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Fターム[5F088GA02]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | 基板(その上に素子本体が形成されるもの) (729) | 材料 (664) | 絶縁性基板(ガラス等) (299)

Fターム[5F088GA02]に分類される特許

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本発明は、電離放射線を検出する検出器において、前記検出器からの信号の読出しと評価とを行う読出し装置に接続するように配置された少なくも1つの検出器を含み、前記少なくも1つの検出器はキャリア材料とキャリア材料に適用される活性検出器材料を含む1つの層(4)とを含み、前記活性検出器材料は、前記層(4)に入射する電離放射線(3)を受信する場合、前記層(4)内の前記活性検出器材料に電離を引起すように配置され、前記層(4)に電界を印加し、それにより前記電離は電流を生じ、前記読出し装置は、前記入射電離放射線(3)をこの方式で検出することができるように配置される検出器である。本発明の検出器は、前記層内の前記活性検出器材料には電離放射線が検出可能な電流を生ずる程度までZnOを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】画像モアレを防止できるX線検出器を提供する。
【解決手段】光導電層41に画素電極6の周縁に沿うような形で溝部44を形成する。溝部44にX線吸収体45を充填する。光導電層41内に入射したX線の散乱X線をX線吸収体45で吸収できる。散乱X線の影響を抑制できる。X線吸収体45がX線グリッド43の役割を果たす。X線吸収体45を光導電層41内に一体的に設けた。X線吸収体45にて構成したX線グリッド43が光導電層41と一体型の構造になる。光導電層41に入射したX線を正確に信号電荷に変換できる。X線グリッド43と画素電極6とのずれにより生じる画像モアレを簡単な構成で確実に抑制できる。X線検出器1の解像度特性を改善できる。
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【課題】 蛍光体端部における封止及びフレキシブル回路基板端部における封止での欠陥の発生をなくし、封止の工程時間を短縮するとともに、画素領域を拡大し画像欠陥をなくし耐久性を高めることを目的とする。
【解決手段】 基板101上に配置される複数の光電変換素子を有する光電変換素子部102と、基板101の外周部に電極取り出し部104が配置されるセンサーパネル100と、電極取り出し部104と電気的に接続されるフレキシブル回路基板と、光電変換素子部102上に配置され、放射線を光電変換素子が感知可能な光に変換する蛍光体2と、を有する放射線検出装置において、蛍光体2の下地となる層1がプラズマ重合法で形成された有機膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
光ファイバの取付スペースを縮小すると共に光ファイバの取り付けを容易にすることができる光ファイバ伝送機を提供することにある。
【解決手段】
光素子モジュール24は、回路基板34に対して略垂直方向に発光又は受光するように設定されている。ハウジング26は、光素子モジュール24に適合する凹部26bを有し、この凹部26bを光素子モジュール24に被せるように光素子モジュールの上方から光素子モジュール24に取り付けられる。ハウジング26には、凹部26bと光ファイバの取付孔26cとの間の導光を行う導光部26eが設けられている。光素子モジュール24とハウジング26とを分けると共に導光部26eを設けているので、光ファイバ36の取り付けが容易になり、また光素子モジュール24の発光又は受光方向と光ファイバの取付方向とを一致させなくても光通信が可能であり、設計の自由度が高まり、高さ方向の寸法削減が可能となる。 (もっと読む)


【課題】放射線検出装置においてセンサーパネルの静電破壊による欠陥の発生をなくして、画像欠陥の無くい高品位な放射線検出装置を提供する。
【解決手段】放射線検出装置は、2次元状に配置される光電変換素子部102およびその外周部に配置される電極取り出し部104を有するセンサーパネル100と、光電変換素子部102上に形成される感光性樹脂保護層から成る蛍光体下地層1、蛍光体層2、蛍光体層2上に設けけられた感光性樹脂保護層から成る蛍光体保護層3を有する。パッシベーション膜1を成す感光性樹脂保護層によって電極取り出し部104を保護して蛍光体層2を形成することによりセンサーパネル100の静電破壊の発生を防止する。また、蛍光体保護層3を感光性樹脂保護層で形成し、電極取り出し部104上の感光性樹脂保護層を加熱現像によって除去することにより、蛍光体保護層3の形成時の静電破壊の発生を防止する。 (もっと読む)


【課題】 素子特性の劣化を招くことなく有機材料を機能膜として用いた機能素子を形成する。
【解決手段】 信号読出回路3、5、7が形成された基板1の上に有機材料を含む光電変換膜14、19、24を積層し該光電変換膜の上に電極膜15、20、25及び絶縁膜16、21、26を積層する光電変換膜積層型固体撮像素子の製造方法であって、絶縁膜16、21、26を積層するときの基板1の基板温度を、電極膜15、20、25の材料によって変化する前記有機材料の結晶化温度より低くなるように制御する。これにより、光電変換特性を劣化させることなく、絶縁膜を成膜することができる。 (もっと読む)


