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Fターム[5F173AC13]の内容

半導体レーザ (89,583) | 垂直共振器を有するレーザの構造 (4,657) | 反射鏡の構造 (2,252) | 基板と反対側の反射鏡 (1,041) | 半導体反射鏡 (757)

Fターム[5F173AC13]に分類される特許

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【課題】偏光を制御することができる面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザは、基板100と、基板上に形成されかつ垂直共振器を含み、レーザ光を出射するレーザ素子部20と、基板上に形成されかつ各々が垂直共振器を含み、レーザ素子部20を間において対向する側にそれぞれ配置されたダミー素子部30A、30Bと、レーザ素子部20に駆動電流を供給するための電極部152と、ダミー素子部30A、30Bに駆動電流を供給するための電極部162とを有する。ダミー素子部30A、30Bの出射領域は、p側電極により遮蔽されかつ基板100を介してレーザ素子部20に熱的に結合される。 (もっと読む)


【課題】基本横モードを維持しつつ偏光制御を安定化させることができる面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】VCSEL10は、n型GaAs基板100と、基板上に形成された下部メサM2と、下部メサM2上に形成された上部メサM1とを含む。上部メサM1には、p型の上部DBR106、p型の酸化制御層120、活性層104が含まれ、下部メサM2には、n型の下部DBR102、n型の酸化制御層130が含まれている。酸化制御層130は、酸化制御層120よりも活性層104に近く、酸化制御層130の酸化領域130Aの面積は、酸化制御層120の酸化領域120Aの面積よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】レーザ光出射領域を備えた上部DBR層の電流が存在する領域と半導体表面を分離し、半導体表面を始点とする転移の成長が、電流により加速されることを抑制し、信頼性の高い垂直共振器型面発光レーザを提供する。
【解決手段】基板上に、下部及び上部DBR層、これらの間の活性層、とを少なくとも有し、上部DBR層の表面層にレーザ光を外部に出射するレーザ光出射領域を備えた垂直共振器型面発光レーザであって、
部DBR層は、ドーングされた第1の多層膜半導体層と、ドーングされていない第2の多層膜半導体層と、を備え、
部DBR層に設けられる電極が、第1の多層膜半導体層の上部であって、第2の多層膜半導体層に囲まれた領域に形成され、
ーザ光出射領域が第2の多層膜半導体層の表面層に形成されており、
第1の多層膜半導体層の表面層がコンタクト層によって形成され、コンタクト層の上に第2の多層膜半導体層が積層されている。 (もっと読む)


【課題】プリンタヘッドに用いるガウス光分布を有し、高温に強い半導体レーザ・ダイオード、及びそれを採用したプリンタヘッド及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ・ダイオードであって、n型分散ブラッグ反射器と、p型分散ブラッグ反射器と、前記n型分散ブラッグ反射器とp型分散ブラッグ反射器との間に配置される活性層とを含む共振器と、前記共振器の側面の外周囲に備わる凹凸パターンとを有する。 (もっと読む)


【課題】安定的にシングルモード発振を得ることができる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子1では、光が通過する光通過面に、光軸を囲むように光屈曲部10と光強度低減部11とが設けられている。これにより、光軸の周辺に発生する高次モード光L2を光屈曲部10において外側に屈曲させることができるので、光軸に沿った高次モード光L2の出射を抑制することができる。また、光屈曲部10の反射によって結晶内を外側に進む光は、光強度低減部11において干渉されることで強度が低減される。そのため、高次モード光L2が戻り光となって活性層6へ再入射することを防止することができる。従って、高次モード光L2を抑制することができると共に、レーザ光のノイズ発生を低減することができるので、安定的にシングルモード発振を得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】量子ドットから構成される所望とする状態の人工分子が形成できるようにする。
【解決手段】第1半導体からなる各々離間して配置された複数の量子ドット101と、これら量子ドット101の間に配置された第2半導体からなる半導体層102とを少なくとも備える。また、第1半導体と第2半導体とはエネルギーギャップ(バンドギャップエネルギー)が異なり、各々の量子ドット101の間隔Lbは、第1半導体中の励起子のボーア半径の0.5倍〜5倍の範囲とされている。また、よりよくは、この間隔が、第1半導体中の励起子のボーア半径の1倍〜5倍の範囲とされている。 (もっと読む)


