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Fターム[5F172NP03]の内容

レーザ (22,729) | 制御のための検知・検出 (880) | 対象 (680) | 出力光 (513) | 光強度 (270)

Fターム[5F172NP03]に分類される特許

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【課題】出力光の精度を極めて高くし、精密に制御できるレーザ加工装置等を提供する。
【解決手段】極超短パルスレーザ光を加工対象物質に照射し、極超短パルスレーザ光のエネルギーで加工対象物質に加工を行うレーザ加工装置であって、極超短パルスレーザ光を出力するレーザ光源と、レーザ光源から放射される極超短パルスレーザ光を空間的な任意の形状に成形する空間光変調素子と、成形された極超短パルスレーザ光の各点で生じる多光子吸収により発せられる光エネルギーの波長に感度を有する多光子吸収検出器と、多光子吸収検出器での検出結果に基づき、空間光変調素子が極超短パルスレーザ光を変調可能としている。これにより、レーザ加工装置で現に得られる出力光を多光子吸収検出器で検出し、これに基づいて空間光変調素子を制御できるので、設計上の誤差を調整した極めて高精度な加工が可能となる。 (もっと読む)


【課題】出射される基本波の発振波長を切り替えることができるファイバ装置、このファイバ装置と波長変換素子を組み合わせた波長変換装置及び、この波長変換装置を光源として用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】出射されるレーザの基本波5の発振波長を切り替え可能なファイバ装置である。レーザ活性物質を含み、少なくとも1つのファイバグレーティング2、4が形成されたファイバ3を有するレーザ共振器と、ファイバ3に励起光を入射するレーザ光源1とを備え、レーザ共振器から出射されるレーザの基本波5の発振波長が切り替え可能となるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】シングルパス吸収率の低い固体レーザ媒質を備えた固体レーザ発振装置において、高い励起光実効吸収率を実現し、小型かつ高出力な出力光を得る。
【解決手段】固体レーザ発振装置1において、励起光7を、固体レーザ媒質4を通過させるように共振させる第2の共振器3を備え、励起手段2として、励起光7として2つ以上の縦モードを有するレーザ光を出力し、第2の共振器3内に入力するものとする。 (もっと読む)


【課題】レーザ装置の定格出力範囲の全体に渡り、環境の変化や構成要素の位置ずれ等に起因して生じ得る出力偏差を排除して、指令値に正確に対応した出力を確保する。
【解決手段】レーザ装置10の電源制御部18は、レーザ発振指令値Cに従い、電源14にレーザ発振部12への電力供給動作を指令する電力供給指令部20と、電力供給指令部に与えられる複数の異なるレーザ発振指令値Cとそれらレーザ発振指令値に従いレーザ発振部が発振したレーザビームLに関して出力測定部16で得た複数の異なるレーザ出力測定値Mとに基づいて、レーザ発振指令値に対するレーザ出力測定値の相関性を近似的に表す関数Fを求める関数演算部22とを備える。電力供給指令部は、関数演算部が関数を求めた後には、その関数に基づいてレーザ発振指令値に補正処理を施すとともに、補正処理を施したレーザ発振指令値に従い、電源に電力供給動作を指令する。 (もっと読む)


