明の薄板収納容器に係る実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００８２】
１・・・薄板収納容器、２・・・減圧室、３・・・吸着孔、４・・・吸着面、
５・・・吸気孔、６・・吸引口、７・・薄板収納容器下側部分（薄板収納容器基板）、
８・・薄板収納容器横側部分、９・・薄板収納容器上側部分（吸着板）、
１０・・吸引開口、１１・・支持隔壁、１２・・連通孔、１４・・・シール材受け溝、
１５・・・フック、１６・・・フック受け溝、１７・・・ウエハ、１８・・・シール材、
２４A・・・吸着面、２４B・・・吸着面、２７A・・・薄板収納容器基板、
２７B・・薄板収納容器基板、２９A・・吸着板、２９B・・・吸着板、３０・・・ウエハ
３１・・・薄板収納容器、３２・・・減圧室、３３・・・吸着孔、３４・・・吸着面、
３５・・吸気孔、３６・・吸引口、３７・・ウエハ、３８・・傾斜面、３９・・周縁部、
４０・・・（薄板収納容器）横側部分、４２・・・減圧室、４３・・・吸着孔、
４４・・・吸着面、４５・・・吸気孔、４６・・・吸引口、４７・・・薄板収納容器基板、
４９・・吸着板、５２・・・減圧室、５３・・・吸着孔、５４・・・吸着面、
５５・・・吸気孔、５６・・・吸引口、５７・・・薄板収納容器基板、
５８A・・・傾斜面、５８B・・・傾斜面、５９・・・吸着板、６７・・薄板収納容器基板、
６９・・・吸着板、７１・・・吸着板、７２・・・吸着基板、７３・・・吸着孔、
７４・・・吸着面、７５・・・吸着シート、８１・・吸着板、８２・・支持ネット、
８３・・吸着孔、９１・・・薄板収納容器、９２・・・減圧室、９３・・・吸着孔、
９４・・・吸着面、９５・・・吸気孔、９６・・・吸引口、９７・・・吸引開口、
９８・・・シール材、９９・・・吸着板、１００・・・連通孔（溝）、
１０１・・・支持隔壁、１０２・・・連通孔、１０３・・・支持隔壁、
１０４・・・薄板収納容器基板、１１１・・・支持隔壁、１１２・・連通孔、
１１３・・・シール受け溝、１１５・・・１１６・・・フック受け溝、
１１８・・・シール材、１２１・・・支持隔壁、１２２・・・連通孔、
１２４・・・シール受け溝、１２５・・・フック、１２６・・・フック受け溝、
１２８・・・シール材、１３４・・・シール受け溝、１３５・・・フック、
１３６・・・フック受け溝、１３８・・・シール材、
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを真空吸着する真空吸着部を有する薄板収納容器であって、真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、複数の吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口、および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を有し、前記減圧室には支持隔壁が設けられていて、当該減圧室を複数の部分室に分離し、前記ウエハ吸着面を支えていることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項２】
ウエハを真空吸着する真空吸着部を有する薄板収納容器であって、真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、複数の吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口、および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を有していて、前記薄板収納容器は、前記減圧室の天井部分から二つの部分に分離可能であり、分離可能な一方の部分は、前記ウエハ吸着面および吸着孔を含む吸着板であり、分離可能な他方の部分は、前記減圧室、吸気孔および吸引口を含む薄板収納容器基板であることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項３】
請求項１および２とからなることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項４】
上記薄板収納容器は平板形状であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項５】
上記ウエハ吸着面が、上記薄板収納容器の周縁部に対して凹状に形成されていて、前記ウエハ吸着面と前記周縁部との間にある側段部が外側に開いた傾斜面であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項６】
上記減圧室の天井部分を含む上記吸着板の底面が平面形状であることを特徴とする、請求項５記載の薄板収納容器。
【請求項７】
横断面形状が逆台形形状を有している吸着板であることを特徴とする、請求項５記載の薄板収納容器。
【請求項８】
上記薄板収納容器基板に接して上記減圧室を構成する上記吸着板の外周面に、上記減圧室を気密にシールするシール構造を有しているか、あるいは上記吸着板を上記薄板収納容器に固定するための留め構造を有しているか、あるいはそれらの双方を有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項９】
ウエハを上記薄板収納容器に吸着した状態において、ウエハの最上面が当該薄板収納容器の周縁平坦部より低いことを特徴とする、請求項５〜８のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１０】
上記吸着板は、少なくとも弾性高分子材料からなることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１１】
上記弾性高分子は、熱可塑性エラストマーまたは発泡高分子材料またはフッ素樹脂または潤滑性分子材料の少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項１０のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１２】
