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Fターム[5F173AC13]の内容

半導体レーザ (89,583) | 垂直共振器を有するレーザの構造 (4,657) | 反射鏡の構造 (2,252) | 基板と反対側の反射鏡 (1,041) | 半導体反射鏡 (757)

Fターム[5F173AC13]に分類される特許

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【課題】偏光方向を安定させるとともに、高次横モードの抑制効果を維持することができる面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】 射出領域内で、該射出領域の中心部から外れた部分に設けられた2つの小領域(第1の小領域と第2の小領域)には、各小領域の反射率を射出領域の中心部の反射率よりも低くする誘電体膜であるモードフィルタ115A及びモードフィルタ115Bがλ/4の光学的厚さで形成されている。そして、各モードフィルタは、高次横モードに対する反射率が、X軸方向よりもY軸方向のほうが相対的に大きくなるように配置され、電流通過領域は、X軸方向に関する幅が、Y軸方向に関する幅よりも大きくなるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】高次横モード発振を抑制し高出力の基本横モード発振を得ることができる面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ10は、基板100と、n型の下部DBR102と、活性領域104と、p型の上部DBR106と、基板上に形成されたメサMと、メサM内に形成され、選択的に酸化された酸化領域108Aによって囲まれた導電領域108Bを有する電流狭窄層108と、メサMの頂部に形成され、光出射口110Aを規定する環状のp側電極110と、第1の屈折率を有し光出射口110Aを覆う第1の絶縁膜112と、第1の屈折率よりも大きい第2の屈折率を有し、第1の絶縁膜上に形成された円形状の第2の絶縁膜118とを有する。 (もっと読む)


【課題】安定して高い精度の光走査を行うことができる光走査装置を提供する。
【解決手段】 光源は、ポリゴンミラー2104及び走査光学系を介して感光体ドラムを走査する光束が射出される複数の発光部と、ポリゴンミラー2104及び走査光学系を介してセンサアレイに入射する光束が射出される1つの発光部とを有している。センサアレイは、主走査方向に関して互いに異なる位置に配置された6つの光検知センサを有し、対応する感光体ドラムの有効走査領域に集光される光束の副走査方向に関する位置ずれ情報が含まれる信号を出力する。 (もっと読む)


【課題】高コスト化を招くことなく、光量変動の少ない安定した光を射出することができる光デバイスを提供する。
【解決手段】 カバーガラス300は、レーザチップの射出面に対して傾斜角17°で傾斜して、パッケージ部材200に安価な樹脂系接着剤で固定されている。そして、パッケージ部材200におけるカバーガラス300を支持している部分の一部には、接着剤が塗布されていない。この場合は、カバーガラス300として、安価な無反射ガラス板を用いても、戻り光がレーザチップの活性層の中に侵入することを防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】新規な垂直光電子構造の製造方法、及び、垂直共振器型面発光レーザを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、垂直光電子構造の製造方法であって、a)第1の基板と、第1の基板に形成されたInGaNシード層との積層体を提供するステップと、b)基板上InGaN構造を得るために、InGaNシード層上にInGaN層を成長させるステップと、c)InGaN層の表面上にわたって第1のミラー層を形成するステップと、d)第1の基板を剥離するステップと、e)InGaNの反対の表面上にわたって第2のミラー層を形成するステップとをさらに含む垂直光電子構造の製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】高次横モードの発振を抑制するとともに、光量変動の少ない光を射出することができる光デバイスを提供する。
【解決手段】 レーザチップ100は、面発光レーザアレイであり、各発光部は、基板上に下部半導体DBR、活性層を含む共振器構造体、上部半導体DBR、コンタクト層109が積層されている。そして、レーザ光の射出領域内に、該射出領域の中心部を挟むように設けられ、反射率を中心部の反射率よりも低くする透明な誘電体膜(115A、115B)を有し、Z軸方向からみたときに、誘電体膜によって挟まれる領域の内側に、電流通過領域108bが位置するように設定されている。 (もっと読む)


