【課題】通常の真空成膜法によりプラスチック基材上にＩＴＯ膜の成膜を行うと、非晶質の中に結晶質が混在した膜になってしまう問題が発生する。また、成膜時に水や水素等の還元性ガスを導入し非晶質膜を得る方法は、各々のガスを使用するための装置が別途必要となる。
【解決手段】本発明は、基材の少なくとも一方の面に有機層とＩＴＯ薄膜層とを順次積層した透明導電性積層体であって、有機層の含水率が０．５％以上であり、ＩＴＯ薄膜層が、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折測定において３０°〜３１°の範囲に酸化インジウムの結晶のピークをもたない、非晶質な膜であることを特徴とし、更に、有機層が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースのいずれかを主成分とすることを特徴とする透明導電性積層体である。 （もっと読む）

【課題】加工性の良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の一方の面にアモルファス透明導電性薄膜が設けられたアモルファス透明導電性積層体と、前記透明プラスチックフィルム基材の他方の面に粘着剤層を介して設けられた、少なくともフィルム基材を有する離型フィルムとを有し、前記離型フィルムの厚みが、前記アモルファス透明導電性積層体の厚みより大きく、前記アモルファス透明導電性積層体のＭＤ方向の熱収縮率から前記離型フィルムのＭＤ方向の熱収縮率を引いた値が、−０．３〜０．４５％であることを特徴とする粘着剤層付き透明導電性フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】高い性能（例えば、透明性や導電性）を発現できるカーボンナノチューブからなる透明導電膜を、簡単に、かつ、低廉なコストで提供することである。
【解決手段】単層カーボンナノチューブが硝酸あるいは硝酸と硫酸との混酸による湿式酸化されることで得られたＣＯＯＭ（Ｍ＝Ｋ，Ｎａ等の金属元素）基を有する単層カーボンナノチューブを含む導電層を、基材上に有する透明導電膜。カルボキシル基を有する単層カーボンナノチューブはバンドル状態で存在し、バンドルの長さが５μｍ以上であり、単層カーボンナノチューブはアーク放電法によって作製されたものである。 （もっと読む）

【課題】塗布膜とスパッタ膜とを備え、且つ、従来に比べて厚み方向における導電性の向上が図られた透明導電膜、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドを含む溶液から得られたゾルを、基材１４に塗布し、それを乾燥させて、第１の透明導電膜（塗布膜１１）を形成し、塗布膜１１に対してプラズマ処理を行い、そして、塗布膜１１の上に、スパッタリング法によって第２の透明導電膜（スパッタ膜１２）を形成して、透明導電膜１０を完成させる。プラズマ処理は、例えば、プラズマ放電によって発生させたガスイオンを塗布膜１１に衝突させることによって行われるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】簡単な処理方法によって、微細な粒径の粒子に分散化するとともに、低い加熱温度であっても結晶性が良好な透明導電膜を得ることができるＩＴＯ粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】粉末を構成する粒子が、立方体または直方体の形状であるＩＴＯ粉末を調製した。 （もっと読む）

【課題】長尺の可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターンのマスクパターニングの実現手段を提供することであり、可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターン形成を連続的に行うことで、品質が高く、生産性が高いコストダウン可能な透明導電膜形成装置を提供することにある。また、これに用いるマスク部材、前記の形成装置により作製された有機ＥＬ用の透明導電膜樹脂基板を提供する。
【解決手段】真空槽１内を連続して搬送される長尺の可撓性樹脂基板上に、透明導電膜を形成する透明導電膜の形成装置において、可撓性樹脂基板２の搬送中に、パターン形成用のマスク部材を可撓性樹脂基板に密着し同期して移動させながら、マスク部材Ｍとの密着区間にて薄膜形成手段を用いてパターン成膜を行う透明導電膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜に用いる基板上に凹凸構造を形成するには、エッチングによるものや、スタンパを利用するものであるが、そのいずれも製造には高い技術とコストが必要であった。
【解決手段】 母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる母型または母材表面上にシリカよりなる微粒子が分散され付着されてなる原型を用いて製造されてなる母型とを用いて、該母型と基板前駆体の片面または両面とを互いにプレスする工程により、前記母型の表面形状を前記基板前駆体に転写して形成されてなる片面または両面に前記母型からの転写による凹凸構造を備える前記基板を製造することができ、容易に基板上に凹凸構造を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】薄くて傷の無い透明導電膜を耐熱性の低い基材に形成し、低抵抗で導電性に優れた導電基材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】導電基材１０は、第一基材１１と、この第一基材１１の一面１１ａに、接着層１２、補強層１３および透明導電膜１４が順に重ねて配されてなる。第一基材１１は、例えば樹脂製の基板から構成されれば良い。補強層１３は、例えば、導電性高分子膜または金属膜から構成されれば良い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、インジウム原子に対して０．００１〜１０ａｔ％のカルシウムを含んだＩＴＯターゲットおよび前記ターゲットを用いて製造されたディスプレイ装置用ＩＴＯ透明電極を提供する。
【解決手段】本発明は、酸化インジウム粉末、酸化錫粉末およびカルシウム含有化合物粉末を混合してスラリーを準備するスラリー準備段階、前記スラリーをミリングした後に乾燥して顆粒粉末を準備する顆粒化段階、前記顆粒粉末を成形して成形体を製造する成形段階および前記成形体を焼結する焼結段階を含むＩＴＯターゲットの製造方法を提供する。本発明のＩＴＯターゲットの製造方法を用いて製造されたカルシウムが含まれたＩＴＯターゲットは、スパッタリングノジュールおよびアークの発生が減少して長期間の成膜が可能とある。 （もっと読む）