【課題】高い歩留まりで、信頼性の高い面発光型半導体レーザーを提供する。
【解決手段】半導体基板の表面上に、下部反射鏡と、半導体材料により構成される活性層と、半導体材料の一部の領域を酸化することにより電流狭窄構造が形成される選択酸化層、上部反射鏡を有し、半導体基板には下部電極が、上部反射鏡には上部電極が接続され、上部電極と下部電極の間に電流を流すことにより、半導体基板面に対し垂直にレーザー光を発する面発光型半導体レーザーにおいて、上部反射鏡、選択酸化層、活性層をエッチングすることによりメサ構造領域と電極パッド領域を形成し、メサ構造領域及び電極パッド領域には、第1の誘電体層と、第2の誘電体層が形成されており、電極パッド領域に形成される第2の誘電体層は、第1の誘電体層よりも狭い領域に形成されていることを特徴とする面発光型半導体レーザーを提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】トンネル接合を特性を劣化させずに、良好な発光特性を提供できる、垂直共振型面発光半導体レーザを作製する方法を提供する。
【解決手段】半導体基板11の主面11a上に第1の分布ブラッグ反射器13を作製する。分布ブラッグ反射器(DBR)13上に、第1のn型スペーサ半導体層15、活性層17、及びp型スペーサ層19を成長する。次いで、原料ガス及び炭素ドーパントを成長炉10に供給しトンネル接合のためのp型高濃度半導体層21をp型スペーサ半導体層19上に成長する。p型高濃度半導体層21を成長した後に、p型高濃度半導体層21の熱処理25を行う。熱処理25を行った後に、原料ガス及びn型ドーパントを成長炉10に供給して、トンネル接合のためのn型高濃度半導体層27を成長する。熱処理温度TTHは摂氏500度〜600度の範囲である。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性を有する面発光レーザ素子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 基板101上に下部半導体DBR103、下部スペーサ層104、活性層105、上部スペーサ層106、上部半導体DBR107を積層する。そして、分離用の溝152を形成することによって露出した下部半導体DBR103の最表面を不動態化する。そして、不動態化によって生成された酸化膜153を、誘電体であるSiN、SiON及びSiOのいずれかからなるパッシベーション膜111で被覆する。この場合、信頼性を従来よりも向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】隣り合う面発光レーザとのクロストークを抑制することが可能となる二次元フォトニック結晶を備えた面発光レーザアレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】活性層と二次元フォトニック結晶を備え、該二次元フォトニック結晶の面内方向に共振モードを有し、該二次元フォトニック結晶の面に対して垂直方向に光を取り出す面発光レーザが、アレイ状に配列された面発光レーザアレイであって、
前記面発光レーザはメサ状の傾斜した側壁面を有し、
前記二次元フォトニック結晶を含む導波路に入射光が結合する前記メサ状の傾斜した側壁面に対する最大受光角度をθmax°としたとき、
前記二次元フォトニック結晶の面と前記メサ状の傾斜した側壁面とのなす角度が、(90+θmax)°超、または(90−θmax)°未満とされている。 (もっと読む)


【課題】柱状構造近傍の絶縁保護膜の剥離を抑制した面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ10は、基板12と、バッファ層14を含むn型の下部DBR16と、活性層20と、p型の上部DBR22と、上部DBR22から下部DBR16至る半導体層をエッチングして形成されたポストPと、ポストPの底部において絶縁保護膜26の開口部26Bを介してバッファ層14に至るコンタクト溝32と、バッファ層14に電気的に接続されるn側電極34と、ポストPの頂部において絶縁保護膜26の開口部26Aを介して上部DBR22に電気的に接続されるp側電極28と、コンタクト溝32とポストPとの間の下部DBR16に形成された絶縁保護膜の剥離を防止する剥離防止溝50とを有する。 (もっと読む)