【課題】素子分離溝の壁面からの酸化がされにくい信頼性の高い面発光レーザーを提供する。
【解決手段】半導体基板の表面上に、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される下部反射鏡と、半導体膜からなる活性層と、半導体膜からなる電流狭窄層と、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される上部反射鏡とをエピタキシャル成長により形成する半導体層形成工程と、前記半導体層形成工程により形成された半導体膜の一部をエッチングすることにより、メサ構造を形成するメサ構造形成工程と、前記半導体層形成工程により形成された半導体膜を前記半導体基板の表面までエッチングすることにより素子分離溝を形成する素子分離溝形成工程と、前記素子分離溝の壁面に、絶縁体からなる絶縁体保護膜を形成する絶縁体保護膜形成工程と、前記絶縁体保護膜上に金属材料からなる金属保護膜を形成する金属膜形成工程と、を有することを特徴とする面発光型レーザーの製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 活性層及びミラー層に結晶欠陥が生じるのを抑制しつつ、素子容量を低減させ得る半導体発光素子を提供する。
【解決手段】 半導体発光素子1Aでは、高抵抗層3、活性層7及びDBR層6,8が化合物半導体基板2上に積層されている。ここで、化合物半導体基板2は、ドナーとなる不純物を含む半導体基板であるため、結晶欠陥が少ないものとなっている。これにより、活性層7及びDBR層6,8に結晶欠陥が生じるのを抑制することができる。しかも、高抵抗部10Aにおいて電極形成部15を包囲する部分100Aが高抵抗層3に達している。更に、化合物半導体基板2において発光部14及び電極形成部15に対応する部分23を包囲する高抵抗部20Aが高抵抗層3に達している。これらにより、電極形成部15及び部分23の電気的フローティングの度合いが高まるので、素子容量を低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】素子分離溝の壁面からの酸化がされにくい信頼性の高い面発光レーザーを提供する。
【解決手段】半導体基板の表面上に、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される下部反射鏡と、半導体膜からなる活性層と、半導体膜からなる電流狭窄層と、異なる屈折率の半導体膜を交互に積層することにより形成される上部反射鏡とをエピタキシャル成長により形成する半導体層形成工程と、前記半導体層形成工程により形成された半導体膜の一部をエッチングすることにより、メサ構造を形成するメサ構造形成工程と、前記半導体層形成工程により形成された半導体膜を前記半導体基板の表面までエッチングすることにより素子分離溝を形成する素子分離溝形成工程と、前記素子分離溝の壁面及び前記メサ構造の側面に半導体材料からなる再成長層を形成する再成長層形成工程と、前記再成長層上に、絶縁体からなる保護膜を形成する保護膜形成工程と、を有することを特徴とする面発光型レーザーの製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】高次横モードの発振を制御しつつ、偏光方向を安定させることができる面発光レーザ素子を提供する。
【解決手段】 射出領域内に、X軸方向とY軸方向で形状異方性を有し、反射率を中心部の反射率よりも低くする透明な誘電体膜であるモードフィルタがλ/4の光学的厚さで形成されている。このモードフィルタの形状は、射出領域の中心部を取り囲む円環状において、射出領域の中心の+Y側及び−Y側となる部分に、切除部がそれぞれ設けられている形状である。そして、各切除部は、いずれも、射出領域の中心部に近い側が遠い側に比べて小さくなるように設定されている。 (もっと読む)


【課題】従来例のような貼り合わせ技術を用いずに、フォトニック結晶層下部の部材と、該結晶層との屈折率差を確保することが可能となる面発光レーザの製造方法を提供する。
【解決手段】面発光レーザの製造方法であって、
基板上に、クラッド層と、面内方向に細孔が配列されたフォトニック結晶層とを有する部材を用意する第1の工程と、
前記フォトニック結晶層の細孔の下部側に位置する前記クラッド層を酸化し、該クラッド層に、該フォトニック結晶層の屈折率よりも低い屈折率を有する酸化領域、および非酸化領域を形成する第2の工程と、
を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】モード競合雑音を抑制できる半導体レーザモジュールを提供する。
【解決手段】主モード181と高次モード182を有する横マルチモード半導体レーザ100と、レンズと、を備える半導体レーザモジュールであって、高次モードの光182が仮想的な点光源からの光であるとした場合に、高次モードの光のニアフィールドパターンおよびファーフィールドパターンから得られる仮想的な点光源の位置180を高次モードの光の発光位置であるとして、半導体レーザとレンズとの距離を設定する。 (もっと読む)


【課題】グレーティングカプラへのレーザ光の結合効率が向上すると共に実装精度も向上させることが可能な面発光レーザ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体層20上に光透過性の厚い絶縁膜28を形成し、この絶縁膜28から半導体層20中のn型DBR層21に達する円環形状の溝28Aを形成する。マスク(レジスト層34を絶縁膜28上に形成すると共に溝28Aにも充填させ、このレジスト層34の溝28Aの近傍位置に開口34Aを設ける。この開口34Aからエッチング液を導入し絶縁膜28を加工することによって、傾斜した光出射面3Aを有するプリズム3を形成する。これにより素子本体2の光出射面20Aに対して垂直な方向よりも傾いたレーザ光を出射する面発光レーザ素子1が得られる。 (もっと読む)


