【課題】抵抗率の低い導電性に優れた透明導電膜を得ることができ、量産ラインに容易に
用いることができる透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜９は、インジウム−スズ酸化膜９ａ又はインジウム−亜
鉛酸化膜９ｃ、アルミニウム−ニッケル合金膜９ｂ及びインジウム−スズ酸化膜９ａ又は
インジウム−亜鉛酸化膜９ｃが順次積層された３層構造からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた機能性フィルムを、機械強度を低下させることなく、作製し、提供する。
【解決手段】樹脂基板１１の少なくとも一方の面上に、樹脂基板１１とは屈折率の異なる光学膜を有し、光学膜は、樹脂基板１１と接する側から、屈折率ｎ１が１．５０〜２．００、膜厚ｄ１が１〜１０ｎｍの第１の薄膜層１３、屈折率ｎ２が１．９０〜２．５０、膜厚ｄ２が１０〜３５ｎｍの第２の薄膜層１４、屈折率ｎ３が１．３５〜１．５０、膜厚ｄ３が３５〜８０ｎｍの第３の薄膜層１５、屈折率ｎ４が１．９０〜２．２０、膜厚ｄ４が１０〜３０ｎｍ、表面抵抗値が１５０Ω／□〜８００Ω／□の第４の薄膜層１６を積層し、ｎ２＞ｎ４＞ｎ１＞ｎ３であり、機能性フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の値が−１．０以上２．０以下である機能性フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】高導電性、高耐久性、高透明性、易成型性などを有する透明高分子導電膜を提供する。
【解決手段】電気泳動法により測定した重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸、およびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）を含有する透明高分子導電膜。および、重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸の水溶液と、ポリスチレンスルホン酸を含有したポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）の水分散液とを混合し、その混合液をキャストして形成する透明高分子導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】実質的に透明な面発熱フイルムを曲面上に形成でき、しかも、発熱の均一性の向上、マイグレーションの懸念の解消を実現することができ、曲面成形品に安価に透明性の発熱部を設けることができるようにする。
【解決手段】ランプボディ１２と、該ランプボディ１２内に設けられた光源１４とを有する車両用灯具１６の前面開口部に組み付けられる車両灯具用前面カバー１０において、光源１４と対向した表面の一部の略矩形領域に、発熱体２０を具備する。発熱体２０は、該発熱体２０を延伸する前の電気抵抗値（初期値）をＲ０、発熱体２０を５％延伸したときの電気抵抗値をＲａとしたとき、Ｒａ≦（２×Ｒ０）を維持する。 （もっと読む）

【課題】 透明導電膜を形成するスパッタリング成膜においてノジュールの発生が少なく、歩留まりが良く、生産性が良い構造の、透明な導電性膜を備えたカラー表示用の液晶パネル等の導電性膜形成基板を提供する。
【解決手段】 基材の一面側に電極用の透明導電膜を配した表示パネル用の透明導電膜形成基板であって、前記透明導電膜は、基材側から順にインジウム亜鉛酸化物膜とＩＴＯ膜とを積層している２層構造である。特に、前記透明導電膜は着色層からなるカラーフィルタ上に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、アナターゼ型酸化チタン系微粒子を分散媒に分散させてなる分散体を塗布した後、分散媒を揮発させることにより、アナターゼ結晶相の酸化チタン系薄膜からなる下地層を形成し、該下地層の上に（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む前駆体液を塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記下地層上に形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットとして用いた場合にも破損を生じにくい、緻密なＺＴＯ焼結体を得る。
【解決手段】仮焼粉末製造工程では、まず、ＺｎＯ粉末とＳｎＯ_２粉末とが配合、造粒されてから大気中で焼成（仮焼成）されて仮焼粉体が得られる。次に、この仮焼粉体が所望の粒度に再度粉末化され、仮焼粉末が製造される。この仮焼粉体中には、ＺｎＯとＳｎＯ_２との複合化合物である、半導体のＺｎ_２ＳｎＯ_４が形成されている。従って、仮焼粉末中にもＺｎ_２ＳｎＯ_４が形成されている。その後、この仮焼粉末を再び造粒、成形して成形体を作成し、本焼成工程を行う。本焼成工程では、この成形体が非還元性雰囲気中、例えば、大気中や酸素雰囲気中、あるいは窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気中で焼成（本焼成）されて酸化物焼結体が作製される。ここではこの形状は所望の形状、例えばスパッタリングターゲットの形状に成形される。 （もっと読む）

