【課題】可視光に対する屈折率が小さく、かつ、比抵抗が小さく、さらには非晶質であって、摺動や曲げによる剥離、割れなどが起こり難く、膜面が平坦であり、さらには基板加熱が不要で、室温近傍で成膜することができる非晶質透明導電膜を提供する。
【解決手段】ガリウム、インジウム、亜鉛および酸素からなり、ガリウムをインジウムに対する原子数比で１以上１．６以下含有し、かつ、亜鉛をインジウムに対する原子数比で０．０１以上０．７以下含有する焼結体ターゲットを用いてスパッタリングを行い、非晶質透明導電膜を得る。 （もっと読む）

【課題】塗布法によって、例えば、透明性と高抵抗値を有し、更にエッチング性が良好な透明導電膜を低コストかつ簡便に形成できるような透明導電膜形成用塗布液、およびこの塗布液を使用した透明導電膜の製造方法と透明導電膜を提供する。
【解決手段】透明導電膜形成用塗布液は、アセチルアセトンインジウム、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び／又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジル、必要に応じ有機錫化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液であって、アセチルアセトンインジウム又はこれと有機錫化合物の含有量が１〜３０重量％、セルロース誘導体の含有量がアセチルアセトンインジウム、またはこれと有機錫化合物１００重量部に対し５０重量部以下で、さらにアセチルアセトンインジウムと有機錫化合物の含有割合をインジウム１００モルに対して、錫２．５モル以下、２７モル以上としたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】導電性粒子の精密パターニングに使われうるドナー基材を提供すること。
【解決手段】ベース基材と、ナノ導電性粒子及び有機半導体を含む前記ベース基材上の転写層と、を有することを特徴とするナノ導電性膜形成用のドナー基材。 （もっと読む）

【課題】 優れた塗膜強度とともに、良好な導電性を併せ持つ透明導電性基板、及びこれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】 本発明に係る透明導電性基板１は、少なくとも被成膜面が絶縁性を有する透明基板１１と、前記透明基板の被成膜面上に形成された導電性高分子を含む第一の透明導電膜１２と、前記第一の透明導電膜に重ねて形成された導電性高分子を含む第二の透明導電膜１３とを少なくとも備え、前記第二の透明導電膜は、前記第一の透明導電膜と電気的に接続され、かつ、前記第一の透明導電膜より硬質であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸素又は窒素が化学量論比よりも少なく、かつ組成が正確に制御された金属酸化物又は金属窒化物よりなる導電性化合物薄膜及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】フィードバック制御を行いながら成膜を行い、図４の通り、酸素流量の測定値を横軸、酸素の発光強度の測定値を縦軸にとってプロットする。酸素流量の極大値Ａ及び極大値Ｂから、Ｃ＝Ａ−α（Ａ−Ｂ）を計算し（但し、αは０より大きく０．５以下の所定値。）、Ｓ字カーブ上における酸素流量値がＣであるときの発光強度値Ｐ、Ｑ（但し、Ｐ＜Ｘ＜Ｑ＜Ｙ。）をグラフから求める。発光強度がＰ以上Ｑ以下の範囲となるようにフィードバック制御を行いながら、成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に画素電極（透明導電膜）１９の形成領域に対応したバンクＢ４をポリシロキサンを骨格とする材質で形成する工程と、バンクＢ４によって区画された領域に透明導電性微粒子を含有する第１機能液を液滴吐出法で配置する工程と、第１機能液を乾燥処理して第１層膜１９ｃとする工程と、第１層膜１９ｃ上に金属化合物を含有する第２機能液を液滴吐出法で配置する工程と、第１層膜１９ｃと第２機能液とを一括焼成し、第１層膜１９ｃとこの膜中の空孔を埋める金属酸化物とからなる透明導電層１９ａを形成する工程と、を備えた透明導電膜の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 低コストでめっき処理でき、かつめっきムラのないめっき処理方法を提供すること。生産性の高い透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、および光学フィルターを提供すること。
【解決手段】 透明な支持体上に導電性金属部と可視光透過性部から構成されるメッシュ状の透光性導電性膜においてハロゲン化銀感光材料の露光、現像により導電性を有する金属部を形成し、めっきによりさらに導電性を高める製造方法において現像処理後、定着処理前に乾燥工程を導入し、めっき前の導電性銀メッシュの導電性を高める製造方法。これを用いた透光性電磁波シールド膜、透光性導電性膜。 （もっと読む）

