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Fターム[5F041CB05]の内容

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Fターム[5F041CB05]に分類される特許

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【課題】保護膜及び電極膜が均一な膜厚で形成され、安定で高輝度の発光が担保され、側面の劣化が防止され、高信頼性及び長寿命化が図られている発光ダイオードを提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、支持構造部6は反射層2の一部を含み、その側面6bがウェットエッチングで形成され、傾斜部6baを含み、傾斜部6baを含む水平方向の断面積が上面6aに向かって連続的に小さく形成され、メサ型構造部7はその傾斜側面7aがウェットエッチングで形成され、水平方向の断面積が頂面7bに向かって連続的に小さく形成され、保護膜8は上面6aと、傾斜部6baと、傾斜側面7aと、頂面7bの周縁領域7baとを覆うとともに、周縁領域7baの内側に半導体層5の表面の一部を露出する通電窓8bを有し、電極層9は通電窓8bから露出された表面と直接接触すると共に上面6a上に形成された保護膜8を覆い、光射出孔9bを有する連続膜である。 (もっと読む)


【課題】高出力化および小型化を図ることができる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置1000では、第1屈曲部212および第3屈曲部232は、第1出射面162aから第1屈曲部212までの第1出射光L1の光路長D1と、第3出射面162bから第3屈曲部232までの第3出射光L3の光路長D3とが、等しくなる位置に配置され、第2屈曲部222および第4屈曲部242は、第2出射面164aから第2屈曲部222までの第2出射光L2の光路長D2と、第4出射面164bから第4屈曲部242までの第4出射光L4の光路長D4とが、等しくなる位置に配置され、第1屈曲部212で反射された第1出射光L1の進行方向、第2屈曲部222で反射された第2出射光L2の進行方向、第3屈曲部232で反射された第3出射光L3の進行方向、および第4屈曲部242で反射された第4出射光L4の進行方向は、同じである。 (もっと読む)


【課題】半導体層を積層して形成された同一層構成の積層面に、発光素子と受光素子とが配設された半導体光集積素子を構成するに当たり、発光素子の動作時には動作電流の増大による発熱や余計な発光を抑えることができ、受光素子の動作時には光の吸収効率を高くする半導体光集積素子を提供する。
【解決手段】基板上に第1の導電型の第1のクラッド層、活性層、及び、第2の導電型の第2のクラッド層を少なくとも含んで積層されてなる発光素子、及び、受光素子が、同一基板上の面内に配置されて成る半導体光集積素子において、
活性層は、導電型の第2の活性領域と、アンドープの第1の活性領域とが積層された構造を備え、
第2の活性領域が、第2の活性領域に対し最も近い位置に積層されている第1もしくは第2のクラッド層と同じ導電型とされている。 (もっと読む)


【課題】長時間使用した場合であっても特性の劣化を抑制できる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子1では、量子井戸層の総膜厚を臨界膜厚よりも大きい範囲とし、かつ量子井戸層の格子不整合を1.0%以上2.5%未満としている。これにより、半導体発光素子1の結晶内部(量子井戸層よりも上層部分)に所定の密度でミスフィット転位が発生し、このミスフィット転位が結晶内部に蓄積された歪みエネルギーを緩和するように作用する。したがって、この半導体発光素子1では、比較的大きな印加電流を長時間通電させた場合であっても結晶内部に状態変化が生じることを抑制でき、特性の劣化を抑制することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】半導体発光デバイスが破損されることなくエレクトロルミネッセンス(EL)を観察できるエレクトロルミネッセンスの観察方法を提供する。
【解決手段】半導体発光デバイス1の第2の電極32の一部及び基板10の一部を研磨して、半導体発光デバイス1に研磨面11を形成する。研磨面11を形成した後に、第1の電極31が接触面40aに接するように、半導体発光デバイス1aを支持体40の上に載置する。プローブ43を第2の電極32aに押し付け、プローブ43と変形した支持体40とにより半導体発光デバイス1aを挟んで、半導体発光デバイス1aを保持する。第1の電極31と第2の電極32との間の印加電流に応答するエレクトロルミネッセンスを半導体発光デバイス1aに発生させる。研磨面11を介して該エレクトロルミネッセンスを観察する。 (もっと読む)


【課題】効率良く射出し、複数の射出面の間隔が大きい発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置100の第1利得領域160は第1面130の垂線Pに対して一方側に傾いて第1面130と接続し、第2利得領域170は垂線Pに対して他方側に傾いて第1面130と接続し、第1利得領域160の第1面130側の第1端面180と、第2利得領域170の第1面130側の第3端面184とは、第1面130において重なり、第1利得領域160及び第2利得領域170は、同じ傾きで第2面132と接続する。曲線形状の第1利得部分162及び第2利得部分172と、直線形状の第3利得部分164及び第4利得部分174とは、第5利得部分166及び第6利得部分176を介して接続され、第5利得部分166及び第6利得部分176と接する場所の絶縁層116の屈折率がスロープ形状もしくは階段形状である第1接続部分140及び第2接続部分150を有する。 (もっと読む)