【課題】 電気的特性を下げることなく均一な配向膜が得られる配向膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 上記課題を解決する手段は、透明導電膜の主成分が単層カーボンナノチューブであって、該単層カーボンナノチューブがバンドル状態で存在しており、走査型電子顕微鏡観察にてバンドルの集合状態であるロープ形状が確認できることを特徴とする透明導電膜、および、これを電極層とする透明電極基板を用いる液晶配向膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】低温で酸化錫膜を形成することができる酸化錫膜形成剤を提供する。
【解決手段】（１）ｐ個のβ位に二重結合を有する有機基（ｐが２〜４の場合有機基は同じでも異ってもよい）とｍ個のハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基又はアシルオキシ基のうちいずれか１種及びｎ個のハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基又はアシルオキシ基のうちいずれか１種と結合した１個の錫原子よりなる化合物（ｐは１〜４、ｍ及びｎは０〜３の整数を示し、ｐ＋ｍ＋ｎ＝４である）（２）２個のβ位に二重結合を有する有機基及び１個の二重結合で結ばれた酸素原子と結合した１個の錫原子よりなる化合物（３）１個のβ位に二重結合を有する有機基と１個の二重結合で結ばれた酸素原子及び１個の水酸基と結合した１個の錫原子よりなる化合物（（１），（２），（３）中の有機基はそれぞれ同一または異なる）の有機錫化合物を少なくとも１種含有する酸化錫形成剤。 （もっと読む）

基板上に被膜される導電層を含む、透明導電体が記載される。より具体的には、導電層は、マトリクス内に内蔵され得るナノワイヤのネットワークを備える。導電層は、光学的に透明、かつパターン化可能であって、タッチスクリーン、液晶表示装置、プラズマ表示パネル等の視覚表示デバイス内の透明電極として好適である。本発明の一実施形態によって提供される方法は、基板上にナノワイヤネットワークを形成するステップであって、ナノワイヤネットワークは、複数のナノワイヤを備える、ステップと、パターンに従って、前記ナノワイヤネットワーク上にマトリクスを形成するステップと、ナノワイヤネットワークをエッチングするステップであって、それによって、第２の領域内の非保護ナノワイヤは、溶解される、ステップとを含む。
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【課題】液晶など各種表示デバイス等の透明導電膜を塗布法で形成する際に用いられ、分散剤を全く含まなくても導電性酸化物微粒子が安定して分散した導電性酸化物微粒子分散液及び、これにバインダーを添加して得られる透明導電膜形成用塗布液、及びこれを塗布、乾燥、硬化して得られる透明導電膜を提供する。
【解決手段】ハロゲン元素で表面修飾された平均粒径１〜５００ｎｍの導電性酸化物微粒子（Ａ）が、分散剤を含まない有機溶剤（Ｂ）に分散した導電性酸化物微粒子分散液であって、有機溶剤（Ｂ）が環状ケトンを主成分とし、かつ該分散液中に含まれる水分量が、導電性酸化物微粒子１００重量部に対し１．５重量部以下であることを特徴とする導電性酸化物微粒子分散液などにより提供する。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム基板上に形成されるＩＴＯ等の透明導電膜の形成方法に関し、抵抗値が低く、且つ表面の平滑性が優れた、生産性が高い透明導電膜付フィルムの形成方法、及び該形成方法で生産された透明導電膜付フィルムを提供する。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いるイオンプレーティング法を用い、連続して搬送される樹脂フィルム基板上に、成膜領域内で前記樹脂フィルム基板の裏面側に接触し樹脂フィルム基板を支持、搬送する支持ロールの温度を１３０℃〜１８０℃の間で任意の一定温度に制御し、透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】ＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線と透明電極層とを直接接触させることができ、かつ、信頼性、生産性に優れた半導体デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明にかかる透明性導電膜は、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２およびＺｎＯから実質的に構成される透明導電性膜であって、モル比Ｉｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ＋Ｚｎ）が０．６５〜０．８であり、かつ、モル比Ｓｎ／Ｚｎが１以下であるものである。当該透明導電性膜はＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線と良好な電気的コンタクト特性を有する。また、当該透明導電性膜と、ＡｌまたはＡｌ合金膜から形成された電極や配線とを備ええる半導体デバイスは、信頼性、生産性に優れる。 （もっと読む）