平均波長変換出力またはパルスエネルギの制御。シードパルスが生成、増幅および波長変換され得る。波長変換出力またはパルスエネルギは、増幅出力またはパルスエネルギを実質的に変化させずに、変換効率を調整することによって制御され得る。平均波長変換出力は、増幅パルス周期と比較可能な時間にわたって平均増幅パルス出力を調整せずに当該時間にわたって制御され得る。光学システムは、光増幅器に結合されたシード源;光増幅器に結合された波長変換器;および制御装置を含む。制御装置はシード源、光増幅器、または波長変換器に結合される。制御装置は、増幅パルス周期と比較可能な時間にわたって平均増幅パルス出力を調整せずに当該時間にわたって平均波長変換出力を制御できる。択一的に制御装置は、増幅パルスエネルギを実質的に変化させずに変換効率を調整することによって波長変換パルスエネルギを制御できる。
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【課題】良好な精度を有して検出する波長検出器を備えるレーザ装置およびレーザ装置から出射される出力光ビームの波長を検出する方法を提供する。
【解決手段】レーザ装置10は、波長検出器15を備えて構成される。ビームスプリッタ16は出力光ビーム25の一部を検出光ビーム26として分離する。色収差を有する合成レンズを形成する集光レンズ17と円筒レンズ18は、Z軸を含むXZ面およびYZ面における集光特性を検出光ビーム26の波長に応じて異ならせる。4分割フォトディテクタ19の4個のフォトディテクタの各々は集光された光ビームを受光するように同一平面上に配されている。制御部30は波長演算器31からの検出波長信号に基づいて、モータ41aを制御して出力光ビーム25を所定波長に設定する。 (もっと読む)


【課題】ファイバレーザ用の光ファイバについて保持性および放熱性を改善すると同時に、光ファイバに入射する異常光を効果的に排除すること。
【解決手段】下ブロック76の上面に形成されている断面V字状の保持溝80に発振用光ファイバ22の一端部が保持される。上ブロック74には、下ブロック74の保持溝80と対向する箇所に、サファイアロッド94を上から装入可能とし、かつ鉛直方向で擦動可能に案内するためのスリット96が形成されている。サファイアロッド94は、発振用光ファイバ22の上面に接触し、スリット96下端部の両側内壁面に擦動可能に支持される。ボルト100のネジ込み量を可変して、圧縮コイルバネ102のバネ圧、つまり発振用光ファイバ22に対する押圧力を調節できる。 (もっと読む)


【課題】外部共振器を備えるレーザ装置における光軸調整作業の簡易化を図る。
【解決手段】レーザ光源1、入力結合素子9を有する外部共振器14、光検出素子6、光軸調整具を備える。光源1側に配置される光軸調整具4a,4bの間の特定位置と、光検出素子6の受光面とを幾何光学的な共役関係に配置する。例えば一対のミラーを光軸調整具としてその間に共役点を設けることにより、光検出素子6上のスポット位置変動量を抑制でき、光検出素子6を移動することなく光軸調整可能となる。 (もっと読む)


【課題】 パルス光を発生するレーザ装置などに用いられる再生増幅器において、増幅効率の低下を抑えつつ出力の安定化をはかることを目的としている。
【解決手段】 再生増幅器において、入力したパルス光を周回させる共振器と、前記共振器内で周回しているパルス光を増幅するレーザ媒質と、前記レーザ媒質で増幅されたパルス光の前記共振器内での光強度を検出するパルスモニタと、前記パルスモニタで検出された光強度の値が、設定されたしきい値を超えたときに第1の信号を発生するしきい値処理部と、前記しきい値処理部から入力した第1の信号に基づいて共振器外にパルス光を出力する出力スイッチと、を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】 パルス幅が制御された高調波レーザビームを得ることができるパルスレーザ装置を提供する。
【解決手段】 パルスレーザ装置は、光共振器と、光共振器内に配置されたレーザ媒質と、レーザ媒質を励起させる励起装置と、光共振器の品質因子Qが相対的に高い第1の状態と相対的に低い第2の状態とを切り換えるQスイッチと、光共振器内に配置され、非線形光学結晶を含み、第1の状態でレーザ媒質から放出された基本波が入射し、基本波の高調波を生成する波長変換素子と、波長変換素子の温度を変化させる温度調節器と、波長変換素子の温度と波長変換素子で生成される高調波のパルス幅との対応関係を記憶するとともに、目標パルス幅を記憶し、波長変換素子の温度が、上記対応関係から得られた目標パルス幅に対応する目標温度となるように、温度調節器を制御する制御装置とを有する。 (もっと読む)