【課題】高密度の結晶欠陥および表面ラフネスの発生を抑制することの可能な半導体レーザを提供する。
【解決手段】
基板10の一面側に、下部DBR層11、下部スペーサ層12、活性層13、上部スペーサ層14および上部DBR層15をこの順に積層してなる積層体20が設けられている。積層体20の上部、例えば、活性層13、上部スペーサ層14および上部DBR層15には柱状のメサ部16が形成されている。基板10は、C面(0001)から[1−100]方向に0度よりも大きなオフ角を有する傾斜基板によって構成されている。 (もっと読む)


【課題】光利用効率の高い、高光出力の面型発光素子を提供する。
【解決手段】面型発光素子は、半導体基板10上に設けられた、半導体基板10の面と交差する方向に光が放出される発光部11と、半導体基板10の面と対向する出射面側に設けられた、外部に光を出射するための開口部13aを備える遮蔽部13と、発光部11と遮蔽部13の間に設けられた、入射した光が蓄積される光蓄積層12と、を有する。光蓄積層12は、凹部または凸部が発光部10から放出された光の進行方向と交差する方向に周期的に設けられた周期構造を備え、該周期構造の表面の少なくとも一部の領域に、光子を捕獲する微小凹凸が形成されている。 (もっと読む)


半導体ヘテロ構造を具備する光子源であって、前記半導体ヘテロ構造は、量子井戸(97)と、前記量子井戸に隣接する障壁領域(85)と、前記量子井戸内に設けられる量子ドット(95)と、を含み、前記光子源は、電気的コンタクト(87、93)と、前記量子ドットの放射エネルギーを制御するために前記量子ドットに調整可能な電場を印加するように構成される第1及び第2の電気的コンタクトに結合される電源と、をさらに具備し、前記電場は、動作範囲にわたって調整可能であり、前記量子ドットから前記第1の電気的コンタクトへのキャリアのトンネル時間及び前記量子ドットから前記第2の電気的コンタクトへのキャリアのトンネル時間は、前記放射エネルギーを制御するための前記動作範囲にわたって前記量子ドット内の励起子の放射減衰時間より大きく、前記光子源は、単一量子ドットからの放射が前記光子源から出るように構成される、光子源。
(もっと読む)


【課題】他の光学部品への集光特性を向上させることが可能な面発光レーザ装置を提供する。
【解決手段】面発光レーザ素子110の光出射面110Aに直接、光導波路120を設けて、そのコア層121の径を、面発光レーザ素子110のニアフィールドパターンと同等またはニアフィールドパターンよりも小さくする。面発光レーザ素子110で発生した光は、出射して広がってしまう前に、すなわちニアフィールドパターンでまだ広がらない状態で、光導波路120のコア層121に入る。コア層121に入った光は、ニアフィールドパターンから広がらない状態のまま、コア層121を導かれ、次の光学部品へ光結合される。よって、出射光の拡大が抑えられ、次の光学部品への集光特性が向上する。 (もっと読む)


【課題】簡素な製造工程により、光検出精度を高めることの可能な半導体発光装置を提供する。
【解決手段】活性層22および半導体光検出素子1の間に、電流狭窄のための第1酸化層41とは別に、一層以上の第2酸化層42を設ける。自然放出光は発散成分が多いので、第2酸化層42によって反射散乱されて、半導体光検出素子1側への伝播が抑えられる。半導体光検出素子1による自然放出光の検出レベルが低減され、光検出精度が高まる。第1酸化層41と第2酸化層42とを一回の酸化工程で形成することが可能となり、製造工程の簡素化が可能となる。 (もっと読む)


【課題】偏光方向を制御することができる面発光型半導体レーザを提供する。
【解決手段】面発光型半導体レーザ10は、基板100と、基板上に形成されたn型の下部DBR102と、活性領域104と、p型の上部DBR106と、レーザ光を出射する光出射口112Aが形成されたp側電極112と、光出射口112Aを部分的に覆うように形成され、レーザ光の発振波長に対して透明な材質から構成され、長手方向と短手方向に異方性を有する絶縁膜120とを有し、絶縁膜120が形成された上部DBR106の反射率は、絶縁膜120が形成されていない上部DBR106の反射率よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】結晶主方向7を有する結晶構造、ビーム出射面4、半導体基体1をラテラル方向に形成している側面7を有している半導体基体を備えた面発光半導体レーザチップにおいて、エージング特性が改善されたもしくは寿命が高められた面発光半導体レーザチップ。
【解決手段】少なくとも1つの側面5が結晶主方向7に対して斜めに配置されている。 (もっと読む)


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