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Fターム[5F088GA02]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 基板(その上に素子本体が形成されるもの) (729) | 材料 (664) | 絶縁性基板(ガラス等) (299)

Fターム[5F088GA02]に分類される特許

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【課題】赤外線を検出する検出感度をより向上させた量子ドット型赤外線検知器を提供する。
【解決手段】中間層1と、中間層1に挟まれ、且つ、キャリアに対するエネルギーポテンシャルが低い量子ドット4を含む量子ドット層2により形成される量子ドット構造7を有する量子ドット型赤外線検出器である。中間層1と量子ドット4が、V族元素がAsであるIII-V族化合物半導体からなり、中間層1と量子ドット4を含む量子ドット層2との界面の一方で、且つ、少なくとも量子ドットを覆うようにAlAs層5が設けられている。量子ドット3と中間層1を構成する元素の相互拡散を防止して量子ドット/中間層界面を急峻にし、それによって検出感度を向上する。 (もっと読む)


【課題】フォトダイオードの下部電極と、データとの間の寄生容量を低減する。
【解決手段】本発明に係るフォトセンサーは、ガラス基板1と、ガラス基板1上に設けられ、ガラス基板1よりも低い誘電率を有する下地絶縁膜19と、下地絶縁膜19上にゲート電極2、ゲート絶縁膜3、半導体層4を積層してなり、半導体層4に接続されたドレイン電極7を有するスイッチング素子とを備える。ドレイン電極7は、下地絶縁膜19表面に直に接する延設部分を有する。そして、ドレイン電極7の延設部分上に設けられたフォトダイオード20をさらに備える。 (もっと読む)


【課題】表示装置のバックライトの照度制御に特に好適な光センサ及びそれを備えた表示装置を提供すること。
【解決手段】a−Si TFTから構成されるトランジスタTr1に光が照射されることによって出力される光電流信号Idを増幅回路によって増幅する。この増幅回路は、光電流信号Idを電圧に変換するトランジスタTr2と、電圧増幅を行うトランジスタTr3、Tr4と電流増幅を行うトランジスタTr5とを有し、何れもa−Si TFTから構成されている。バックライトの照度制御は増幅回路によって増幅された電流に基づいて行われる。 (もっと読む)


【課題】基板製造時の静電気不良の発生を防ぐ一方で、駆動時のリーク電流による信号値の変動を抑制することができる画像検出装置を提供する。
【解決手段】TFTアクティブマトリクス基板10の製造時に各データ配線3に発生する静電気は、双方向ダイオード30Aを介して共通配線110に放電される。また、双方向ダイオード30Aは、第1許容レベルが保護回路112の第2許容レベルよりも高くなるように構成しているので、駆動時の各データ配線3に発生するリーク電流は、保護回路112を介して共通配線111A、111Bに放電される。 (もっと読む)


【課題】真空プロセスおよび溶液プロセスのいずれによっても成膜可能で、キャリア輸送性が高く、赤外領域において光吸収および高い光電変換特性を示す有機半導体材料、およびこれを用いた電子デバイス(特に有機トランジスタ、有機光電変換素子)を提供する。
【解決手段】下記に示す特定の構造を有するナフタロシアニン誘導体からなる有機半導体材料、およびこれを用いた膜、電子デバイス、有機トランジスタ、有機光電変換素子。
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【課題】アモルファスセレンを備えた放射線画像検出器の焼き付きを防止する放射線画像検出器用収納容器を提供する。
【解決手段】ケース部10,11の全面が600〜700nmの全波長の光に対して透過率10%以下となるようにする。 (もっと読む)


【課題】小型・簡便な固体素子型の火炎センサーとして利用可能な紫外線センサーなどに応用される(Ga1‐xInx23(ただし、0<x<1)混晶であって、x値を任意に設定することが可能な(Ga1‐xInx23混晶を低コストで製造する。
【解決手段】2‐メトキシエタノールとモノエタノールアミンの混合溶液にガリウムイソプロポキシドとインジウムイソプロポキシドを溶解させたゾルを基板上に塗布し、空気中600〜1200℃で30〜90分焼成することにより薄膜を得る。ガリウムイソプロポキシドとインジウムイソプロポキシドとは任意の比率で混合される。これにより、(Ga1‐xInx23混晶のx値を任意に設定でき、x値に応じて250〜280nmの紫外光が検出できる。 (もっと読む)


