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Fターム[5F064BB27]の内容

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Fターム[5F064BB27]に分類される特許

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【課題】回路規模を低減しつつ任意の論理を実現可能な半導体集積回路を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体集積回路は、第1論理ブロックを少なくとも1つ含む第1回路群と、第1論理ブロックよりも多い数の第2論理ブロックを含む第2回路群と、入力データを第1論理ブロックまたは第2論理ブロックへ入力する機能、および、第1論理ブロックまたは第2論理ブロックから出力される出力データを外部へ出力する機能を有する入出力部とを含む。第1回路群は、第1スイッチブロックと、第1電源制御回路とを有する。第1電源制御回路は、第1回路群に含まれる第1論理ブロックおよび第1スイッチブロックに対する電力の供給および停止を共通に制御する。第2回路群は、第2スイッチブロックと第2電源制御回路とを有する。第2電源制御回路は、第2回路群に含まれる論理ブロックおよび第2スイッチブロックに対する電力の供給および停止を共通に制御する。 (もっと読む)


【課題】高品質な半導体装置を提供する。
【解決手段】第1の絶縁膜111、第1の電極112、第2の絶縁膜113、及び第2の電極114を含むゲート構造を有するメモリセルMCが複数設けられた記憶部11と、少なくとも外部100からのデータを受信し、記憶部にデータを供給する端子15と、第1の絶縁膜、第1及び第2の電極とを含むゲート構造を有し、電流経路の一端に第1の電圧が印加される第1導電型の第1のトランジスタ16a、一端が第1のトランジスタの電流経路の他端に接続され、他端が端子に接続される第1の抵抗素子16b、一端が端子及び第1の抵抗素子の他端に接続される第2の抵抗素子16c及び、ゲート構造を有し、電流経路の一端が第2の抵抗素子の他端に接続され、電流経路の他端に第2の電圧が印加される第2導電型の第2のトランジスタ16dを含む第1の回路16と、を備える。 (もっと読む)


【課題】共通放電経路との間の異種電源間ESD保護回路をそれぞれの電源のパッドの近くに配置することのできる半導体集積装置を提供する。
【解決手段】実施形態の半導体集積装置1は、パッドPと、自己電源用ESD保護回路ESD1とを有し、VDDc系統の電源供給に使用の電源用I/OセルIOC1と、パッドPと、自己電源用ESD保護回路ESD1と、異種電源間ESD保護回路ESD2とを有し、VDDa、VDDb系統の電源供給に使用の電源用I/OセルIOC2とを備える。信号入出力用I/OセルIOC100と同一外形寸法の電源用I/OセルIOC1およびIOC2が、列状に配置されたIOC100と同列に配置され、電源用I/OセルIOC2の異種電源間ESD保護回路ESD2へ接続される共通放電経路CDLが、電源用I/OセルIOC1から、列状に配置されたIOC100を貫通して、電源用I/OセルIOC2へ配線される。 (もっと読む)


【課題】複数の回路ブロックの特性を正確に一致させる。
【解決手段】例えば、端子31A,31Bと、これら端子間に設けられた回路110A,110Bを備える。回路110Aは端子31Aに接続され、端子31Aから端子31Bへ向かって配置されたセル120A,130A,140Aを含む。回路110Bは端子31Bに接続され、端子31Bから端子31Aへ向かって配置されたセル120B,130B,140Bを含む。セル120A,120Bのレイアウトは、形状、サイズ及び向きがトランジスタレベルで同一である。セル130A,130B及びセル140A,140Bのレイアウトは、形状及びサイズが同一であり、トランジスタの向きが180°相違している。これにより各セルを対称配置しつつ、センシティブなセル120A,120Bにおいては電流方向の違いによる特性差が生じない。 (もっと読む)


【課題】ウエハーテストにおいて、キャリブレーション動作の評価を、容易、かつ高精度に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】キャリブレーション端子ZQを駆動するレプリカバッファ(131)と、レプリカバッファの出力インピーダンスを変化させる際に目標となるインピーダンスが設定され、キャリブレーション端子ZQに接続される可変インピーダンス回路(170)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】内部コアエリアのトランジスタを犠牲にすることなく、周辺エリアのトランジスタを用いてリップルフィルタによる電源供給回路を構成する。
【解決手段】入出力回路を構成するためのトランジスタが配列されてなる周辺エリア(図2の12に相当)をチップ上に有する半導体集積回路装置であって、ドレインを電源に接続し、ソースを負荷側に接続し、ゲートを容量素子(図2のC1)を介して交流的に接地する第1のトランジスタ(図2のMN1)と、容量素子をゲート・基板間によって形成する第2のトランジスタと、を周辺エリアに備える。 (もっと読む)


