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Fターム[5F110GG07]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | チャネル半導体層 (67,982) | 材料 (18,671) | 複数種の構成材料の分布 (557)

Fターム[5F110GG07]に分類される特許

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【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタの電気的特性のばらつき及び電気的特性の劣化は、半導体装置の信頼性を著しく低下させる。
【解決手段】基板上に形成される酸化物半導体層と、酸化物半導体層と電気的に接続する、端部がテーパー角を有し、かつ上端部が曲面形状を有するソース電極及びドレイン電極と、酸化物半導体層の一部と接し、かつ酸化物半導体層、ソース電極及びドレイン電極を覆うゲート絶縁層と、酸化物半導体層と重畳する、ゲート絶縁層上のゲート電極と、を有する。 (もっと読む)


【課題】専有面積が小さく、高集積化、大記憶容量化が可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】第1の制御ゲート、第2の制御ゲート及び記憶ゲートを有するトランジスタを用いる。記憶ゲートを導電体化させ、該記憶ゲートに特定の電位を供給した後、該記憶ゲートを絶縁体化させて電位を保持させる。情報の書き込みは、第1及び第2の制御ゲートの電位を記憶ゲートを導電体化させる電位とし、記憶ゲートに記憶させる情報の電位を供給し、第1及び第2の制御ゲートの電位を記憶ゲートを絶縁体化させる電位とすることで行う。情報の読み出しは、第2の制御ゲートの電位を記憶ゲートを絶縁体化させる電位とし、トランジスタのソースまたはドレインの一方と接続された読み出し信号線に電位を供給し、その後、第1の制御ゲートに読み出し用の電位を供給し、ソースまたはドレインの他方と接続されたビット線の電位を検出することで行う。 (もっと読む)


【課題】非晶質上に低コストで高性能な半導体装置を形成する技術を提供する。
【解決手段】GeがSi濃度よりも高濃度に含まれた疑似Ge領域(2)を含有し、該領域のGe濃度は初期SiGe薄膜中のGe濃度よりも高濃度であり、リボン形状をした結晶粒(1)は、互いに平行で且つ直線状に配置している疑似Ge領域(2)に挟まれる構造を有し、結晶粒(1)内においてGe濃度はSi濃度よりも低濃度であり、且つ結晶粒(1)内のGe濃度は初期SiGe薄膜中のGe濃度よりも低濃度であり、さらに各々の結晶粒(1)は相互に同一の方位を有する結晶粒から成っていることを特徴とする非晶質上の半導体薄膜からなる半導体装置。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供する。
【解決手段】第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162と、第1のトランジスタ160のソース領域またはドレイン領域120と、第2のトランジスタ162のチャネル形成領域144との間に設けられた絶縁層128と、を含むメモリセルを有し、第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162とは、少なくとも一部が重畳して設けられる半導体装置である。また、絶縁層128と第2のトランジスタのゲート絶縁層146は、式((t/t)×(εrb/εra)<0.1)を満たす。(但し、式中、tはゲート絶縁層146の膜厚を示し、tは絶縁層128の膜厚を示し、εraはゲート絶縁層146の誘電率を示し、εrbは絶縁層128の誘電率を示す。) (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供する。
【解決手段】ソース線と、ビット線と、信号線と、ワード線と、ソース線とビット線との間に、並列に接続されたメモリセル1100と、ソース線及びビット線とスイッチング素子を介して電気的に接続された第1の駆動回路1111と、ソース線とスイッチング素子を介して電気的に接続された第2の駆動回路1112と、信号線と電気的に接続された第3の駆動回路1113と、ワード線と電気的に接続された第4の駆動回路1114と、を有し、メモリセルは、第1のゲート電極、第1のソース電極、および第1のドレイン電極を有する第1のトランジスタと、第2のゲート電極、第2のソース電極、および第2のドレイン電極を有する第2のトランジスタと、容量素子と、を有し、第2のトランジスタは、酸化物半導体材料を含む。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いるトランジスタにおいては、酸化物半導体内に水素が存在することでトランジスタの電気特性不良に繋がる。そこで、良好な電気特性を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】チャネル領域が形成される酸化物半導体層と接する絶縁層をハロゲン化珪素を用いたプラズマCVD法により形成する。このようにして形成された絶縁層の水素濃度は6×1020atoms/cm未満であり、且つハロゲンの濃度は1×1020atoms/cm以上であるので、酸化物半導体層に水素が拡散することを防ぐことができ、ハロゲンにより酸化物半導体層内に存在する水素を不活性化させ、または脱離させ、良好な電気特性を有する半導体装置を提供することできる。 (もっと読む)