【課題】保護膜を接着する構成であっても、保護膜の変動を防止又は抑制する。
【解決手段】外部の気圧低下や温度上昇により粘着シート120と保護フィルム108との間の空間128の気体が膨張しても、膨張した気体が、バッファ空間110に移動し、柔軟な保護フィルム108Aの作用によってバッファ空間110の体積が大きくなる。つまり、粘着シート120と保護フィルム108との間の空間128の体積変動がバッファ空間110によって吸収される。したがって、保護フィルム108の変動が防止又は抑制される。これにより保護フィルム108の剥離が防止される。 (もっと読む)


【課題】感度安定性、残像特性を改善した画像検出装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板1上に、X線が照射されることにより電荷が発生する半導体膜6が形成されると共に、各々対向配置された2つの蓄積容量上部電極18、蓄積容量下部電極14を含み、半導体膜6に発生した電荷を画像を構成する画素の情報として蓄積する複数の電荷蓄積容量5が半導体膜6とガラス基板1の間に形成されたTFTアクティブマトリクス基板10と、TFTアクティブマトリクス基板10のガラス基板1側の面に対して光を照射するバックライト40と、を備え、蓄積容量上部電極18、蓄積容量下部電極14は、半導体膜6の当該電荷蓄積容量5が形成された領域に対してバックライト40から所定強度以上の光が照射されるように形成した。 (もっと読む)


【課題】放射線検出器の基板の端面における保護層の破損を抑制する。
【解決手段】保護層554が、ガラス基板536上に設けられた放射線検出層522の上面に形成された上部電極518上を覆い、保護層554の端部は、ガラス基板536の端面に達している。ガラス基板536の下面から保護層554の表面にかけて形成された補強フィルム566が、保護層554の端部を覆う。これにより、保護層554の端部のガラス基板536の端面への付着性が向上し、時間が経過しても保護層554の端部に捲れが発生しにくく、保護層554の破損を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】光導電性有機半導体を用いながら微弱光を検出する能力が優れた有機薄膜受光素子を提供する。
【解決手段】基板上に、形成された第1の電極1と、前記第1の電極1上に、形成された第2の電極2と、前記第1の電極1と前記第2の電極2との間の挟持された領域に光導電性有機半導体材料から成る光導電性有機半導体層4と、を備え、前記第1の電極1または前記第2の電極2のうち少なくとも一方の電極は、近紫外線領域から近赤外線領域までの任意の波長の光に対して光透過性を有し、前記光導電性有機半導体層4内には、さらに第3の電極3を配する。 (もっと読む)


【課題】解像度を改善できる放射線検出器を提供する。
【解決手段】蛍光変換膜14上に、透明かつ粘着性を有する粘着物質34とこの粘着物質34より屈折率が高い無機物質35の粉末との混合体によって構成された光反射層33を形成する。光反射層33により、水分遮断性を確保して蛍光変換膜14の劣化を防止するとともに、蛍光変換膜14で変換された可視光の利用効率を改善する。光反射層33は蛍光変換膜14の内部へ浸透せず、解像度を改善できる。 (もっと読む)


【課題】多層化しても直径が均一な量子ドットを有する半導体量子ドット素子、およびその製造方法を提供することを可能にする。
【解決手段】III族元素を含む窒化物半導体層10、16a、16b、16c、16d、16eと、前記窒化物半導体層上に形成されたSiがドープされたIII族元素を含む窒化物半導体からなる複数の量子ドットを有する量子ドット層12a、12b、12c、12d、12eとが交互に積層された多層構造を備え、前記Siのドープ量が前記量子ドット層毎で異なっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放射線画像検出器本体の放電破壊を招くことなく、周囲の雰囲気からの水分吸収を阻止する。
【解決手段】密閉空間内に放射線画像検出器本体20を配置するとともに、放射線画像検出器本体20および放射線画像検出器本体に電圧を供給する電線21と放電が起きない程度の距離を空けて乾燥剤50を配置する。 (もっと読む)