【課題】透明電極基材上に形成された半導体層の焼成処理時における剥離を防止すると共にシート抵抗値を低く維持することができる透明電極基材及びそれを用いた光電変換装置を提供する。
【解決手段】透明電極基材１００は、厚さ０．７ｍｍの板状の透明な無アルカリガラス基板１０と、ガラス基板１０の上に形成された透明導電膜としてのインジウム酸化錫（ＩＴＯ）膜２０と、ＩＴＯ膜２０の上に形成された金属酸化物としてのニオブ（Ｎｂ）ドープ酸化チタン（ＴｉＯ_２）膜３０とを備える。ニオブドープ酸化チタン膜３０は、結晶系がアナターゼ型、ルチル型、又は、それらの混晶であり、ニオブの添加量を原子パーセントで０．１％以上３０％以下とするのが好ましく、膜厚を１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とするのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら、銀凝集防止された透明導電性薄膜およびそれを用いた電磁遮蔽膜を提供する。
【解決手段】透明基体上に生成された酸化物透明導電膜と金属膜との混合膜であって、金属が存在する領域において金属含有量が厚さ方向で連続的に変化していることを特徴とする透明導電性薄膜。前記酸化物透明導電膜はＩＴＯ、ＺｎＯ、酸化錫から選ばれる少なくとも１種であり、前記金属膜は、銀、金、白金、パラジウムから選ばれる少なくとも１種で形成されている。また、前記酸化物透明導電膜および金属膜は、酸化物透明導電膜および金属膜が形成される塗布液を基体上に塗布した後、大気圧プラズマ処理を施すことで形成される。 （もっと読む）

【課題】アモルファス膜で弱酸エッチングにより比較的容易にパターニングでき、さらに低抵抗で且つ透過率が高く、またさらに容易に結晶化できる透明導電膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムと必要に応じて錫を含有すると共にバリウムを含有する酸化物焼結体を具備するスパッタリングターゲットを用いて成膜された透明導電膜であって、酸化インジウムと必要に応じて錫を含有すると共にバリウムを含有する。 （もっと読む）

【課題】高い直流電力を投入してもアーキングやクラックの発生がなくスパッタリングできるターゲットとして有用な、実質的に亜鉛、スズ、および酸素からなる酸化物焼結体、及び酸化物透明導電膜を高速で成膜しうる製造方法、及び耐薬品性に優れる酸化物透明導電膜を提供する。
【解決手段】実質的に亜鉛、スズおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、スズがＳｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）の原子数比として０．２３〜０．５０含有され、かつ主として酸化亜鉛相とスズ酸亜鉛化合物相とから構成される酸化物焼結体；スズ酸亜鉛化合物粉、あるいは酸化スズ粉と酸化亜鉛粉との混合粉を含む原料粉末に、水系溶媒を配合し、得られたスラリーを１５時間以上混合した後、固液分離・乾燥・造粒し、引き続き、この造粒物を型枠に入れて成形した後、得られた成形物を焼成雰囲気中、１３００〜１５００℃で１５時間以上焼結する酸化物焼結体の製造方法により提供。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛系透明導電膜のエッチングレートを調整してパターニング特性を向上させることができる酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法を提供する。
【解決手段】 酸化亜鉛を主成分とし、シリコン（Ｓｉ）及びゲルマニウム（Ｇｅ）の両元素又はチタン（Ｔｉ）及びジルコニウム（Ｚｒ）の両元素を含有するすることを特徴とする。酸化亜鉛系透明導電膜をエッチングによりパターニングするに際し、エッチング工程より前に酸化亜鉛系透明導電膜を水で処理することを特徴とする。 （もっと読む）