【課題】 ダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ源（２２０、２２２、２２４）から２つ以上の波長のレーザ・ビームを供給するシステム、装置、および方法を提供する。
【解決手段】 異なる波長を有するこれらのレーザ・ビームは、レーザ源（２２０、２２２、２２４）によって発生され、そのビーム経路を、光学構成によって共通光軸２８０に沿ってそろえ、少なくとも１つの目標区域を処置することができる。複数のダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ空胴から出力される周波数倍増レーザ・ビームを、屈曲ミラー（Ｍ２、Ｍ５、Ｍ８）に通過させ、１つ以上のコンバイナ・ミラー（Ｍ１０、Ｍ１１、Ｍ１２）を用いて、共通光軸２８０上で結合し、ビーム経路を統一することができる。１つ以上の伝達システムを用いて、選択したレーザ・ビームを目標に伝達することができる。
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【課題】
中心波長の制御に影響を与えることなくスペクトル純度幅（スペクトル指標値）の安定化制御を行えるようにして、見かけ上のスペクトル純度幅の制御を行うことで発生する上記諸問題点を解消する。
【解決手段】
増幅用レーザ装置３００から出力されるレーザ光のスペクトル純度幅E95をスペクトル純度幅計測手段で計測し、計測されたスペクトル純度幅E95が、目標スペクトル純度幅E950の許容幅E950±ｄE95内に収まるように、発振用レーザ装置１００で放電を開始してから増幅用レーザ装置３００で放電を開始するまでの放電タイミングを制御することで、スペクトル純度幅E95を安定化制御する。
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【課題】
【解決手段】本発明は、利得媒質２と、同調可能なミラー８とを有し、少なくとも同調可能なミラーは熱伝導性プラットフォーム１０と熱的に接触している、同調可能な外部キャビティレーザに関する。同調可能なミラーは、熱伝導性プラットフォーム上にて実質的に水平に位置し、これにより同調可能なミラーとプラットフォームとの熱的接触を顕著に向上させる。利得媒質からのレーザビームは同調可能なミラーまで導かれ、該同調可能なミラーは、ビーム又はそのビームの大部分を同調可能なミラーの主要面の１つに向けて偏向させる偏向器６によって熱伝導性プラットフォームに対し実質的に水平に取り付けられる。このため、形成されるレーザキャビティは、折り畳んだキャビティである。熱伝導性プラットフォームは、プラットフォームに対する熱的制御を実現するＴＥＣ１１と熱的に結合されることが好ましい。１つの好ましい実施の形態において、偏向器は、入射する光の一部を偏向させ且つ残りの部分を透過させるビームスプリッタである。偏向器としてのビームスプリッタにより、よりコンパクトなレーザ組立体を具体化することができる。本発明の１つの好ましい実施の形態に従い、ビームスプリッタを透過した光の部分は出力レーザビームを形成する。換言すれば、外部キャビティレーザは、波長選択可能な要素（同調可能なミラー、また、存在すれば、チャネルグリッド）の側、すなわち、レーザダイオードの前側小面の側にてレーザビームを出力する。このレーザの設計によれば、出力レーザビームをコリメートするコリメートレンズは不要である。
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開示されるレーザーシステムは、ビームパスに沿ってレーザービーム（１２）を発するためのレーザー光源（１０）と、レーザービームの周波数を安定させる手段（２６，２８，３０）と、使用時に後方散乱光を生じさせる光学部品（１３４）の少なくとも１つと、後方散乱光の位相を変調するための位相変調器（１２０）と、を含む。光学部品は、平面鏡や光ファイバーでもよい。位相変調器は、モータ（１２６）によって任意に駆動される振動ガラスブロック（１２４）でもよい。位相変調器は、圧電素子によって周期的に圧縮されるガラスブロックであってもよい。
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ポンプビーム光を供給するためのバックライトユニット２２０を含む、着色ピクセル化光を発生するためのディスプレイ装置である。この装置はまた、ピクセルを持ち、ポンプビーム光に応答する微小共振器型光発生アレイ１００を含む。各ピクセルは、透明基板と、所定の波長範囲の光を反射するボトム誘電スタックと、ポンプビーム光に応答する、ディスプレイ光を発生するための活性領域と、ボトム誘電スタックと離して設けられ、所定の波長範囲の光を反射するトップ誘電スタックとを含む。この装置は更に、微小共振器型光発生アレイからの選択されたディスプレイ光を通過させるための光シャッター３１０と、微小共振器型光発生アレイと光シャッターとの間に配置した偏光層３０５と、光シャッター上に配置し、ディスプレイ光の視野角を広げるためのビームエキスパンダ３２０または色変換層とを含む。