【課題】 導電粉末が、高分子分散剤を必要とせずに、水中において優れた分散性を示す水分散液と、この水分散液を用いた透明性および導電性に優れた水系透明導電性塗料を提供する。
【手段】 分散前の導電粉末の粒子径が１０〜３００ｎｍであって、分散剤を必要とせずに導電粉末が沈降せず、導電粉末の分散前と分散後のＢＥＴ比表面積の比が０.５０〜０.８５であることを特徴とし、または分散前の導電粉末の粒子径が１０〜３００ｎｍであって、分散剤を必要とせずに、分散前の導電粉末の平均一次粒子径(ＤＴ50)に対する分散後の累積重量５０％粒子径(Ｄ50)の比〔Ｄ50/ＤＴ50〕が１.１〜９.０であることを特徴とする導電粉末の高分散性水分散液。 （もっと読む）

導電性材料から成る第１領域と、該第１領域に対して隆起し、かつ、該第１領域から実質的に電気的に絶縁された導電性材料から成る第２領域とを含んでなり、前記導電性材料が平均８００オーム／スクエア未満の抵抗率を示す物品を開示する。 （もっと読む）

【課題】
基材のカールおよび変形防止、透明導電膜の剥離防止および低抵抗化を可能にした透明導電膜積層体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
基材の少なくとも片面に透明導電膜が形成されており、透明導電膜は少なくとも１層以上の積層構成であり、透明導電膜は１層ごとに紫外線照射によるアニール処理がなされており、透明導電膜は、膜内部のどの部分においてもアモルファスの混在しない結晶に起因するＸ線回折ピークが観察される透明導電膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率差の大きな異質相を精度良く所望形状に形成することができ、光学素子の小型化を図ることのできる複合酸化物薄膜及びその製造方法及び光学素子を提供する。
【解決手段】複合酸化物薄膜は、酸化状態での安定性が比較的低いとされている標準電極電位の高い材料（例えば、Ｂｉ）と、酸化状態での安定性が比較的高いとされている標準電極電位の低い材料（例えば、Ｔｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ）との化合物である複合酸化物膜（酸化化合物膜）１の内部に、集光レンズ７により集光した短パルスレーザー５の誘起により短パルスレーザーの非照射部と屈折率の異なる異質相３が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、エッチング性に優れ、低抵抗値、高い透過率、良好な表面平滑性を併せ持つ透明電極及び透明電極の製造方法を提供することである。
【解決手段】 透明基材上に透明高屈折率層と金属粒子とを交互に積層し、総膜厚が３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であって、かつ表面抵抗値が１Ω／□以上、１３Ω／□以下であることを特徴とする透明電極。 （もっと読む）