上記支持隔壁には、当該支持隔壁で仕切られた各部分室を真空引きすることが可能な孔または溝があいていることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１１のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１３】
上記支持隔壁は上記減圧室から分離して繰り返し使用できることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１２のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１４】
上記部分室はほぼ等しい容積を有していることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１５】
上記各部分室には、少なくとも一つ以上の吸着孔が存在することを特徴とする、請求項１または請求項３〜１４のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１６】
分離した上記吸着板、上記支持隔壁あるいは上記ウエハ支持基板の少なくとも一つを洗浄することにより繰り返し使用することを特徴とする、請求項１〜１５のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１７】
上記吸着板は、少なくとも二層構造を有していることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１８】
上記吸着面を構成する材料は、少なくとも弾性高分子材料からなることを特徴とする、請求項１７記載の薄板収納容器。
【請求項１９】
上記弾性高分子材料は、熱可塑性エラストマーまたは発泡高分子材料またはフッ素樹脂または潤滑性高分子材料の少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項１８記載の薄板収納容器。
【請求項２０】
上記吸着板と密着した網目構造を有する支持ネットを介してウエハを吸着することを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２１】
上記支持ネットを構成する網目の各形成領域に、少なくとも一つ以上の吸着孔が存在することを特徴とする、請求項２０記載の薄板収納容器。
【請求項２２】
上記支持ネットは、少なくとも弾性高分子材料から構成されていることを特徴とする、請求項２０または２１記載の薄板収納容器。
【請求項２３】
上記弾性高分子材料は、熱可塑性エラストマーまたはフッ素樹脂または発泡高分子またはポリプロピレンの少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項２２記載の薄板収納容器。
【請求項２４】
上記薄板収納容器における吸着面の吸着孔はウエハのチップ位置ごとに存在していて、ウエハのスクライブライン上には存在していないことを特徴とする、請求項１〜２３のいずれかの項記載の半導体チップの形成方法。
【請求項２５】
上記薄板収納容器をウエハ電気特性検査またはウエハダイシング工程にて用いることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２６】
上記薄板収納容器をウエハ裏面加工歪除去工程に用いることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２７】
上記薄板収納容器に情報表示手段を付置していることを特徴とする、請求項１〜２６のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２８】
上記情報表示手段は、上記薄板収納容器における側面部、底面部または上面部の少なくともいずれかの部分に付置していることを特徴とする、請求項２７記載の薄板収納容器。
【請求項１】
ウエハを真空吸着する真空吸着部を有する薄板収納容器であって、真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、複数の吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口、および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を有し、前記減圧室には支持隔壁が設けられていて、当該減圧室を複数の部分室に分離し、前記ウエハ吸着面を支えていることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項２】
ウエハを真空吸着する真空吸着部を有する薄板収納容器であって、真空吸着部は、ウエハを載置するウエハ吸着面、吸着面上に開口したウエハを真空吸着する複数の吸着孔、複数の吸着孔が接続する減圧室、外部真空ラインと接続する吸引口、および減圧室と吸引口とを接続する吸気孔を有していて、前記薄板収納容器は、前記減圧室の天井部分から二つの部分に分離可能であり、分離可能な一方の部分は、前記ウエハ吸着面および吸着孔を含む吸着板であり、分離可能な他方の部分は、前記減圧室、吸気孔および吸引口を含む薄板収納容器基板であることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項３】
請求項１および２とからなることを特徴とする薄板収納容器。
【請求項４】
上記薄板収納容器は平板形状であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項５】
上記ウエハ吸着面が、上記薄板収納容器の周縁部に対して凹状に形成されていて、前記ウエハ吸着面と前記周縁部との間にある側段部が外側に開いた傾斜面であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項６】
上記減圧室の天井部分を含む上記吸着板の底面が平面形状であることを特徴とする、請求項５記載の薄板収納容器。
【請求項７】
横断面形状が逆台形形状を有している吸着板であることを特徴とする、請求項５記載の薄板収納容器。
【請求項８】
上記薄板収納容器基板に接して上記減圧室を構成する上記吸着板の外周面に、上記減圧室を気密にシールするシール構造を有しているか、あるいは上記吸着板を上記薄板収納容器に固定するための留め構造を有しているか、あるいはそれらの双方を有していることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項９】