【課題】 放射線検出装置の有効画素領域を広くし、製造途中での静電気による素子への不具合の発生を防止する。
【解決手段】 複数の光電変換素子102が形成されている光電変換パネル101と、光電変換パネル上に形成された蛍光体層111を含む波長変換体と、により形成されている放射線検出装置であって、光電変換パネル101のボンディングパット部上に第一の保護物質104と第二の保護物質105がこの順で積層され、ボンディングパット部を露出するための第一の保護物質104の開口部が、第二の保護物質105をマスクとしてエッチングによって形成されている。 (もっと読む)


【課題】 高感度である光電変換層を有する撮像装置において、当該光電変換層の劣化を防止し、特に高輝度のスポット光を含む撮像を可能とする。
【解決手段】 Seを主体とし且つアバランシェ増倍機能を持つ非晶質半導体層と、SeとTeを含み且つ入射光の大部分を吸収して電荷に変換し得る機能を持つ非晶質光電変換層とを少なくとも有する光電変換膜と、前記光電変換膜の第1の面に形成された第1のバリア層と、前記第1のバリア層上に形成された透光性電極と、前記光電変換膜の第2の面に形成された第2のバリア層と、前記光電変換膜の第2の面の側に設けられた、前記光電変換膜で生成される信号電荷を読み出す電荷読み出し手段と、を有する撮像装置であって、前記光電変換膜の温度を、前記非晶質光電変換層のガラス転移温度以上であって前記非晶質半導体層のガラス転移温度+30℃以下に制御する温度制御手段と、前記光電変換層の電界が0.8×108〜1.1×108V/mとなるように、前記透光性電極を介して電圧を印加する電圧印加手段と、を有することを特徴とする撮像装置。 (もっと読む)


【課題】 薄膜トランジスタのフォトセンサは、光量は非常に微小なものであり、フィードバックが困難である。
【解決手段】 薄膜トランジスタのフォトセンサに、出力電流を電圧に変換する検出回路を付加する。これにより微小な電流をフィードバックが可能な所望の範囲の電圧に変換できる。また、回路は3つのTFTおよび1つの容量、または2つのTFTと1つの容量、1つの抵抗で構成されるので部品点数が削減できる。また動作もHレベルのパルスの入力のみでよく、簡易な光量検出回路を実現できる。 (もっと読む)


【課題】 CsIの結晶性を向上させるとともに、デバイス特性を安定化させる。
【解決手段】 光電変換素子とスイッチ素子とからなる画素が複数配置されたセンサー基板上と、複数の画素を被覆してセンサー基板上に配置された保護層14と、複数の前記画素上において保護層の表面に配置された表面が平坦な平坦化層15と、平坦化層の表面上に蒸着により配置された、入射した放射線を光電変換素子が検知可能な光に変換する柱状結晶からなるシンチレーター層16と、少なくともシンチレーター層と平坦化層とを被覆してセンサー基板及びシンチレーター層上に配置された光反射膜17と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 ランプと被照射対象物との距離が短い場合でも、安定して紫外線を検知することができるダイヤモンドセンサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 1対の金属配線21a及び21bが形成された絶縁性基材20上に、基板30上に検出層となる絶縁性ダイヤモンド層31が形成され、この絶縁性ダイヤモンド層31の表面上に、1対の櫛形電極32a及び32bが形成されているダイヤモンド素子3を搭載し、ダイヤモンド素子3の櫛形電極32a及び32bと、絶縁性基材20上のる金属配線21a及び21bとを、夫々ワイヤ6a及び6bにより相互に接続する。 (もっと読む)


【課題】シリコン・オン・インシュレータ技術を使用して形成した放射線検出器を提供すること。
【解決手段】この放射線検出器は、絶縁基板上に形成され、PNPN構造を有するシリコン層と、このPNPN構造上に形成され、PNゲートを有するゲート層とを備える。放射線検出器内の入射放射線に応答してのみ、ラッチアップが生じる。第2の態様は、シリコン・オン・インシュレータPNPNダイオード構造を備えており、放射線検出器内で入射放射線に応答してのみラッチアップが生じる、放射線検出器である。第3の態様は、絶縁基板上に形成されたシリコン層を備えており、このシリコン層が、PNPN構造とPNPN構造の上に形成されたゲート層とを備え、このゲート層がPNゲートを備えており、放射線検出器内で入射放射線に応答してのみラッチアップが生じる、シリコン・オン・インシュレータ放射線検出器である。 (もっと読む)


