【課題】 複数の均質な平行レーザビームを発生する多点出力レーザ発生装置、特に分布する着火点を使い効率よく着火・燃焼させるレーザ多点着火式ガス燃焼エンジンに利用するレーザの種となる複数レーザを生成する多点出力レーザ発生装置を提供する。
【解決手段】 リアミラー１１と取り出しミラー１２の間にレーザ媒質１３を介装して形成され取り出しミラーの周囲から均質な強度を持つ単一モードのリング状レーザビーム１４を放出する不安定共振器１と、リング状レーザビーム１４から複数の均質なレーザビーム２２を切り出す複数の開口２１を備えた分配手段２とからなる。 （もっと読む）

【課題】周期構造のパターニングの自由度を損なうことなく、作成作業時間の短縮化を図ることができる、生産性に優れる周期構造の作成方法および周期構造の作成装置を提供する。
【解決手段】主走査を行う主走査用偏向器５と副走査を行う副走査用偏向器６とを同時に連続的に動作させながら、パルスレーザ光源１の繰返し周波数と主走査用偏向器５の主走査周波数の関係が、整数比の関係か、整数比の関係から一定数を加減した関係になるように保って、レーザ照射スポットをレーザ照射済みスポットの一部を含むようにオーバーラップ位置を制御して二次元的に走査する。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数が可変の複数の超短光パルスを備えるパルスレーザビームを生じさせるレーザ光源を提供する。
【解決手段】このレーザ光源は、光パルスを出力するファイバ発振器と、光パルスを受け取るために配置されるパルスストレッチャとを備える。光パルスは光パルス幅を有する。パルスストレッチャは、光パルス幅を拡大し、引き伸ばされた光パルスを生じさせる分散を有する。レーザ光源は、引き伸ばされた光パルスを受け取るように配置されるファイバ増幅器を更に含む。ファイバ光増幅器は、引き伸ばされた光パルスを増幅するための利得を有する。レーザ光源は、光パルス幅を減少させる分散を有する自動的に調整可能なグレーティングコンプレッサを含む。グレーティングコンプレッサは、異なった繰り返し周波数についてこの分散を自動的に調整する。 （もっと読む）

【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 （もっと読む）

【課題】１パルスあたりの出力エネルギーを従来以上に増加させたとしても、レーザチャンバに設けられた光学素子の劣化を抑制することできるエキシマレーザ装置を提供する。
【解決手段】所望するレーザ出力以上の範囲内で、レーザチャンバに設けられた光学素子に照射するレーザビームのエネルギー密度を低下させるように、レーザビームの幅を広げる。 （もっと読む）

【課題】レーザ切断加工機の柔軟性及び機能性を高め、加工レーザの輝度及び出力を切り替えることを可能とし、切断速度に応じて、ファイバレーザ切断加工機を使用する素材厚さの範囲及び応用範囲を広げ、生産性の向上も目指す。
【解決手段】レーザエンジン（１）と、レーザエンジン（１）が発振したレーザ光を分配するビーム分配手段（５）と、ビーム分配手段（５）により選択されてレーザ光が入射される一群のプロセスファイバと（４）を備え、ビーム分配手段（５）により選択されたプロセスファイバ（４）を経たレーザ光を加工ヘッドに入射させる。 （もっと読む）

【課題】一緒に実装され得るレーザの温度を上昇させないように構成されたビームダンプを提供する。
【解決手段】ビームダンプ１０３は、光源１０１（たとえば、周波数変換レーザ）から光（たとえば、初期光）を受光するように構成された不透明なエンクロージャを含むことができ、前記光は、１つまたは複数の接続された光ファイバ１０２を介して、エンクロージャの開口を通って伝送される。受光した光は、エンクロージャ内で散乱し得る。しかしながら、ビームダンプ１０３は、（１つまたは複数の）ファイバ１０２中への戻り散乱光である光の量を最小限に抑えるように構成される。たとえば、戻り散乱光の量は、初期光の１／１０００未満となり得る。さらに、ビームダンプ１０３は、光がエンクロージャの内側表面に接触するときに生じ得る光汚染を最小限に抑えるように構成することができ、小型で低コストの構造となる。 （もっと読む）