【課題】放射線画像検出器を電極と記録用光導電層との間に結晶化防止層を設けても皺の発生を抑制することが可能なものとする。
【解決手段】基板1上に、複数の基準電極2と、a−Seを主成分とする記録用光導電層5と、As,Sb,Biからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含有するa−Seからなる結晶化防止層4’と、バイアス電極7をこの順に積層してなる放射線画像検出器10において、記録用光導電層5と結晶化防止層4’との間に、金属フッ化物、金属酸化物、SiOx、GeOx(xはともに0.5≦x≦1.5)からなる群より選ばれる少なくとも一つの特定物質を含有したa−Seからなる熱変形防止層6を設ける。
(もっと読む)


【課題】機能膜を有する機能性素子の機能膜の特性を向上させながらも、機能性素子全体の特性劣化を低コストで防ぐことが可能な機能性素子の製造方法を提供する。
【解決手段】互いに対向する一対の電極7,9と、電極7,9間に挟まれた光電変換膜8とを有する光電変換素子の製造方法であって、電極7上に光電変換膜8を形成する工程(図2(a))と、光電変換膜8上に電極9を形成する工程(図2(b))と、光電変換膜8の特性を向上させるために行うアニール処理による電極9の変質を防ぐための変質防止膜11を電極9上に形成する工程(図2(c))と、変質防止膜11形成後にアニール処理を施す工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】個々の部品の精度を抑えつつも高精度なパッシブアライメントを実現する光サブアセンブリを提供する。
【解決手段】光サブアセンブリ10は、光モジュール1とスリーブ部材6を備える。光モジュール1は、光電変換素子を搭載したリードフレーム4と、少なくともリードフレーム4の素子搭載領域を封止する透明樹脂3を有する。リードフレーム4は、嵌合係合部44aを未封止領域に有し、樹脂3は、光ファイバの光軸と一致するスリーブ部材6の光軸を挟んで嵌合係合部44aに対応する領域に、嵌合係合補助部を有し、スリーブ部材6は、嵌合係合部44a及び嵌合係合補助部にそれぞれ対応する被係合部62aと被係合補助部62dを有する。嵌合係合部44aと被係合部62a、及び嵌合係合補助部と被係合補助部62dがそれぞれ嵌合することにより、光モジュール1とスリーブ部材6が光学的に調芯される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置のスルーホールの配線部を他の回路基板にハンダ付けする場合、ハンダ付け性が良く、ハンダの吸い上がりによるハンダ付け強度を増大し、且つハンダ付けが確実に行われているかどうかの検査を容易に行うことができる半導体装置を提供する。
【解決手段】端面にスルーホールを有し、スルーホール内に形成された配線部と導通する配線パターンを少なくとも一方の面に有する方形の基板の面に半導体素子を搭載固定し、半導体素子の電極を配線パターンに電気的に接続し、半導体素子を有する基板の面を樹脂で被覆した半導体装置において、スルーホールは、基板面に配線部と導通する0.02mm以上の幅のスルーホールランドを有し、配線部及びスルーホールランドが露出している。 (もっと読む)


【課題】放射線検出器を長期に亘って電気特性(暗電流、欠陥)を維持することが可能なものとする。
【解決手段】画像情報を担持した記録用の電磁波を透過するバイアス電極7と、バイアス電極7を透過した記録用の電磁波の照射により電荷を発生するa−Seを主成分とする記録用光導電層5と、前記発生電荷を蓄積する蓄電部と、複数の基準電極2と、基板1とをこの順に積層してなる放射線画像検出器において、バイアス電極7と記録用光導電層5との間に、特定物質として、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、SiOx、GeOx(xはともに0.5≦x≦1.5)のうち少なくとも1種を含有するa−Se層であって、かつ前記特定物質の濃度が0.003〜0.03モル%である中間層6を設ける。 (もっと読む)


【課題】チップサイズパッケージ型の青色レーザ対応受光素子であって、小型化でき、高信頼性を有し、低コストで製造できるものを提供すること。
【解決手段】半導体基板11Sの各受光チップ11を形成すべきチップ領域毎に、受光領域19、電極パッド16を設けてなるウェハを用意する。ウェハに封止部17を介してガラス板18を対向させて接着する。ウェハの裏面側から貫通穴29を形成し、絶縁膜15および裏面配線14を設ける。ウェハとガラス板18とを一括してダイシングする。 (もっと読む)


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