【課題】画質の低下を防ぐことができる液晶表示装置及びその駆動方法の提案を課題の一とする。周囲が明るい環境でも薄暗い環境でもその環境に合わせて画像表示を認識できる液晶表示装置を提供する。或いは、外光を照明光源とする反射モードと、光源を用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第1の領域及び第2の領域を有する画素部と複数の光源とを有し、第1の領域及び第2の領域は、入力される画像信号の電圧に従って透過率が制御される液晶素子と、電圧の保持を制御するトランジスタとを有する。フルカラー画像の表示を行う場合、光源から、第1の領域に異なる色相を有する光が第1の輪番に従い順次供給されると共に、第2の領域にも異なる色相を有する光が、第1の輪番とは異なる第2の輪番に従い順次供給される。モノクロ画像の表示は画素電極が有する反射領域で外光を反射することで行う。 (もっと読む)


【課題】集積化が進む配線基板、又は半導体装置において、導通不良を軽減する。信頼性の高い配線基板、又は半導体装置を歩留まり良く作製する。
【解決手段】多層配線構造を有する配線基板、又は半導体装置において、該配線に用いる導電層の接続構造に曲面を有する導電層を用いる。周囲の絶縁層の除去によって露出された下層の導電層の先端部は曲面であり、下層の導電層上に積層する上層の導電層の被覆性を良好とすることができる。曲面な表面を有するレジストマスクを用いて導電層をエッチング加工することによって曲面な表面を有する導電層を形成する。 (もっと読む)


【課題】
高い移動度、大きな電流オン/オフ比を有し、保存安定性に優れた有機トランジスタを提供する。
【解決手段】
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式(1)で表される化合物を少なくとも1種含有してなる有機トランジスタ。


〔式中、X〜X14はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルコキシ基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、mは0または1を表す〕 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】第1のトランジスタ上に設けられた第2のトランジスタと容量素子とを有し、第1のトランジスタのゲート電極と、該ゲート電極に接する第2のトランジスタのソース電極とは、エッチングの選択比がとれる材料を用いて形成される半導体装置を提供する。第1のトランジスタのゲート電極と、第2のトランジスタのソース電極とをエッチングの選択比がとれる材料を用いて形成することで、レイアウトのマージンを低減させることができるため半導体装置の集積度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】高度な集積化を実現した、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層と、チャネル形成領域と電気的に接続するソース電極およびドレイン電極と、チャネル形成領域と重畳するゲート電極と、チャネル形成領域とゲート電極との間のゲート絶縁層と、を含み、チャネル形成領域を含む半導体層の側面の一部と、ソース電極またはドレイン電極の側面の一部と、は、平面方向から見て概略一致している半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタにおいて、電気的特性の変動が小さく、信頼性の高い半導体装置を作製することを課題とする。
【解決手段】チャネルを形成する酸化物半導体層の下地絶縁層に、加熱により酸素を放出する絶縁層を用いる。前記下地絶縁層から酸素が放出されることにより、前記酸化物半導体層中の酸素欠損及び前記下地絶縁層と前記酸化物半導体層の界面準位を低減することができ、電気的特性の変動が小さく、信頼性の高い半導体装置を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】ノーマリーオフで、長期的な特性変動の少ない酸化物半導体素子を有する半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層に酸素、ハロゲンのいずれか一またはそれらの内の2元素以上を含む陽イオンを添加することで、酸素の脱離の抑制、または、水素の低減または動きの抑制を実現できる。これにより、酸化物半導体内のキャリアを減少させ、またその数を長期に渡り一定に保つことが出来るため、ノーマリーオフで、長期的な特性変動の少ない酸化物半導体素子を有する半導体装置を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】新規なチオフェン化合物、および該化合物を含有してなる高い移動度、大きな電流オン/オフ比を有する優れた有機トランジスタの提供。
【解決手段】下記一般式(1)〜一般式(2)で表される化合物。さらには、有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に一般式(1)〜一般式(2)で表される化合物を少なくとも1種含有してなる有機トランジスタ。