【解決手段】ライン結像システムは、レーザ２０、第１空間フィルタＳＦ１を挟む第１及び第２円筒形光学システムＣＬ１、ＣＬ２、ナイフエッジ開口５０、円筒形中継システムおよび円筒形集束レンズＣＦＬを備える。第１空間フィルタＳＦ１は、中心ローブ内でライン焦点ＬＦ１を切り捨てるように構成されており、第１光線を形成する。第２円筒形レンズシステムＣＬ２は、遠隔フィールドに配置されており、第１光線の中心強度ローブを通過させ、範囲外の強度ローブを遮断する空間フィルタ処理を実行するように構成されている。結果的にフィルタ処理が２回実行された光線は、ライン像ＬＩの長手方向に関して比較的先端平坦な強度分布を有する。
【効果】ナイフエッジ開口５０以降の切り捨てにより、従来のライン結像システムよりも多くの光が通過する。 （もっと読む）

【課題】バースト発光におけるノイズを低減させたレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置１が、パルス光発生部１０と、パルス光発生部１０から発生したパルス光Ｌｐを２つのパルス光に分離させる分岐カップラー素子１２と、分岐カップラー素子１２において分離された２つのパルス光Ｌｐ１，Ｌｐ２をそれぞれ同軸に重ね合わせて紫外光を発生させる波長変換部と、分岐カップラー素子１２と波長変換部とに接続された経路の異なる第１光路Ｒ１１および第２光路Ｒ１２と、第２光路Ｒ１２の光路長を、第２のパルス光Ｌｐ２が波長変換部で第１のパルス光Ｌｐ１と時間的に重なる第１光路長および、第２のパルス光Ｌｐ２´が波長変換部で第１のパルス光Ｌｐ１と時間的に重ならない第２光路長のいずれかに選択的に切り替える一対の光スイッチング素子１４，１５とを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】レーザ光出力ポートを構成する複数の光出射端それぞれからのレーザ光供給を可能にするレーザ装置に於いて、全体として低消費電力化と低非線形化を実現する。
【解決手段】種光源41と、出射端70a,70bと、中間光増幅器AMP0と、光分岐器80と、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂を備え、光出射端70a,70bの数は種光源41の数よりも多く、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂と光出射端70a,70bとは互いに一対一に対応し、光分岐器80は、種光源41に対応した入力ポートと光出射端70a,70bそれぞれに対応した複数の出力ポートを有し、中間光増幅器AMP0は種光源41と光分岐器80との間の光路上に配置される一方、最終段光増幅器AMP1₁,AMP1₂は光出射端70a,70bと光分岐器80との間の光路上にそれぞれ配置される。 （もっと読む）

【課題】従来のパルス発振ファイバレーザ光源の構成ではパルス発振を得るための部材が効率低下の要因となっていた。また、高効率な波長変換素子を使用した場合出力が飽和したり波長変換素子が劣化したりする等の問題があった。
【解決手段】Ｙｂファイバレーザ共振器部分のＹｂファイバに励起が弱くなる部分をもうけ、ポンプ用ＬＤに印加する電流をパルス状にすることによりファイバレーザを安定的にパルス発振させ、高効率な波長変換を実現する。 （もっと読む）

【課題】高出力化を実現するレーザー光源装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザー光源装置は、基台１１と、発光部２２を有する第１発光素子（第１半導体レーザー素子１２）と、発光部２３を有する第２発光素子（第２半導体レーザー素子１３）と、第１発光素子と第２発光素子との間の光路上に配置され、各発光素子から射出された基本波長のレーザー光の少なくとも一部を所定の変換波長のレーザー光に変換する波長変換素子１６と、基台１１に支持され、波長変換素子１６を保持する保持部材２６とを備え、第１発光素子及び第２発光素子は、互いに一方の発光素子の発光部から射出されたレーザー光が他の発光素子の発光部に入射するように配置され、保持部材２６は、基台１１に対して、互いに直交する任意の２つの軸を中心とする各回転動作における回転角度が調整可能とされている。 （もっと読む）