【課題】短時間かつ低コストで面発光型半導体レーザ素子をバーンインする方法を提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ素子のバーンイン方法は、面発光型半導体レーザ素子に熱的負荷を与えるためのストレス電流を印加するステップ(ステップS104)と、ストレス電流を印加した面発光型半導体レーザ素子に測定電流を印加し、面発光型半導体レーザ素子の光量を測定するステップ(ステップS105)と、測定された結果に基づき面発光型半導体レーザ素子の合否判定を行うステップと(ステップS106)を有する。ストレス電流は、面発光型半導体レーザ素子から出射される光量が増加から低下に変化するときの駆動電流(サーマルロールオーバの駆動電流)よりも大きく、面発光型半導体レーザ素子が故障するときの故障電流よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】
光結合効率が高く、高密度実装された小型の光モジュールを提供する。
【解決手段】
光モジュールにおいて、半導体基板11の主表面に対して光を垂直方向に出射する発光素子が光出射領域に集積されたレンズ19と光出射領域を囲むように集積された保持部22とを有することにより、発光素子と発光素子からの光を導波する光ファイバ31との水平垂直方向の位置合わせの簡易性が向上し、光結合効率が高く、高密度実装された小型の光モジュールを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】高出力のシングルモード発振を簡易な構成かつ低閾値電流で実現することの可能な半導体レーザを提供する。
【解決手段】メサ部17内には、AlxGayIn1-x-yP(0≦x<1、0<y<1)系の材料(赤色系の材料)からなる活性層13と、面内の中央領域に未酸化領域18Bを有すると共に、未酸化領域18Bの周縁に環状の酸化領域18Aを有する電流狭窄層18とが設けられている。メサ部17の上面には、未酸化領域18Bに対応して高反射領域23Aを有すると共に、高反射領域23Aの周縁に環状の低反射領域23Bを有する横モード調整層30が設けられている。酸化領域18Bの直径Doxおよび未酸化領域18Bの直径Dhrは0.8<Dhr/Dox<1.5を満たしている。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で不純物の不活性化を抑制することの可能な半導体層の製造方法、不純物の不活性化が抑制された半導体層、簡易な方法で不純物の不活性化を抑制することの可能な半導体レーザの製造方法、および不純物の不活性化が抑制された半導体層を備えた半導体レーザを提供する。
【解決手段】上部DBR層を形成したのち、結晶成長を完了した段階(時刻t1)で、TMA、TMG、DMZの供給を停止すると共に、プロセス温度の降下を開始する。AsH3については、プロセス温度が500℃以上となっている時に供給を停止する。このとき、AsH3に代わる新たなガス、例えば、有機Asや窒素などを別途供給しない。 (もっと読む)


【課題】低コストで高い歩留まりの面発光半導体レーザを提供する。
【解決手段】半導体材料により構成される活性層を、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される2つの反射鏡によって上下から挟み込まれた積層体を半導体基板の表面上に形成してなり、該半導体基板の前記積層体を形成した面と反対側の面に下部電極が接続され、前記積層体の上部の反射鏡表面に上部電極が接続され、前記電極の間に電流を流すことにより、前記半導体基板面に対して垂直にレーザ光を発する面発光半導体レーザにおいて、該面発光半導体レーザは上側の反射鏡に形成された半導体膜の一部の領域を酸化することにより、電流狭窄構造が形成される選択酸化層を有するとともに、前記活性層と前記選択酸化層と前記上側の反射鏡領域においてメサ構造が形成されており、該メサ構造の側壁面に、前記選択酸化層の前記積層体の上部からの深さ方向位置を検出する検出部を設ける。 (もっと読む)


【課題】発光効率を高めることができる半導体発光素子、光ピックアップ装置、光源装置および半導体発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体発光素子は、ウルツ鉱型結晶構造の無極性面と当該無極性面に沿った方向とは直交する有極性面とを有する下地層1と、下地層1の当該無極性面である成長面1A上に形成されており、当該無極性面1Aにおける下地層1の格子定数とは異なる格子定数を有するIII族窒化物半導体からなる複数の量子細線活性層2とを含み、量子細線活性層2は、前記有極性面の法線方向(c軸方向)に伸長するように形成されている。 (もっと読む)


【課題】 発光部に対してレンズが高精度で位置合わせされた面発光素子を提供する。
【解決手段】 本発明の面発光素子は、一方の面にレンズ102が形成されているレンズ基板101と、半導体エピタキシャル層を含む発光部103とを含み、
前記レンズ基板101に、目合わせマーク104が形成されており、
前記レンズ基板101の前記レンズ102が形成されている面上に、前記半導体エピタキシャル層と前記レンズが対向している状態で、前記発光部103が配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造歩留まりが高い一次元アレイ素子の製造方法および信頼性が高い一次元アレイ素子を提供すること。
【解決手段】III−V族半導体材料からなる一次元アレイ素子の製造方法であって、エピタキシャル成長を用いて、主表面として(100)面を有する基板の該主表面上に、素子領域中の一部に活性領域を有する単一素子を<011>方向に対してゼロよりも大きい角度をなす配列方向に複数配列して構成した一次元アレイ素子を複数形成し、該形成した一次元アレイ素子を素子分離する。 (もっと読む)


【課題】GaAsを含む活性層を備える光半導体素子において、Geの拡散が少なく、良好なデバイス特性が得られるようにする。
【解決手段】光半導体素子を、Ge層2と、Ge層2上に形成され、GaAsのAsサイトの一部がGaで置換されている第1GaAs層3と、第1GaAs層3の上方に形成されたGaAsを含む活性層4とを備えるものとする。 (もっと読む)


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