【課題】ドライバの故障による出力異常を救済することが可能な故障検出救済回路を含んだ半導体装置を提供すること。
【解決手段】故障検知部1は、ドライバ10の出力の期待電位の逆電位となるようにドライバ10の出力にプルアップ抵抗15またはプルダウン抵抗18を接続し、ドライバ10の入力電位と出力電位とを比較することによりドライバ10の故障を検出する。故障救済部2は、故障検知部1によってドライバ10の故障が検出された場合に、期待電位と同電位となるようにドライバ10の出力にプルアップ抵抗26またはプルダウン抵抗29を接続してドライバ10の故障を救済する。したがって、ドライバ10の故障による出力異常を救済することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路の自動レイアウト設計において、必要な領域に対しては配線混雑の緩和を行い、かつ、不必要な面積増大を抑制する。
【解決手段】単位領域当たりのネットの数の上限をネット密度制約として設定する(ST105)。ネット密度制約を満たすようにセルを配置する(ST106)。セル配置工程(ST106)では、仮配置されたセルのレイアウトに対し、単位領域に存在する端子を抽出する。そして、抽出した端子に接続されるネットをネットリストを参照して抽出する。抽出したネットの数が前記ネット密度制約を満たすようにセルの配置を変更する。 (もっと読む)


【課題】短時間でレイアウト構成を行うことができる半導体集積回路及びそのレイアウト方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様である半導体集積回路100は、出力回路11、信号分岐用セル12、マスタ回路13及びチェッカ回路14を有する。出力回路11は、出力信号を出力する。信号分岐用セル12は、出力信号を分岐した第1及び第2の出力信号を出力する。第1及び第2の出力信号に分岐される前の出力信号が伝搬する共通線部である第1の配線16の長さは、制約値X以下である。マスタ回路13は、第1の出力信号を受ける。チェッカ回路14は、第2の出力信号を受け、マスタ回路13と冗長構成回路を構成する。 (もっと読む)


【課題】入出力(I/O)積層体を含むシステムを提供する。
【解決手段】入出力(I/O)積層体を含むシステム及びこのシステムを製造する方法が記述されている。一実装において、本方法は、I/O素子を含むと共に論理素子を含まないI/Oダイを積層するステップを有する。又、一実装において、本方法は、I/Oダイに対して集積回路ダイを積層するステップを更に含む。集積回路は、論理素子を含み、且つ、I/O素子を含まない。集積回路ダイからI/Oダイを分離することにより、それぞれのダイの独立的な開発や従来のダイのものとの比較におけるI/OダイのI/O基板上のI/O素子用の相対的に大きな空間などの様々な利益が得られる。空間の増大により、多数の論理素子を集積回路ダイの基板の同一の表面積内に収容する集積回路ダイの新しいプロセス世代が可能となる。 (もっと読む)


【課題】内側のセル列と外側のセル列とでセルの形状が同じ場合において、内側のセル列におけるセルの配列ピッチを外側のセル列におけるセルの配列ピッチより大きくしなくても外側のセル列のセルに接続される配線のための領域を確保することができる。
【解決手段】半導体集積回路は、半導体チップの外周11に沿って配置される複数の第1セル40と、複数の第1セル40の内側で外周11に沿って配置される複数の第2セル40とを具備する。複数の第1セル40及び複数の第2セル40は同一の長方形形状に形成される。複数の第1セル40のそれぞれの長辺4aは外周11に平行である。複数の第2セル40のそれぞれの長辺4aは外周11に垂直である。 (もっと読む)


【課題】過度にシステムの中にスキューを増加させずに、増加した数の入力/出力デバイスを有するシステムを提供する。
【解決手段】論理回路を備えるコアと、処理コアからおよび処理コアへ信号を伝送するための、複数のインターフェースデバイスであって、2つのタイプのインターフェースデバイスを備える、複数のインターフェースデバイスと、コアに電力を送達するための、電力インターフェースデバイスである、1つのタイプと、コアと集積回路の外部のデバイスとの間で、データ信号を伝送するための信号インターフェースデバイスである、第2のタイプと、を備え、複数のインターフェースデバイスは、コアの外縁に向かう外側列、およびコアの中心により近い外側列の内側にある内側列の、2列に配設され、内側列は、2つのタイプのインターフェースデバイスのうちの一方を備え、外側列は、2つのタイプのインターフェースデバイスのうちの他方を備える、集積回路が開示される。 (もっと読む)


【課題】メーカーの設計負担を増加させることなくセルタイプの異なるICを実現することができるとともに、チップサイズおよび消費電力並びに動作速度が最適化された半導体集積回路を容易に実現可能な設計技術を提供する。
【解決手段】所望の機能を有する回路セルの設計情報を目的別にオブジェクトとして記述し、所定のオブジェクトの情報の削除もしくは追加のみで基体電位固定型セルと基体電位可変型セルのいずれをも構成可能なセル情報として、セルライブラリに登録するようにした。 (もっと読む)