【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 レーザビームを出射するビーム出射装置と、加工対象物を保持するステージと、ビーム出射装置を出射したレーザビームをステージに伝搬する光学系と、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替える制御装置とを有し、ビーム出射装置は、レーザ光の波長を変換する波長変換素子を含み、レーザ媒質の励起波長の高調波を出射するレーザ光源と、外部から与えられる信号により、レーザ光源を出射したレーザビームの一部をレーザビームの経路を逆向きに伝搬するように反射するとともに、残余のレーザビームをビーム出射装置の外部に出射させない戻り光発生装置とを備え、制御装置は、戻り光発生装置への信号で、ビーム出射装置からレーザビームが出射する状態と出射しない状態とを切り替えるレーザ加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 従来のレーザ光吸収装置の問題点であった、ビーム径拡大レンズ上でのレーザ強度を、ビーム径拡大レンズの両面に施されている無反射コーティングが長期的に十分に耐えられるレベルにまで弱め、数キロワットクラスのレーザ光に対しても長期的に信頼性のあるレーザ光吸収装置を得る。
【解決手段】 レーザ光１ａを拡散する機能を有し、レーザ光１ａが入射あるいは出射する両面には無反射コーティングが施されていない拡散板１１を、ビーム径拡大レンズ８と同一光路上でレーザ光吸収体２とは反対側のビーム径拡大レンズ８の前方に備え、ビーム径拡大レンズ８に入射するビームの直径を拡大する。 （もっと読む）

【課題】より有効にレーザ光を利用しながら、より電気絶縁性に優れたエッジデリーションを行う。
【解決手段】SHGレーザ発振器１１３は、パルス発生器１１１から供給される出射指令信号に同期してSHGパルスを出射し、基本波レーザ発振器１１４は、遅延回路１１２により遅延された出射指令信号に同期して基本波パルスを出射する。SHGパルスおよび基本波パルスは、角形光ファイバ１２０を通過し、２波長コリメータレンズ１２１および２波長結像レンズ１２２により、スリット１２３の入射面において矩形の開口部を含むように結像された後、スリット１２３を通過し、２波長結像レンズ１２４および２波長ｆθレンズ１２６により、薄膜太陽電池パネル１０２の加工面に入射し結像される。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。
【解決手段】イオン化レーザ装置１は、ターゲットＴｓｎを励起させる第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２を出力する第１、第２レーザ１０２、２０２と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２の絶対波長を検出する第１、第２絶対波長検出器１１０、２１０と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２により励起したターゲットＴｓｎをイオン化する第３レーザ光ＬＳ３を出力する第３レーザ３０２と、第３レーザ光ＬＳ３の絶対波長を検出する第３絶対波長検出器３１０と、第１〜第３レーザ光ＬＳ１〜ＬＳ３の絶対波長に基づいて第１〜第３レーザ１０２〜３０２を制御するイオン化レーザコントローラ１０および第１〜第３コントローラ１０１〜３０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】膜付きの基板を加工する際に発生する金属粒子による集光レンズへの影響を抑制する。
【解決手段】ワークであるガラス基板上にレーザ光を照射して加工を行なうと、基板上の膜が気化し、集光レンズ付近に気化した金属粒子（イオン，蒸気）が浮遊し、この粒子が集光レンズ付近に巻き上がる。集光レンズを保持する気密型容器手段内を陽圧に維持し、この金属粒子などが気密型容器手段内に侵入するのを防止する。これによって、気密型容器手段内の集光レンズに金属粒子などが蒸着することがなくなり、集光レンズをクリーンに維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レーザ光の増幅効率の良いレーザ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 レーザ装置１００は、レーザ光を出力するレーザ光源１０と、励起光を出力する励起光源３０と、コア部２１及びクラッド部２２を有し、レーザ光及び励起光が入力され、コア部２１によりレーザ光を伝播し、コア部２１とクラッド部２２とにより励起光を伝播する光ファイバ２０と、希土類元素が添加され、入力端面５１及び出力端面５２を有して、コア部２１の直径よりも直径が太く、光ファイバ２０から出力されるレーザ光及び励起光が入力端面５１から入力され、少なくともレーザ光が出力端面５２から出力されるガラスロッド５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡明かつ低廉な構成で、和周波発生素子における光パルスの重なりを調整可能な光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置１は、パルス光を発生するレーザ光発生部１０と、発生されたパルス光を複数に並列分岐して各パルス光を各々増幅し出射する複数の光増幅器２１〜２３を備えた光増幅部２０と、これらの光増幅器から出射されたパルス光を同軸に重ね合わせて波長変換光学素子に入射させ、和周波発生により高調波を発生させる波長変換部３０とを備える。光増幅器２２，２３の出口部分には、波長変換部３０に出射されるパルス光を平行光にコリメートする光学素子５０と、波長変換部３０に対する光学素子５０の光軸方向の位置を調整設定可能な調整機構６０とが設けられる。 （もっと読む）