【課題】高効率、高出力および高安定のレーザ、特にシングルモードの加工用レーザ光でレーザ加工を行うこと。
【解決手段】このレーザ加工装置は、アンプファイバ10、種レーザ発振部12、ファイバコア励起部14、レーザ出射部16、制御部20、光センサ64等を有している。アンプファイバ10の一端面10aに種レーザ発振部12からのQスイッチパルスの種レーザ光SBが入り、他端面10bにファイバコア励起部14からの連続発振のコア励起光FBが入る。種レーザ光SBは、アンプファイバ10を伝搬する間に活性状態のコアの中で増幅され、高出力の加工用レーザ光MBとしてアンプファイバ10の他端面10bより外へ出る。光センサ64は、加工用レーザ光MBのレーザ出力を種レーザ発振部12にフィードバックする。 (もっと読む)


【課題】2つのモードロックパルスレーザ光源の繰り返し周波数同期において生じる繰り返し周波数の位相ずれを補償する位相補償システムとレーザ走査型顕微鏡システム。
【解決手段】2つのモードロックパルスレーザ光源401と、そのレーザ光源の繰り返し周波数又は周期を同期させるレーザ同期装置402とを含む位相補償システム413であり、2つのモードロックパルスレーザ光源401の繰り返し周波数又は周期を検出するための検出装置410と、2つのモードロックパルスレーザ光源401の少なくとも一方から射出されたレーザ光の繰り返し周波数又は周期の位相を変化させる位相遅延光学系411と、検出装置410で得られた信号から、2つのモードロックパルスレーザ光源401の繰り返しの周波数又は周期の位相を一定に保つように位相遅延光学系411を駆動する駆動機構412とを有する。 (もっと読む)


【課題】発振段レーザチャンバと増幅段チャンバを同一形状にしても、4kHz以上の高繰り返し動作が安定に行える露光用2ステージシステムエキシマレーザ装置を提供する。
【解決手段】発振段と増幅段のチャンバが同一形状である露光用2ステージエキシマレーザ装置において、増幅段の放電開始前の予め設定された時間範囲内に、発振段から放出したシード光を増幅段チャンバに注入してシード光による予備電離を行うようにしている。 (もっと読む)


【課題】半導体レーザの駆動電流、および温度制御に要する電力を最小化する。
【解決手段】半導体レーザ(1)のレーザ光により固体レーザ媒質(3)を励起し、固体レーザ媒質(3)を含む光共振器(6)で1064nm程度の基本波を発振し、それを非線形光学結晶(4)により532nm程度の第二高調波に波長変換し、緑色の線状ビームを出す半導体レーザ励起固体レーザ装置(100)において、縦モードおよび横モード共にシングルモードの半導体レーザ(1)を用いる。
【効果】縦モードおよび横モード共にシングルモードの半導体レーザは、発振閾値が低く電気−光変換効率が高いため、駆動電流を最小化できる。また、電気−光変換効率が高いために半導体レーザの発熱が小さく、温度制御に要する電力を最小化できる。従って、乾電池駆動によるポータブル使用が可能になる。 (もっと読む)


【課題】長期間安定的に位相を固定させることができ、高反復率及び高出力を要する産業及び学問的な研究などに多様に利用することのできる誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置及びそれを用いた光増幅装置を提供する。
【解決手段】複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置において、複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器とを備える。 (もっと読む)