【課題】プログラマブルゲートアレイ部を備えるマスクプログラマブル論理装置を提供すること。
【解決手段】集積回路の基板上に配置される複数のマスク−プログラマブル領域と、上記マスク−プログラマブル領域に結合されると共に上記マスク−プログラマブル領域を相互接続するために基板上に配置される複数の相互接続導体と、基板上に配置される複数のゲートアレイ部とからなり、ゲートアレイ部はマスクプログラマブル論理装置上の回路設計の実行を促進する少なくとも一つの機能を達成するようにプログラム可能である集積回路上に配置されるマスク−プログラマブル論理装置。 (もっと読む)


【課題】積層チップシステムにおいて、各チップのIO回路の大きさを、そのドライブ能力やESD耐性能力を維持した上で、従来のサイズから縮小し、積層システムでは積層数に応じてIO数を変化させることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】積層チップシステムにおいて、各チップは、各IO用の貫通ビア接続用パッド201に接続するIO回路202、スイッチ回路206にてIOチャネル207を構成し、このIOチャネル207を最大積層予定数のIOチャネル分まとめて接続してIOグループを構成し、このIOグループを1個以上持つ。各IO用の貫通ビア接続用パッド201は、貫通ビアにて別層のチップの同一位置のIO端子と接続される。インターポーザにおいては、実際の積層数が最大積層予定数に満たない場合はインターポーザ上で隣接するIOグループ内のIO用の接続用パッドが導体で接続されている。 (もっと読む)


【課題】半導体基板のデッドスペースにロジックセルを配置することで、半導体装置の集積率を向上させる、半導体装置の設計方法および半導体装置を提供する。
【解決手段】長さが異なる複数サイズのI/Oバッファセルからなる複数種類のセルセットを用意するステップと、セルセットの中で長手方向の長さが最も長い第1のI/OバッファセルとダミーI/Oセルとを、I/O領域に半導体基板の辺に沿って長手方向が該辺に直交するように隣接して配置するステップと、ダミーI/Oセルを削除して空き領域を形成し該削除されたセルに隣接する所定数の第1のI/Oバッファセルを、機能および駆動能力が等しく、長手方向の長さが短い第2のI/Oバッファセルに置き換えることによりコア部と空き領域とをつなぐ接続領域を広げるステップと、該空き領域に内部回路の一部を配置するステップとを有することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】RDRに従い設計され、活性領域と電源配線との境界部や周辺部における不具合の発生が抑制された、小型化かつ高集積化された半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも1つのスタンダードセル内における半導体基板SBの主表面に形成される第1導電型の機能素子用不純物領域Apと、電源電位が印加される第2導電型の電源電位用不純物領域Anとを備える。半導体基板SBの主表面上に形成され、かつ半導体基板SBの主表面に達する貫通孔SCTHを有する絶縁層II1、II2と、絶縁層II1、II2の貫通孔内に形成されたコンタクト用導電層PCLとを備える。上記機能素子用不純物領域Apと電源電位用不純物領域Anとをまたぐように形成されるコンタクト用導電層PCLを通じて電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路装置の性能を下げることなく、コスト低減及び小型化を図ることができる半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】内部回路と、外部から入力された入力信号を内部回路に供給及び内部回路から供給された出力信号を外部に出力する入出力回路と、を有する半導体集積回路装置であって、内部回路に駆動電圧を供給するための内部回路用電源端子と、入出力回路に駆動電圧を供給するための入出力回路用電源端子と、内部回路及び入出力回路に共通のグランド電圧を供給するための共通グランド端子と、を有し、内部回路用電源端子、入出力回路用電源端子、及び共通グランド端子が隣り合って配置されることによって当該3つの端子から単位端子群が形成されていること。 (もっと読む)


【課題】チップの設計期間を短縮する。
【解決手段】CPU1は、設計対象の回路を構成するセルのうち、所定のサイズより大きいセルサイズを有するセルのみの回路情報をゲートレベルで記述した簡易ネットリスト43と、所定のサイズより大きいセルサイズを有するセルのみの仕様データを含むセルリスト44とを用いてフロアプランを行い、仮フロアプランデータ47を生成する。CPU1は、ユーザによって回路全体のフロアプランが行われるときに、回路を構成するセルの仕様データである全体ライブラリ42と、回路を構成するセルの回路情報をゲートレベルで記述した全体ネットリスト45と、仮フロアプランデータ47と、簡易ネットリスト43を全体ネットリスト45に整合させるためのセルリスト44とを出力する。 (もっと読む)


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