【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を信号処理アルゴリズムを用いて解析処理し、検出信号の波形の形状に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果の再現性が評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件及び結像条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果の再現性を向上するようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの検出条件を最適化する。
【解決手段】アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件又は複数の結像条件で検出される。しかる後、得られた検出信号を所定の信号処理アルゴリズムを用いて解析処理することにより検出信号の波形の対称性に関する判定量が求められ（ステップ３０２〜３１０）、その判定量に基づいて複数のマークの検出結果に対するＷＩＳが評価される（ステップ３１２）。そして、その解析結果に基づいて複数の照明条件又は複数の結像条件以外の検出条件が最適化される（ステップ３１４）。これにより、検出結果に対するＷＩＳが最小になるようにアライメントマークの検出条件を最適化することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】粗面を有する発光ダイオード（ＬＥＤ）加工時の改良された光学アライメント方法を提供する。
【解決手段】この方法では、二乗平均平方根（ＲＭＳ）表面粗さσ_ｓを有する少なくとも一つの粗面化アライメントマークがウエハ上に形成される。粗面化アライメントマークは、ウエハアライメントマークが位置するＬＥＤ１０の表面をプラズマエッチングによって粗面化する際に形成される。また、この方法では、約２σ_ｓから約８σ_ｓの範囲の波長λ_Ａを有するアライメント光を利用して、少なくとも一つの粗面化ウエハアライメントマークが結像される。また、この方法では、検出画像がアライメント対照と比較されてウエハアライメントが確立される。ウエハアライメントが一旦確立すれば、ｐ型コンタクト９０ｐ及びｎ型コンタクト９０ｎをＬＥＤの上面の適切な位置にそれぞれ形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
例えば、アライメント計測エラーが発生した場合にスループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
基板を保持して移動するステージを有し、前記ステージに保持された基板に形成されたアライメントマークを照明してその位置を計測し、計測された前記位置に基づいて前記基板を位置決めして露光する露光装置において、前記アライメントマークに対する複数の照明条件を予め設定し、前記複数の照明条件のうちの第１の照明条件でのアライメント計測エラーの発生に基づいて、前記第１の照明条件を前記複数の照明条件のうちの第２の照明条件に変更する制御手段を有する、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透過照明によって基板の位置決めが行えるとともに、加工工具を押圧させて基板加工を行うことができるようにした透過照明付きテーブルを提供する。
【解決手段】赤外光源と、下部に可動機構が取り付けられるとともに、上部にトップテーブルを載置するテーブル載置面が形成された金属製のサブテーブルと、前記サブテーブルのテーブル載置面に面接させる底面、基板を載置する上面、前記赤外光源の赤外光を入射させる入射側面を有し、赤外透過性材料で形成されるトップテーブルとからなり、トップテーブルの内部で、かつ、基板が載置される位置の下方には、入射側面から入射した赤外光を、上面に向けて反射する反射面が設けられるようにする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のためのアライメントシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、狭帯域放射を連続する平らな広帯域放射に変換するように構成された放射源を含んだアライメントシステムを有している。音響学的波長可変狭通過帯域フィルタが広帯域放射を狭帯域直線偏光放射にフィルタリングしている。この狭帯域放射は、ウェーハのアライメントを可能にするために、ウェーハのアライメントターゲット上に集束させることができる。一実施形態では、フィルタは、放射源によって生成される放射の強度および波長を変調し、かつ、複数の同時通過帯域を有するように構成されている。放射源は、高い空間的コヒーレンスおよび低い時間的コヒーレンスを有する放射を生成する。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光装置においてウエハ上に形成された計測用マークを検出する。
【解決手段】マークが形成されたウエハの表面に撥液膜を形成し（ステップ６００）、該撥液膜を介してマークが形成されたウエハ上の領域に光を照射し、該光の物体からの戻り光を受光して前記領域を撮像し（ステップ６０８）、該撮像結果からマークの形成状態を検出する（ステップ６１０）。このため、検出に際して液体の付着が問題とならず、常時液浸タイプの露光装置においても、結像式アライメントセンサ等を用いてマークの形成状態の高精度な検出を、支障なく行うことが可能となる。さらに、撥液膜の膜厚等に応じて検出光の波長帯域を決定し（ステップ６０２）、その波長の検出光を用いて前記領域を撮像することにより、撥液膜による薄膜干渉の影響を受けることなく、マークの形成状態を正確に検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 より簡便な印刷装置を用いて、大型な電子・電気回路をアライメント精度良く製造可能な電子・電気回路の製造方法を提供する。
【解決手段】 印刷法を用いて複数の構成要素を有する素子から成る電子・電気回路を製造するための製造方法である。特定の波長の光又は電磁波を透過する基板１００の裏面に、光又は電磁波の透過率の低いアライメントマーク１１〜１９（マークパターン）を配置し、基板１００の上面から光又は電磁波を照射し、アライメントマーク１１〜１９の位置を検出することによりアライメントを行い、素子の各構成要素を印刷法を用いて形成する。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバ素線の端部を規則的に配列すること
【解決手段】 複数の光ファイバ素線の端部３ａ〜３ｄをそれぞれ収容する複数の開口部２ａ〜２ｄを有するコネクタ１と、該コネクタの前記開口部によってその端部が保持される複数の光ファイバ素線の群３ａ〜３ｄとを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の異なる波長で測定することができ、スループットの低下を抑止できる検査装置（角度分解スキャトロメータ）を提供すること。
【解決手段】角度分解スキャトロメータは、広帯域放射源と、測定で使用するために放射源によって放出された広帯域ビームから１つまたは複数の狭帯域成分を選択する音響光学波長可変フィルタとを使用する。フィードバックループを使用して、選択された狭帯域成分の強度を制御して、ノイズを低下させることができる。 （もっと読む）