極細導電繊維の含有量を少なくして透明性を向上させても良好な導電性を発揮でき、極細導電繊維の含有量を増やしても透明性を低下させない導電性成形体を提供する。樹脂やガラス等よりなる基材１の少なくとも片面に、極細導電繊維を含んだ透明な導電層２を形成した導電性成形体Ｐであって、導電層２が、極細導電繊維が凝集することなく分散して互いに接触しているか、或は、それぞれの繊維が分離した状態で若しくは繊維の束が分離した状態で分散して互いに接触している導電性成形体Ｐとする。
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【課題】成膜が容易であり低温焼成でも優れた導電性を有するＩＴＯ膜を容易に形成できる技術を提供する。
【解決手段】インジウム塩とスズ塩を溶解した有機溶媒母液中で生成したインジウム錫複合沈殿物からなるインジウム錫酸化物前駆体であって、該前駆体は分散液あるいは粘性液として用いることができ、これを基板に塗布し焼成して透明ＩＴＯ導電膜を形成することができ、また該前駆体の製造方法では有機溶媒母液の酸化処理と共にｐＨ調整して沈澱を生成させると良い。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際に、透明性、干渉縞（虹彩状色彩）の抑制に優れ、かつタッチパネルの製造工程における熱処理でもカールが生じない、透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】塗布層を有する基材フィルムと、該基材フィルムの塗布層面にハードコート層を、他面に透明導電性薄膜を積層してなる透明導電性フィルムであって、前記の基材フィルムが、水性ポリエステル樹脂（Ａ）と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも１種（Ｂ）とを主たる構成成分とし、（Ａ）／（Ｂ）の混合比（質量比）が１０／９０〜９５／５である水系塗布液を塗布、乾燥した後、少なくとも一方向に延伸された塗布層を有する二軸延伸ポリエステルフィルムである透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】 特定の金属を含有する透明導電材料を透明導電膜に使用することにより、Ａｌ配線を設けた積層回路基板の製造方法を簡略化する。
【解決手段】 透明基板と、前記透明基板上に設けられた配線であって、ＡｌあるいはＡｌ合金からなるＡｌ配線と、酸化インジウム−酸化亜鉛−酸化スズを主成分とする導電性酸化物からなり、前記Ａｌ配線に直接接合する透明導電膜と、を含むことを特徴とするＡｌ配線を備えた透明導電膜積層回路基板を構成する。バリヤーメタルを間に設けず、直接Ａｌ配線と透明導電膜が直接接合しているので、製造工程を簡略化することができる。また、特定の組成の導電性酸化物を用いたので、Ａｌ配線と直接接合しても接触抵抗を小さな値に抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電性物質層をイオンビームアシスト真空蒸着法によって成膜する場合、厳密な成膜速度の制御が難しいため、安定して高い導電性を得ることが難しかった。
【解決手段】イオンビーム量を、透明導電性物質層が着色しない範囲で連続的に変化させることで屈折率傾斜膜として、一つの透明導電性物質層の中に、最適な成膜速度とイオンビーム量の関係で成膜された膜厚部分を作ることを特徴とする光学薄膜を提供する。 （もっと読む）

本発明は、側壁基を機能化して、塗布されたカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）ネットワークを変化させ、ナノチューブの導電性に影響を与えることによってカーボンナノチューブ透明導電性被覆物／フィルムをパターン化する方法を対象とする。化学修飾を受けて生じた領域は、変化されていない領域より、高い又はより低い導電性を有する。これにより、パターン化されたフィルムが得られ、前記パターンは、電極、画素、ワイヤ、アンテナ又はその他の電気部品を形成するように成形される。更に、化学修飾されたＣＮＴの領域は、それらの元の導電状態に戻すことが可能であり（即ち、可逆で反復可能）、又はこれを固定化して、不変のパターンを得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】 特定の金属を含有する透明導電材料を画素電極、透明電極に使用することにより、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板の製造方法を簡略化する。
【解決手段】 表示装置に用いられるＴＦＴ基板であって、透明基板と、前記透明基板上に設けられ、前記表示装置の画素を制御する画素電極と、前記透明基板上に設けられ、前記画素電極を駆動する薄膜トランジスタと、を備え、前記薄膜トランジスタは、少なくとも、Ａｌゲート電極と、ゲート絶縁膜と、第１の半導体層と、第２の半導体層と、Ａｌソース・ドレイン電極と、を含み、前記画素電極は、前記Ａｌゲート電極及び／又は前記Ａｌソース・ドレイン電極と直接接合し、当該画素電極が、酸化亜鉛を主成分とする導電性酸化物よりなることを特徴とするＴＦＴ基板である。バリヤーメタルを設けていないので、製造工程を簡略化することができる。 （もっと読む）

【課題】 インジウムを使用しない透明電極であり、耐アルカリ性や湿熱安定性に優れ、しかもエッチング性に優れた透明電極を提供する。
【解決手段】 酸化亜鉛及び酸化スズを主成分とし、電極端部のテーパー角が３０〜８９度である透明電極。この透明電極中の亜鉛原子とスズ原子の総量に対する、亜鉛原子の割合（Ｚｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）、原子比）は０．５〜０．８５であることが好ましい。 （もっと読む）