【課題】複数の光出射部の間隔を大きくすることができ、発光装置がライトバルブの直下に配置された方式のプロジェクターに適用できる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置100は、電極により得られる光の導波路は、帯状の第1領域160および帯状の第2領域162を有し、第1領域160は曲率を備える第1部分162を有し、第2領域170は曲率を備える第2部分172を有し、第1領域160と第2領域170とは、第1層の側面130に設けられる反射部180,184にて接続され、反射部180,184が設けられる側面130に対向し、出射面となる第1層の側面132において第1領域160から出射される第1の光20と、出射面130において第2領域170から出射される第2の光22とは、同じ方向に出射される。 (もっと読む)


【課題】TE/TM偏光比を高くして光の利用効率を向上できる半導体発光素子を実現し、該半導体発光素子をバックライト光源に用いた、偏光板が不要となる液晶表示装置を実現できるようにする。
【解決手段】半導体発光素子は、基板101の上に形成された活性層104及び該活性層104の上に形成されたリッジ導波路107aを含み、前端面及び後端面の少なくとも一方から光を放射する半導体積層体を有している。リッジ導波路107aは、前端面及び後端面との間に少なくとも1つの非接続部となる溝部113を有し、該溝部113によって隔たれた複数の導波路部107a1、107a2及び107a3から形成されている。 (もっと読む)


【課題】発光時の温度上昇を抑制しつつ発光を分散させることにより、明るさのばらつきが少なくかつ長寿命で高効率な発光装置を提供する。
【解決手段】1個当たりの発光面積が2,500πμm以下の複数の棒状構造発光素子210を同一の絶縁性基板200の実装面上に100個以上配置する。 (もっと読む)


【課題】 出射ビーム形状の対称性が改善されており、かつ、レーザ発振抑制等が可能な端面発光型半導体発光素子を提供する。
【解決手段】
半導体層の一部が光導波路202を形成し、
光導波路202は、半導体層の主面方向に沿って形成され、光を出射可能な光出射端面203を有し、
光導波路202の光出射端面203近傍部分は、前記主面に垂直な方向から見た場合に、光出射端面203に向かって左右いずれかに傾斜した形状を有し、
光導波路202の光出射端面203近傍部分において、光出射端面203に向かって左右方向における光導波路202の等価屈折率分布は、光導波路202の右端部および左端部の一方が他方よりも前記分布が急峻であり、かつ、
前記分布が急峻な側の端部は、前記主面に垂直な方向から見た場合の傾斜方向と逆側の端部であることを特徴とする端面発光型半導体発光素子。 (もっと読む)


【課題】発光領域が小さい光機能素子を低コストで提供する。
【解決手段】基板2上の透明薄膜4中に所定の間隔で所定の大きさの孔を配列したフォトニック結晶31が形成され、フォトニック結晶導波路30はこのフォトニック結晶の一部分に孔を形成しない領域を設けることによって形成されている。この導波路の下部に開口部が形成され、当該開口部が埋まるように窒化物半導体を基板上から透明薄膜の上側まで結晶成長させることによって発光素子10が形成されている。 (もっと読む)


【課題】 予定していない位置から光が放出されるのを抑制することができる発光素子アレイを提供する。
【解決手段】 本発明に係る発光素子アレイ1は、DBR層5と、少なくとも一層のn型半導体層11からなるn型半導体領域及び少なくとも一層のp型半導体層15,17からなるp型半導体領域を有する半導体積層部からなり、互いに離間して配置されるとともにDBR層5に接するように設けられた複数の発光素子7と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】良好な断面形状を有する光を得ることができる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る発光装置100は、第3上面102cは、第1上面102aに対して傾いた面であって、かつ第1上面と段差側面103を介して第1上面よりも上方に位置し、活性層106は、平面的に見て、第1上面側の第1側面105と、第1側面と平行な第2上面102b側の第2側面107と、を有し、第1側面は、第2側面より上方に位置し、活性層の少なくとも一部は、利得領域140を構成し、利得領域は、第1側面側の端面150と、第2側面側の端面と、を有し、利得領域に生じる光の波長帯において、第2側面の反射率は、第1側面の反射率よりも高い。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧を低減し、光取り出し効率を向上させた発光素子、その製造方法、ランプ、電子機器及び機械装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板11の一面に、n型半導体層12と、発光層13と、p型半導体層14と、酸化チタン系導電膜層15と、がこの順で積層された発光素子であって、p型半導体層14と酸化チタン系導電膜層15との間に、In、AlまたはGaのいずれかの元素を含む第1の酸化物と、ZnまたはSnのいずれかの元素を含む第2の酸化物とが存在し、前記第1の酸化物及び前記第2の酸化物の全量に対する前記第2の酸化物の質量割合が1〜20質量%の範囲である発光素子1を用いることにより、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】 活性層からクラッド層への電子のオーバーフローを十分に抑制可能な窒化物半導体発光素子及びその製造方法を提供することをその目的とする。
【解決手段】 窒化物半導体発光素子1は、活性層Iと、活性層Iの一方側に設けられたp型クラッド層Lと、p型クラッド層Lと活性層Iとの間に設けられたp型電子ブロック層Kと、活性層Iとp型電子ブロック層Kとの間に設けられた第2ガイド層Jとを備え、活性層I、p型クラッド層L、p型電子ブロック層K、及び第2ガイド層JがIII族窒化物系半導体を含み、ガイド層Jのうちp型電子ブロック層K側に位置する部分は、p型不純物を含むと共にp型電子ブロック層Kとがヘテロ接合を形成する。 (もっと読む)