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【課題】
高い移動度、大きな電流オン/オフ比を有し、保存安定性に優れた有機トランジスタを提供する。
【解決手段】
有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層に、1つの繰り返し単位中に、式(1)で表される構造単位を少なくとも2つ含有し、


(式中、XおよびXはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、直鎖、分岐または環状のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル基、あるいは置換または未置換のアリール基を表し、2つ以上の該構造単位は、同一の基であっても、異なる基であってもよい)
且つ、式(2)で表される構造単位を少なくとも1つ含有し、
−Ar− (2)
(式中、Arは、置換または未置換のアリーレン基を表し、該構造単位が2つ以上の場合は、同一の基であっても、異なる基であってもよい)
式(1)および式(2)で表される構造単位から成る繰り返し単位の繰り返し数が1〜10000であるオリゴマーまたはポリマーを少なくとも1種含有してなる有機トランジスタ。 (もっと読む)


【課題】ホウ素及び窒素で置換されたグラフェン及びその製造方法、並びにそれを具備したトランジスタを提供する。
【解決手段】ホウ素及び窒素が炭素原子の1−20%置換されるグラフェンである。該ボロン及び窒素で置換されたグラフェンは、ほぼ0.05−0.45eVのバンドギャップを有するので、電界効果トランジスタのチャネルとして使われうる。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の長時間にわたる保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、を含む複数のメモリセルと、増幅回路と、スイッチ素子と、を含む読み出し回路と、リフレッシュ制御回路と、を有し、第1のチャネル形成領域と第2のチャネル形成領域は、異なる材料を主成分として構成され、第1のゲート電極と、第2のソース電極および第2のドレイン電極の一方は電気的に接続され、第2のソース電極および第2のドレイン電極の他方と、増幅回路の入力端子の一は電気的に接続され、増幅回路の出力端子は、スイッチ素子を介して第2のソース電極および第2のドレイン電極の他方と接続され、スイッチ素子の導通状態または非導通状態は、リフレッシュ制御回路によって制御される半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】第1のトランジスタ上に設けられた第2のトランジスタと容量素子とを有し、第2のトランジスタの半導体層にはオフセット領域が設けられた半導体装置を提供する。第2のトランジスタを、オフセット領域を有する構造とすることで、第2のトランジスタのオフ電流を低減させることができ、長期に記憶を保持可能な半導体装置を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】TFTの活性層等に適用できる新規な非晶質酸化物を提供する。
【解決手段】非晶質酸化物が所定の材料を含み、電子キャリア濃度が1018/cm3未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】消費電力の低減を実現することができる、タッチパネルを有する半導体表示装置の提案を課題とする。
【解決手段】画素部、及び、画素部への画像信号の入力を制御する駆動回路が設けられたパネルと、画素部においてパネルと重なる位置に設けられたタッチパネルとを有する。画素部は、入力される画像信号の電圧に従って表示を行う表示素子と、電圧の保持を制御するトランジスタとを有する。トランジスタは、そのチャネル形成領域に酸化物半導体を含んでいる。そして、駆動回路の駆動周波数、すなわち一定期間内における画像信号の書き込み回数を、タッチパネルから入力される操作信号に従って変更する。 (もっと読む)


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