【課題】 重ね合わせ検査を実施することなく決定される計測条件での計測精度を改善する。
【解決手段】 本発明は、基板上に配された複数の領域のそれぞれを露光する露光装置である。露光装置は、計測部と処理部とコンソールとを備える。計測部は、該領域に形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて該アライメントマークの位置を計測する。処理部は、該複数の領域のうち少なくとも一部の複数の領域のそれぞれに形成されたアライメントマークの位置を前記計測部に複数の計測条件下で計測させ、該計測条件のそれぞれに関し、該信号の特徴量を求め、該複数の計測条件のそれぞれに関し、該計測された位置を近似する式であって該アライメントマークの設計上の位置の座標変換の式を用いて、該特徴量を近似する該座標変換の式の係数を求める。コンソールは、該複数の計測条件のそれぞれに関して求められた該係数を表示する。 （もっと読む）

【課題】計算の複雑さの増大およびそれによる計算時間の増大なく、言い換えるとリソグラフィ装置での基板のスループットの低減なく、できるだけ多数のデータ点を使用する異常検出／分類システムを提供する。
【解決手段】スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。関連付けは、生データのばらつきを既知のメトロロジデータと比較することによって実施される。異常が確認された後、利用者はその異常の通知を受けることができる。 （もっと読む）

【課題】角度分解スペクトロスコピリソグラフィを特徴付けるための装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】基板のすべての部分を検査するために、基板テーブルは回転移動および直線移動することができる。さらに、ディテクタは回転移動することができる。これにより、基板表面のすべての部分を該基板に平行な面のすべての角度から検査することが可能となる。直線移動を少なくすることが必要とされるため、当該装置は必要とする空間が小さく、かつ振動も小さい。 （もっと読む）

【課題】熱エネルギーによってマスクが変形するのを抑制すること。
【解決手段】発光ダイオードＬＤの発光による照射光を半導体ウェハ１８とマスク４０の照明エリアに対して照射する照明手段として、発光ダイオードＬＤと、発光ダイオードＬＤを間欠的に点灯する点灯制御回路を備える。点灯制御回路は、発光ダイオードＬＤを必要なときにのみ点灯するために、発光ダイオードＬＤを瞬時ストロボ発光させる。マスク４０に常時光が照射されることはなく、マスク４０に与える熱エネルギーの影響が極めて小さくなり、マスク４０の変形を抑制することができる。 （もっと読む）

