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Fターム[5F064DD07]の内容

ICの設計・製造(配線設計等) (42,086) | ICの構造(配線を除く) (6,653) | 素子、セル、ブロック等の配置、レイアウト (5,076) | 素子、セル、ブロックの大きさ (500)

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Fターム[5F064DD07]に分類される特許

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【課題】結晶化半導体薄膜に対して適正かつ効率的なフォトマスクの作成を可能にする。
【解決手段】薄膜トランジスタ回路は各々所定サイズを越える結晶粒SXを収容する複数の結晶粒規定領域10に2次元的に区画される結晶化半導体薄膜5と、各々のチャネル領域CHが対応結晶粒規定領域10内の中央に配置される複数の薄膜トランジスタと、複数の薄膜トランジスタを相互接続する配線部とを備える。 (もっと読む)


【課題】 動作検証内容に応じた特性ライブラリを作成することにより高精度の動作検証ができる半導体集積回路の動作検証システム及び動作検証方法を提供する。
【解決手段】回路セル設計レイアウト情報を入力して、仕上がりレイアウトを予測し、ネットリスタ8を用いて、仕上がり予測レイアウト情報に基づいてネットリスト変換を行ない、消費電力についての動作検証に用いる第1ネットリスト4aと、遅延についての動作検証に用いる第2ネットリスト4bと、容量についての動作検証に用いる第3ネットリスト4cとを作成する。回路シミュレータ9により、各ネットリスト4a,4b,4cを用いて、動作検証を行なった結果は、第1〜第3特性ライブラリ5〜7に格納される。 (もっと読む)


セルをアレイ中に配置する方法が開示されている。方法は、第1のアレイ中にセルを複数回(600、602、604)配置する工程を含む。セルは、また第2のアレイ中にも複数回(606、608、610)配置される。第2のアレイは、第1のアレイからオフセット距離(O)だけ離して隣接して配置される。
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【課題】
従来のレイアウト設計法では、半導体集積回路上で局所的に消費電流が大きくなる場合などの消費電流分布の偏りが考慮されていなかった。
【解決手段】
本発明は、最上層配線と下層配線とを電気的に接続する電源接続セルを配置する半導体集積回路のレイアウト設計方法であって、半導体集積回路上に複数の機能ブロックの配置を設定する工程と、機能ブロック配置領域外の半導体集積回路形成領域に電源接続セルを複数配置する工程と、電源接続セルの配置に基づいて、最上位配線の電圧降下の影響を解析する工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】3値出力多チャンネル半導体集積回路のレイアウトに関し、半導体集積回路の集積度向上と、出力特性を安定化させるための、最適な半導体集積回路レイアウトの設計を提供する。
【解決手段】3値出力回路は、出力ボンディングパッドを中心に一方に第2ハイサイドトランジスタ5、ダイオード8、第2レベルシフト回路7を配置し、もう一方にはローサイドトランジスタ10、第1ハイサイドトランジスタ4、第1レベルシフト回路6、プリドライバ9を配置することによって、各セルを1列に配置し、第2ハイサイドトランジスタ5とローサイドトランジスタ10は出力ボンディングパッド11を挟み、前記第1レベルシフト回路6と前記第2レベルシフト回路7と前記プリドライバ9のセル幅は、前記ローサイドトランジスタ10のセル幅に相当する。 (もっと読む)


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