【課題】 処理容器内を加圧状態にすることなく安定して迅速に常圧復帰させることができ、ＴＡＴの短縮化が図れる減圧熱処理装置及びその常圧復帰方法を提供する。
【解決手段】 処理容器２内に被処理体を収容して所定の減圧雰囲気下で熱処理した後、処理容器２内に流量制御器９により不活性ガスを導入して処理容器２内を常圧に復帰させるようにした減圧熱処理装置１であって、前記処理容器２内の圧力を検出する圧力センサ１８と、熱処理後に処理容器２内に不活性ガスを導入して処理容器２内を常圧に復帰させるときに処理容器２内の圧力が加圧状態にならない不活性ガスの導入流量になるように前記流量制御器１９を制御する制御部１９とを備えている。 （もっと読む）

プラズマ処理装置の上部チャンバの温度コントロール装置が開示される。温度コントロール装置は、プラズマ処理装置の上部チャンバと熱伝導可能かつ互いに移動可能に接続する、内表面と外表面を有する熱伝導体を含む。温度コントロール装置はさらに、少なくとも一つの加熱要素を有し熱伝導体と熱伝導する複数の熱インターフェース層と；熱伝導体と接続しており、プラズマ処理装置の上部チャンバと熱的に結合され、流動体を導通するように構成された冷却要素を有する。そして温度コントロール装置は、プラズマ処理装置の上部チャンバの温度を検出する少なくとも一つの温度センサと；加熱要素と冷却要素の制御のための温度コントロールユニットと；上部チャンバの温度コントロール装置を固定するラッチ機構（latching mechanism）とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】基板処理時に生成する副生成物がロードロック室に残留する水分と接触し化学反応することを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理室２０１と、開口１６１と開口（ウエハ搬送口）１２５とを有したロードロック室１０２であって、開口１６１を介し処理室２０１と連通し、ウエハ搬送口１２５を介し大気雰囲気空間と連通するロードロック室と、ロードロック室内の水分濃度を測定するセンサ３０１と、開口１６１を気密に閉塞するシールキャップ２１９およびゲートバルブ２４４とウエハ搬送口１２５を気密に閉塞するロードロックドア１２３と、センサ３０１の測定結果が予め定めた規定値以下になった際に、シールキャップ２１９またはゲートバルブ２４４を制御して処理室２０１とロードロック室とを連通させるように制御する制御装置１６２とを備える。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、分注工程の終了時において流体の清浄な離脱を確実に行い、分注ノズルにおける流体の結晶化を減らすよう流体分注を制御するシステムおよび方法を提供する。本発明の１つの実施形態は、近距離の第１セグメントに対する第１近距離パラメータに応じて制御弁を閉止させる流量制御信号を発生し、近距離の第２セグメントに対する第２近距離パラメータに応じて制御弁を閉止させる流量制御信号を発生することのできる制御装置を含むことができる。 （もっと読む）

フロー制御装置のインサイチュ検証及び較正のためのシステム及び方法であって、フロー制御装置をフロー検証装置に接続する第１のネットワーク物理層を含む。フロー検証装置のコントローラは、第１のネットワーク物理層を通じてフロー制御装置のそれぞれと通信し、気体に特有の情報と伝達関数とをそれぞれのフロー制御装置から受け取り、それぞれのフロー制御装置のフローを検証するようにプログラムされている。フロー検証装置のコントローラは、更に、第１のネットワーク物理層を通じてフロー制御装置のそれぞれと通信し、必要であれば、フロー制御装置を較正する。フロー制御装置の検証及び較正は、好ましくは、フロー制御装置に接続された第２のネットワーク物理層に接続されたツール・コントローラを介して提供された単一のコマンドに基づいて実行される。
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【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）