【課題】
従来、増幅素子を備えた光センサを作製するには、薄膜トランジスタの形成を待って、光電変換層を形成しなければならならず、スループットが悪かった。そこで、本発明では、薄膜トランジスタを形成する工程と光電変換層を形成する工程を平行して行うことにより短時間で作製した半導体装置及びその作製プロセスを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、第1の基板上に薄膜トランジスタを形成し、第2の基板上に光電変換素子を形成し、薄膜トランジスタと光電変換素子とが内側になるように相対した第1の基板と第2の基板との間に導電膜を狭持させることで、薄膜トランジスタと光電変換素子を電気的に接続させて半導体装置を作製する。これにより、工程数の増加を抑え、スループットの高い半導体装置の作製方法を提供することができる。 (もっと読む)


(i)層状粘土鉱物及び/又は有機化層状粘土鉱物並びに(ii)イオン性液体を含んでなる光電変換素子用電解質並びにそれを電解質層として用いた、透明導電膜と金属酸化物半導体多孔質膜を含む光電極と、この光電極に対向して配置される対向電極と、前記光電極と対向電極との間に配された電解質層とを含む光電変換素子並びにその光電交換素子の金属酸化物半導体多孔質膜に、光増感色素を担持させた色素増感太陽電池。また前記導電基板が、(A)アニリン又はアニリン誘導体を重合させて得られるポリアニリン、(B)スルホン酸及び/又は(C)プロトン酸基を有する有機重合体、(D)分子量調整剤並びに(E)スルホン酸(B)、プロトン酸基を有する有機重合体(C)並びに分子量調整剤(D)を溶解する有機溶媒を含んでなる、有機溶媒(E)に安定的に分散した導電性ポリアニリン分散液を、導電基板上に塗布したものである光電交換素子並びに色素増感太陽電池。
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X線などの放射線を検出する放射線検出器である。放射線検出器は、複数のピクセルを具備した検出器を含んでおり、ピクセルのそれぞれを使用して放射線を検出する。放射線検出器は、第1面上に形成された複数のはんだボールと第2面上に形成された複数の接点を具備したボールグリッドアレイ(BGA)パッケージをも含んでいる。BGAパッケージは、空洞をも具備しており、この空洞内に、少なくとも1つの集積回路(IC)チップが取り付けられている。ICチップは、複数の読み出しチャネルを具備しており、読み出しチャネルのそれぞれは、ピクセルの中の対応したものによって検出された放射線に対応した電気信号を受信するべく、対応するはんだボールを介して対応するピクセルに結合されている。
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例えばガラスまたは石英製の透明な機械的支持体(10)と、単結晶半導体材料の膜または薄層(14)と、当該薄層または半導体膜と当該支持体との間に位置する反射防止中間層(12)とを有する複合基板。当該反射防止中間層の組成は、屈折率が変化するように、当該支持体(10)と当該半導体膜(14)との間において変化する。 (もっと読む)


光検出用装置パッケージおよびこのような装置をパッケージングする方法が提供される。前記パッケージは、所定範囲の波長内の光をほぼ通す材料から成る基板を持つアセンブリ部、光を前記所定範囲の波長に光電子的に変換する少なくとも1つの光検出用ダイを含む検出部、および、前記検出部とアセンブリ部とを結合させる複数の第1のソルダージョイントを含む。前記アセンブリ部は、基板の上部の表面領域に周りの基板上に配置された少なくとも1つの第1の金属層、および、前記第1の金属層上に延長されるように形成された少なくとも1つのパッシベーション層から構成される。このパッケージは、安く、コンパクトであり、簡単に組み立てられる。 (もっと読む)


【課題】 従来のPLCプラットフォームをもちいた光モジュールではキガビット級の高速化を実現するためにはシリコン基板加工と複雑な光導波路作製工程が必要なためコスト面に課題を有していた。
【解決手段】 高周波での損失が少ないガラス基板17に光導波路用溝11と、基板厚み方向に接続配線又は放熱のためのビアホール12を設ける。 (もっと読む)


集積回路ダイ(322)を含む一体状にパッケージ実装された光電子工学的集積回路デバイス(310)であって、前記ダイは、放射エミッタと放射レシーバの少なくとも一方を含み、かつ、電気絶縁性の物理的保護材料で形成された上部表面と下部表面とを有し、この上部表面と下部表面との少なくとも一方(317)は放射に対して透過性であり、電気絶縁性の端縁表面(314)がパッドを有する。 (もっと読む)


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