【課題】多重量子井戸構造内の少なくとも一層にキャリアトラップ部を含むことで、活性領域内に形成される転位などの結晶欠陥による内部量子効率が低下する問題を解決する発光素子を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された第1半導体層と、前記第1半導体層上に形成された第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に介された少なくとも一つの井戸層及び少なくとも一つのバリア層を含む多重量子井戸構造と、を備え、前記多重量子井戸構造内の少なくとも一層に少なくとも一つのキャリアトラップ部を含み、前記キャリアトラップ部は、外周部から中心部に向かってバンドギャップエネルギが減少する発光素子を構成する。 (もっと読む)


【課題】スペックルノイズを低減でき、かつ高出力である新規な発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置100は第1クラッド層と活性層と第2クラッド層とを含み、活性層のうちの少なくとも一部は、複数の利得領域160,162を構成する。活性層の第1側面105の反射率は対向する第2側面107の反射率よりも高く、複数の利得領域の各々は第1側面側から第2側面側に向かって設けられ、複数の利得領域は少なくとも1つの利得領域対をなす。利得領域対の一方の第1利得領域160は直線状の形状を有し、第1側面の垂線Pに対して傾いており、他方の第2利得領域162は円弧の形状を有する曲がり導波路部166を有する。第1利得領域の端面170と第2利得領域の端面174とは重なり面178において重なり、端面172から出射される光20と端面176から出射される光22とは、同一の方向または集束する方向に進む。 (もっと読む)


放射放出半導体チップ(1)は、キャリア(5)と、半導体積層体を有する半導体ボディ(2)と、を備えている。半導体積層体を有する半導体ボディ(2)には、放出領域(23)および保護ダイオード領域(24)が形成されている。半導体積層体は、放射を発生するために設けられている活性領域(20)を備えており、この活性領域は、第1の半導体層(21)と第2の半導体層(22)との間に配置されている。第1の半導体層(21)は、キャリア(5)とは反対側の活性領域(20)の面に配置されている。放出領域(23)は、活性領域を貫いて延在する凹部(25)を有する。第1の半導体層(21)は、放出領域(23)においては、第1の接続層(31)に導電接続されており、この第1の接続層は、第1の半導体層(21)から凹部(25)の中をキャリア(5)の方向に延在している。第1の接続層は、保護ダイオード領域(24)においては、第2の半導体層(22)に導電接続されている。さらに、放射放出半導体チップの製造方法も開示する。 (もっと読む)


【課題】絶縁膜と発光素子部との間の段差で電極が断線しにくく、発光効率の高い発光素子を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体発光素子1は、基板80上に、少なくとも第1の発光素子部10と第2の発光素子部20とを有し、前記第1と第2の発光素子部10、20との間には絶縁膜30が形成され、さらに当該絶縁膜30の上には前記第1と第2の発光素子部10、20を電気的に接続する電極40が形成され、前記電極40及び絶縁膜30はそれぞれ前記第1の発光素子部10上方において延伸され、前記電極40及び絶縁膜30がともに延伸してなる延伸部50を有し、当該延伸部50において前記電極40が前記絶縁膜30の延伸方向の側面351と接して前記第1の発光素子部10と電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 作製工程における環境の温度変化に対して悪影響が小さい発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の発光素子の製造方法は、(1)第1の積層体を複数形成する工程と、(2)5金属体と第2の接合部6とを順次積層して第2の積層体を複数形成する工程と、(3)加熱することにより第1の積層体に前記第2の積層体を実装する工程と、(4)成長用基板1を除去する工程と、(5)支持基板4を除去して第1の電極5とする工程と、(6)光半導体素子2上に第2の電極7とする工程と、を具備する (もっと読む)


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