基板（３）上にパターニングされた複数の層を動的に整合させる方法は、第一の層を基板上に積層するステップと、第一の層の上に第一のパターン（２０）を印刷するステップと、第一のパターンの上に第二の層を積層するステップと、第二の層の上に第二のパターンを印刷し、その間、第一のパターンを動的に検出して、第二のパターンを第一のパターンに位置合わせするステップを含む。
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【課題】１８０度の対称性を有するアライメント用照明ビームを形成するシステムを提供する。
【解決手段】補正部により調整されたビーム３４８は補正部３４０から出力され、干渉計３４２に受光される。干渉計３４２は、調整されたビーム３４８を第１のビームと第２のビームとに分離し、一方のビームに対して他方のビームが１８０度となるよう第１のビームと第２のビームとを回転させる。干渉計３４２は、回転させた第１のビームと第２のビームを再合成して再合成ビーム３５０を形成する。再合成ビーム３５０は、分析部３４６に受光される。分析部３４６は、再合成ビーム３５０の偏光成分の一方のみを出力ビーム３５２として出力する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成でありながら、透明パターンを確実に検出することが可能なパターン照明装置および基板の位置決め装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 一対のＬＥＤ３ａの光軸は、ガラス基板１１の表面と平行な平面においては、第１の方向と平行な方向を向く。これら一対のＬＥＤ３ａの光軸は、ＣＣＤ１３カメラの光軸を含む平面においては、そこから出射された光が直接ＣＣＤカメラ１３に入射しない角度θだけ光軸に対して傾斜した方向を向く。また、一対のＬＥＤ３ｂの光軸は、ガラス基板１１の表面と平行な平面においては、第１の方向とは直交する第２の方向を向く。また、一対のＬＥＤ３ｂの光軸は、ＣＣＤ１３カメラの光軸を含む平面においては、そこから出射された光が直接ＣＣＤカメラ１３に入射しない角度θだけ光軸に対して傾斜した方向を向く。 （もっと読む）

【課題】ワークの種類、アライメントマークの種類が様々に変化した場合でも、高コントラストの画像を取得できるようにする。
【解決手段】アライメント用光源ユニット１００Ａは、カメラ３０、照明装置１０２のほか、変更部１１０、画像処理部１１２、抽出部１１４、設定部１１６とを有する。変更部１１０は、設定部１１６からの情報に基づいて移動機構１１８を駆動制御し、照明装置１０２を所望の位置に移動させる。画像処理部１１２は、カメラ３０からの撮像情報に基づいて、アライメントマーク５０とその周辺部１０４のコントラストに関する定量データを取得する。抽出部１１４は、コントラストが最適になる離間幅を定量データに基づいて抽出して最適離間幅とする。設定部１１６は、照明装置１０２とアライメントマーク５０との離間幅が最適離間幅となるように変更部１１０に情報を与える。 （もっと読む）

【解決手段】一実施形態では、取得ターゲットもしくはオーバレイまたはアライメント半導体ターゲット（４０４）を画像化するためのシステムが開示されている。そのシステムは、波長λを有する少なくとも１つの入射ビーム（４０２）を、特定のピッチｐを持つ構造を有する周期的なターゲット（４０４）に向けるためのビーム発生器を備える。少なくとも１つの入射ビーム（４０２）に応じて、複数の出力ビーム（４０６）が、周期的なターゲット（４０４）から散乱される。そのシステムは、さらに、ターゲット（４０４）からの第１および第２の出力ビーム（４１２ａ、４１２ｂ）のみを通すための結像レンズ系（４１０）を備える。画像化システムは、第１および第２の出力ビーム（４１２ａ、４１２ｂ）が、正弦波画像（４１４）を形成するように、捕捉されたビームの間の角度分離と、λと、ピッチとが選択されるよう適合される。そのシステムは、さらに、１または複数の正弦波画像（４１４）を画像化するためのセンサと、少なくとも１つの入射ビーム（４０２）を１または複数のターゲット（４０４）に向けるように、ビーム発生器を制御すると共に、１または複数の正弦波画像（４１４）を解析するための制御部とを備える。 （もっと読む）