ウエハを上記薄板収納容器に吸着した状態において、ウエハの最上面が当該薄板収納容器の周縁平坦部より低いことを特徴とする、請求項５〜８のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１０】
上記吸着板は、少なくとも弾性高分子材料からなることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１１】
上記弾性高分子は、熱可塑性エラストマーまたは発泡高分子材料またはフッ素樹脂または潤滑性分子材料の少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項１０のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１２】
上記支持隔壁には、当該支持隔壁で仕切られた各部分室を真空引きすることが可能な孔または溝があいていることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１１のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１３】
上記支持隔壁は上記減圧室から分離して繰り返し使用できることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１２のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１４】
上記部分室はほぼ等しい容積を有していることを特徴とする、請求項１または請求項３〜１３のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１５】
上記各部分室には、少なくとも一つ以上の吸着孔が存在することを特徴とする、請求項１または請求項３〜１４のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１６】
分離した上記吸着板、上記支持隔壁あるいは上記ウエハ支持基板の少なくとも一つを洗浄することにより繰り返し使用することを特徴とする、請求項１〜１５のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１７】
上記吸着板は、少なくとも二層構造を有していることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項１８】
上記吸着面を構成する材料は、少なくとも弾性高分子材料からなることを特徴とする、請求項１７記載の薄板収納容器。
【請求項１９】
上記弾性高分子材料は、熱可塑性エラストマーまたは発泡高分子材料またはフッ素樹脂または潤滑性高分子材料の少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項１８記載の薄板収納容器。
【請求項２０】
上記吸着板と密着した網目構造を有する支持ネットを介してウエハを吸着することを特徴とする、請求項１〜１９のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２１】
上記支持ネットを構成する網目の各形成領域に、少なくとも一つ以上の吸着孔が存在することを特徴とする、請求項２０記載の薄板収納容器。
【請求項２２】
上記支持ネットは、少なくとも弾性高分子材料から構成されていることを特徴とする、請求項２０または２１記載の薄板収納容器。
【請求項２３】
上記弾性高分子材料は、熱可塑性エラストマーまたはフッ素樹脂または発泡高分子またはポリプロピレンの少なくともいずれかであることを特徴とする、請求項２２記載の薄板収納容器。
【請求項２４】
上記薄板収納容器における吸着面の吸着孔はウエハのチップ位置ごとに存在していて、ウエハのスクライブライン上には存在していないことを特徴とする、請求項１〜２３のいずれかの項記載の半導体チップの形成方法。
【請求項２５】
上記薄板収納容器をウエハ電気特性検査またはウエハダイシング工程にて用いることを特徴とする、請求項１〜２４のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２６】
上記薄板収納容器をウエハ裏面加工歪除去工程に用いることを特徴とする、請求項１〜２５のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２７】
上記薄板収納容器に情報表示手段を付置していることを特徴とする、請求項１〜２６のいずれかの項記載の薄板収納容器。
【請求項２８】
上記情報表示手段は、上記薄板収納容器における側面部、底面部または上面部の少なくともいずれかの部分に付置していることを特徴とする、請求項２７記載の薄板収納容器。
【図１（ａ）】
【図１（ｂ）】
【図１（ｃ）】
【図１（ｄ）】
【図１（ｅ）】
【図２】
【図３（ａ）】
【図３（ｂ）】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７（ａ）】
【図７（ｂ）】
【図８（ａ）】
【図８（ｂ）】
【図９】
【図１（ｂ）】
【図１（ｃ）】
【図１（ｄ）】
【図１（ｅ）】
【図２】
【図３（ａ）】
【図３（ｂ）】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７（ａ）】
【図７（ｂ）】
【図８（ａ）】
【図８（ｂ）】
【図９】
【公開番号】特開２００７−２８１０５３（Ｐ２００７−２８１０５３Ａ）
【公開日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１０２７５９（Ｐ２００６−１０２７５９）
【出願日】平成１８年４月４日（２００６．４．４）
【出願人】（０００１４０８９０）ミライアル株式会社 (74)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１０月２５日（２００７．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年４月４日（２００６．４．４）
【出願人】（０００１４０８９０）ミライアル株式会社 (74)
【Ｆターム（参考）】
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