【課題】網目状の導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができ、網目が細かく、ディスプレイ等に用いた場合に、モアレ等が生じない導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗布して網目状の導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、塗布された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を含む導電性膜の製造方法、及び、導電性物質の網目状線部と空孔部とによって形成された網目状の導電性膜であって、該導電性膜は、空孔部の平均面積が４００μｍ^２以下であり、網目状線部の線幅が５μｍ以下である導電性膜。 （もっと読む）

【課題】高速かつ成長初期の結晶性の高い透明導電膜付き基板を形成することを目的とする。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された透明導電膜とを有し、前記透明導電膜は酸化亜鉛を主成分とし、前記基板に対して、前記透明導電膜が形成された側の前記基板の表面に、配向処理が施されたことを特徴とする透明導電膜付き基板において、前記基板の最表面に、前記透明導電膜とは異なる物質からなり、かつ前記透明導電膜の結晶配向性を向上させる配向膜を有することを特徴とする透明導電膜付き基板。 （もっと読む）

【課題】従来のスパッタリングＩＴＯ層に比べてフレキシビリティに優れる、導電性酸化物微粒子と樹脂バインダーマトリックスを主成分とする透明導電層のパターニング方法と、それに用いるエッチングペースト、及び、このパターニング方法を用いたパターン透明導電フィルムを提供する。
【解決手段】 ベースフィルム上に形成された導電性酸化物微粒子と樹脂バインダーマトリックスを主成分とする透明導電層のパターニング方法であって、前記樹脂バインダーマトリックスを劣化させるエッチング成分、増粘剤及び溶媒を少なくとも含有する水溶性のエッチングペーストを、前記透明導電層上にパターン塗布し、パターン塗布された部分の前記樹脂バインダーマトリックスを劣化させた後、パターン塗布した前記エッチングペーストを前記樹脂バインダーマトリックスが劣化した透明導電層毎、除去することを特徴とする透明導電層のパターニング方法である。 （もっと読む）

【課題】視認性と発熱性に優れた透明性の発熱体（透明発熱体）に用いて好適な導電性フイルムを提供する。
【解決手段】第１導電性フイルム１０Ａの導電部１２は、複数の第１金属細線１２ａと複数の第２金属細線１２ｂにて構成された多数の格子の交点（交差部２４）を有するメッシュパターン２２を有し、交差部２４間の導電部１２は、少なくとも１つの湾曲を有する波線形状に形成されている。第１導電性フイルム１０Ａは、湾曲が円弧状であって、交差部２４間に２つの円弧２６がそれぞれ山谷の方向を逆にして連続形成された形状を有する。各円弧２６はそれぞれ中心角がほぼ９０°とされている。また、導電部１２の交差角度はほぼ９０°とされている。 （もっと読む）

【課題】比較的低い温度でも焼結可能であり、かつ、低抵抗で高透過率の新規透明導電膜、及び当該膜の製造方法の提供。
【解決手段】本願発明に係る新規透明導電膜は、Ｉｎ、Ｓｎ、及びＺｎの内のいずれかから選ばれる一種類以上の金属の酸化物粒子を含有する第１の層を少なくとも有する酸化物透明導電膜の製造方法であって、該第1の層を構成する酸化物粒子は、直径５０ｎｍ以上２００ｎｍ未満の酸化物大粒子と、該酸化物大粒子の全表面積の２〜３０％を覆う量の直径５ｎｍ以上１０ｎｍ未満の酸化物微小粒子とから構成される多結晶膜であることを特徴とし、Ｉｎ、Ｓｎ、及びＺｎの内のいずれかから選ばれる少なくとも一種類以上の金属元素を含む酸化物微粒子を含有する分散液を基材上に塗布、２５〜２５０℃の温度に保持し、紫外線ランプを照射後又は紫外線ランプを照射せずに、非酸化性雰囲気下で紫外線パルスレーザー光を照射することにより、製造される。 （もっと読む）

【課題】穏やかな生産環境の下、従来よりもコストを抑えて形成できる、繊維導電体の製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤に分散された繊維に無電解めっきを行う工程を有する繊維導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスフリットの侵食に対して強い耐性を持ち、ガラスフリット接触した状態で焼成しても電気抵抗が増加することのない透明導電膜およびその製造方法の提供。
【解決手段】酸化スズを主成分とする透明導電膜であって、前記透明導電膜は、タングステン、タンタル、ニオブ、モリブデンおよびビスマスからなる群から選択される少なくとも一つ以上の元素をドーパントとして含み、アンチモンおよびインジウムを実質的に含まず、 前記透明導電膜中にドーパントとして含まれる前記元素の総量をＭ_A、前記透明導電膜に含まれるスズ元素の量をＳｎとした場合に、下記式（１），（２）を満たすことを特徴とする透明導電膜。
０．８ ＜ （Ｓｎ）／（Ｓｎ＋Ｍ_A） ＜ １．０ ・・・（１）
０．０１ ＜ （Ｍ_A）／（Ｓｎ＋Ｍ_A） ＜ ０．２ ・・・（２） （もっと読む）