【課題】使用中に動作条件が変動した場合でも、駆動電流Iopを常に最小に維持する。
【解決手段】使用中に駆動電流Iopを常時監視し(R2)、駆動電流Iopの変化が予め定められた所定値を超えると(R3)、使用を継続しながら温度チューニングをやり直して最小の駆動電流になるボトム温度を再設定する(R4)。
【効果】使用中に動作条件が変動して駆動電流Iopが大きくなった場合には、直ちに温度チューニングをやり直すため、駆動電流Iopを常に最小に維持することが出来る。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィにおける集積回路製造のためのレーザ光源として線狭帯域化用途に使用されるDUVガス放電レーザシステムにおける帯域幅の能動制御の技術を提供する。
【解決手段】開示内容の実施形態の態様により、光源により生成されたレーザ出力光パルスビームパルスの帯域幅を測定して帯域幅測定値を供給する帯域幅測定モジュールと、帯域幅測定値及び帯域幅設定値を受信して帯域幅誤差信号を供給する帯域幅誤差信号発生器と、帯域幅誤差に応答して細かい帯域幅補正アクチュエータ信号及び粗い帯域幅補正アクチュエータ信号を供給する能動帯域幅コントローラとを含むことができる、線狭帯域化高平均パワー高パルス繰返し数レーザマイクロフォトリソグラフィ光源帯域幅制御方法及び装置を開示する。細かい帯域幅補正アクチュエータ及び粗い帯域幅補正アクチュエータは、各々、帯域幅誤差を低減する光源挙動のそれぞれの修正を誘導することができる。粗い及び細かい帯域幅補正アクチュエータは、各々、複数の帯域幅補正アクチュエータを含むことができる。 (もっと読む)


【課題】ビーム品質の低下を低減することが可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】 本発明の一実施形態に係るレーザ装置は、(a)複数の反射鏡から規定される周回光路に配置された、固体レーザ増幅媒体と、一対のレンズおよび当該レンズの間に配置されたピンホールを含む空間フィルタ部と、(b)周回光路におけるレーザ光のビーム品質情報を取得するモニタ部と、(c)ビーム品質情報に基づいて、空間フィルタ部におけるレンズとピンホールとの間の第1光路の長さを変更する第1光路長変更手段と、(d)第1光路長変更手段による第1光路の長さの変更量に応じて、周回光路における第1光路以外の第2光路の長さを変更する第2光路長変更手段と、を備えている。 (もっと読む)


第1の波長のパルスレーザ光を生成するレーザが提供され、前記レーザは、共振器(1)と、該共振器(1)の内部に配置され、ポンピングされる活性媒体(4)であって、該第1の波長とは異なる第2の波長の一次放射線を放射する前記活性媒体と、該共振器(1)に配置され、該一次放射線の周波数変換によって該第1の波長を有するレーザ光を生成するように機能する素子(7)と、該共振器(1)が該一次放射線に対して開放されている第1の状態及び該一次放射線に対して閉鎖されている第2の状態に切り替え可能であり、両方の状態で該第1の波長のレーザ光に対して開放されており、制御装置(9)であって、レーザ光のパルスを生成するために、第1のステップにおいて該第1の状態から該第2の状態に該共振器(1)を切り替えて、該一次放射線のための少なくとも1つの共振器モードで発振が開始され、該素子(7)を使用した周波数変換による該パルス生成が開始されるようにし、該第1のステップに続く第2のステップにおいて該第2の状態から該第1の状態に該共振器(1)を切り替えて、一次放射線が該共振器(1)からカップリングアウトされ、該パルス生成が終了されるようにする制御装置(9)とを備え、該制御装置により両方のステップにおける持続時間及び/または該共振器(1)のカップリングアウト動作を設定することで、該パルス持続時間を調整することが可能である。
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【課題】簡易小型でメンテナンス性にすぐれ、レーザ加工に適う高出力のファイバレーザ光を簡便に得ること。
【解決手段】このファイバレーザ加工装置は、ファイバレーザ発振器10、レーザ電源部12、レーザ入射部14、ファイバ伝送系16、レーザ出射部18および加工テーブル20等から構成される。ファイバレーザ発振器10は、発振用の光ファイバ22と、この発振ファイバ22の一端面にポンピング用の励起光MBを照射する電気光学励起部24と、発振ファイバ22を介して光学的に相対向する一対の光共振器ミラー26,28とを有している。発振用光ファイバ22は、その中心軸上に延びるコアと、このコアを取り囲むクラッドと、このクラッドを取り囲む空気層と、この空気層を取り囲んで保持する保持部とを有している。 (もっと読む)


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