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モジュール式超高速パルスレーザシステムは、モジュールとして作られ、個々に予備テストされた構成要素で組み立てられている。個々のモジュールは、発振器、前置増幅器とパワー増幅器ステージ、非線形増幅器、及び伸長器と圧縮器、を含んでいる。個々のモジュールは、一般的に単純なファイバスプライスによって接続される。 （もっと読む）

【課題】広い区域にわたって高繰返し率のレーザ光を用いる表面及び／又は基板の処理を伴う製造工程で使用される高電力及び高安定性ガス放電レーザを提供する。
【解決手段】被加工物の基板内の結晶構成又は配向の変換を実行するためのガス放電レーザ結晶化装置及び方法。それは、細長いガス放電領域を形成するチャンバ内に収容された１対の細長い離間した対向電極を各々が有する第１及び第２のガス放電チャンバ、及び被加工物上で実行される結晶化処理に対して最適化された中心波長でレーザ光を生成するように選択されたハロゲン及び希ガスを含むチャンバ内に収容されたレーザガスを含む第１のレーザユニットと、ＤＣ電源、及び直列に接続した複数の一次巻線と複数の一次巻線の各々を通る単一の二次巻線とを有する多段分割ステップアップ変圧器と半導体トリガスイッチとを含むＤＣ電源に接続されかつそれぞれの電極に接続した第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路を含む電源モジュールと、単一出力レーザ光パルスビームを生成するためにＰＯＰＡ構成レーザシステム又はＰＯＰＯ構成レーザシステムのいずれかとして第１及び第２のレーザユニットの作動を達成するように、それぞれの第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路の作動パラメータに基づいてそれぞれの半導体スイッチの閉成を計時するように作動するレーザタイミング及び制御モジュールとを含むマルチチャンバレーザシステムを含むことができる。ＰＯＰＡとして、レーザシステムのリレー光学器械は、第１の出力レーザ光パルスビームを第１のレーザユニットから第２のガス放電チャンバ内に向けるように作動することができ、タイミング及び制御モジュールは、第１の出力レーザ光パルスビームが±３ｎｓ以内に第２の放電領域を通過している間に第２の対の電極間にガス放電を作り出すように作動し、ＰＯＰＯとして、結合光学器械は、出力ビームを結合し、タイミングは、結合出力内に予め選択された時間±３ｎｓのパルス分離を作り出す。ビーム送出ユニット及びパルス伸張器を含めることもでき、タイミング及び制御は、パルス圧縮及び電圧ステップアップ回路における充電電圧及び構成要素温度を表す信号に基づいてプロセッサ制御することができる。 （もっと読む）

フルカラーイメージを表示するのに適したレーザ投影機器（ＬＰＤ）が開示される。このＬＰＤは、改変されたラスタ走査を使って、イメージを制御可能なように生成するために、イメージデータを用いて、１つ以上のレーザによって生成されるレーザビームを変調する様々な技術を含む。本発明の一つの側面で提供されるレーザビームを変調する方法は、レーザビームを音響光学結晶に送達すること、および、レーザビームからの光学エネルギの少なくとも一部を少なくとも１つの副ビームに転換して、音響光学結晶の中に音響波を生成することを包含する。
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本発明は、パルスデカップリング原理に従い特にフェムト秒又はピコ秒パルスからなる超短パルスを生成するための高繰り返しレーザーシステムに関する。前記システムは、少なくとも一つの増幅用レーザー媒質（１１）と、レーザー共振器と、前記レーザー媒質（１１）をポンピングするためのポンプ源とからなる。前記システムは、パルスデカップリング部品（１）としての電気光学的変調器を用いて、短いパルス持続時間で高いパルスエネルギーを得るために動作する。
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レーザ利得媒体と、反射分散デバイスを有する外部共振器とを含むレーザユニットを制御するための制御ユニットが開示される。レーザ利得媒体は、第１のビームを反射分散デバイスの方へ供給するように適合され、反射分散デバイスは、第１のビームを受光して、波長によって決まる反射角でビームをレーザ利得媒体の方へ反射するように適合され、レーザ利得媒体は、第１のビームとは別の方向に第２のビームを供給するように適合されている。制御ユニットは、第２のビームの角度変動を表す角度変動信号を供給するように適合された角度ユニットと、角度変動信号を受信し、角度変動信号に応じて反射分散デバイスの反射角を制御するように適合された分析ユニットとを含む。 （もっと読む）