【課題】簡便に、短時間で、かつ少ないエネルギー消費で製造する導電性酸化物、または導電性酸化物膜の製造方法と、その方法により得られた導電性酸化物や導電性酸化物膜、および導電性酸化物の分散液を提供すること。
【解決手段】加熱により導電性酸化物となる固体状の非導電性酸化物に、マイクロ波を照射して導電性酸化物を作製する導電性酸化物の製造方法。前記非導電性酸化物は膜を形成した後、マイクロ波を照射して導電性酸化物膜を作製しても良い。前記非導電性酸化物としては、酸化インジウム粒子と錫化合物粒子との混合物、酸化インジウム粒子と亜鉛化合物粒子と錫化合物粒子との混合物、酸化インジウム粒子とマグネシウム化合物粒子と錫化合物粒子との混合物、または酸化錫粒子と５価となり得る元素の化合物粒子との混合物等を用いることができる。 （もっと読む）

少なくとも部分的に結合したナノ粒子で形成されている導電性配線のネットワーク状パターンを含む物品が、開示される。ここで、この導電性配線は、光に略透明で且つ透明フィラー材料を含む不規則形状のセルを画定している。一つの実施態様において、フィラー材料は、導電性であり、例えば金属酸化物又は導電性ポリマーである。他の一つの実施態様において、フィラー材料は接着剤であり、これを用いて、ある基材から他の一つの基材に、そのネットワークを移転することができる。その物品の製造方法も開示される。これは、溶媒相中にナノ粒子を含み、且つ水相中にフィラー材料を含むエマルションを、基材にコーティングする。そのエマルションを乾燥すると、そのナノ粒子は自己組織化して配線を形成し、そしてそのフィラー材料はセル中に堆積する。エレクトロルミネセントデバイスも開示される。ここでは、これは本発明の物品が、そのデバイスの透明電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗、高透明で、太陽光の全波長域（３００ｎｍ〜３μｍ）で良好な光散乱性能を有する特徴を有し、量産性に優れた、透明導電性酸化物膜付き基体（特に薄膜シリコン系太陽電池用基板として有用な透明導電性酸化物膜付き基板）とその製造方法および該基板を用いた光電変換素子（特に太陽電池）の提供。
【解決手段】複数の山部と複数の平坦部とで構成され、該山部および該平坦部の表面がミクロの多数の凸部を連続して有している透明導電性酸化物膜が基体上に設けられた透明導電性酸化物膜付き基体。 （もっと読む）

【課題】透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムを提供し、前記転写用導電性フィルムを用いて、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法を提供する。
【解決手段】支持体１と、前記支持体１上の前記支持体１とは剥離可能な透明導電層３と、前記透明導電層３上の放射線硬化性材料の硬化物層４と、前記硬化物層４上の熱溶融性樹脂層５とを少なくとも有し、前記透明導電層３は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記放射線硬化性材料の硬化物とを含む、インモールド成形用導電性フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造するために好適に用いられる転写用導電性フィルムを提供し、前記転写用導電性フィルムを用いて、透明導電層付きプラスチック成形品をインモールド成形により製造する方法を提供する。
【解決手段】支持体１と、前記支持体１上の前記支持体１とは剥離可能な透明導電層３と、前記透明導電層３上の熱溶融性樹脂の層５とを少なくとも有し、前記透明導電層３は、導電性微粒子と該導電性微粒子相互間に含浸した前記熱溶融性樹脂とを含む、インモールド成形用導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法による透明導電膜の製膜時のノジュールの発生を抑止して安定性よく製膜することのできるスパッタリングターゲットおよびその製造法を提供する。
【解決手段】〔Ａ１〕（ａ１）酸化インジウム８５〜９９質量％と、〔Ｂ〕酸化ガリウムと〔Ｃ〕酸化ゲルマニウムとの合計１〜１５質量％からなる金属酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲットであって、該焼結体中の酸化インジウム成分に、ガリウム原子が置換固溶した酸化インジウムおよびゲルマニウム原子が置換固溶した酸化インジウムを含むスパッタリングターゲット。 （もっと読む）