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Fターム[5G307FC03]の内容

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Fターム[5G307FC03]に分類される特許

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【課題】対象物体の表面に高温高湿環境下においても安定した低い電気抵抗値を有する均一厚みの透明導電層を形成するための転写用導電性フィルムを提供し、それを用いた透明導電層が形成された物体を提供する。
【解決手段】支持体1と、支持体1上の支持体1とは剥離可能な導電層4と、導電層4上の接着剤層5とを少なくとも含む転写用導電性フィルムであって、導電層4は、導電性微粒子の圧縮層であり、接着剤層5は、シランカップリング剤(S)及び/又はその加水分解物と、前記シランカップリング剤(S)以外の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性成分(C)とを少なくとも含む接着剤組成物から形成されている転写用導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】対象物体の表面に高温高湿環境下においても安定した低い電気抵抗値を有する均一厚みの透明導電層を形成するための転写用導電性フィルムを提供し、それを用いた透明導電層が形成された物体を提供する。
【解決手段】支持体1と、支持体1上の支持体1とは剥離可能な導電層4と、導電層4上の接着剤層5とを少なくとも含む転写用導電性フィルムであって、導電層4は、導電性微粒子の圧縮層であり、接着剤層5は、活性エネルギー線反応性基を有する燐酸エステル化合物と、前記燐酸エステル化合物以外の活性エネルギー線反応性基を有する硬化性成分とを少なくとも含む接着剤組成物から形成されている転写用導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、毒性があってしかも希少金属であるIn金属を利用せず、安価で資源的に豊富な元素で酸化物膜を構成し、耐湿性や耐薬品性にも優れた、酸化物膜と金属膜とから構成される透明導電膜と、これを用いた透明導電性フィルムの提供とを課題とする。
【解決手段】 透明導電膜を、銀若しくは銀を主成分とする合金からなる金属膜と、該金属膜との両面に設けられたSnとZnとOとを主成分とする非晶質のZn−Sn−O系酸化物膜とから構成する。そして、この透明導電膜をフィルム基板上に設けて透明導電性フィルムを作製する。 (もっと読む)


【課題】電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、高密度プラズマアシスト蒸着法などの真空蒸着法により酸化物透明導電膜を製造する際に、多量のエネルギーを投入しても、割れやクラックが発生することのない酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】モリブデンを固溶したインジウム酸化物を含有し、モリブデンがインジウムに対する原子数比で0.001以上0.060以下含まれ、密度が3.7g/cm3以上
6.5g/cm3以下であり、金属相と酸化モリブデンの結晶相を含まない酸化物焼結体
とする。 (もっと読む)


【課題】低抵抗かつ高透過率の透明導電膜を低コストで製造できる方法の提供。
【解決手段】塗布液を基材上に塗布し、乾燥させた後加熱処理する工程を有する透明導電膜の製造方法であって、塗布液が、(a)比誘電率が3〜15であり、かつ気圧0.1MPaの状態での沸点が40〜120℃である、水と混和しない含フッ素有機溶剤A、(b)表面張力が25mN/m以上であり、気圧0.1MPaの状態での沸点が50〜250℃の範囲でかつ含フッ素有機溶剤Aの沸点よりも高い、水と混和しない有機溶剤B、(c)水、(d)メディアン径が5μm以下である導電性粒子及び(e)増粘剤及び/又は界面活性剤を含有しており、(a)含フッ素有機溶剤Aの含有量が20〜90質量%、(b)有機溶剤Bの含有量が3〜60質量%、(c)水の含有量が5〜50質量%、(d)導電性粒子の含有量が1〜12質量%であるW/O型エマルジョンからなる透明導電膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】非晶質であって、かつ高仕事関数であって、可視域での屈折率が低く、摺動や曲げによる剥離、割れなどが起こりにくく、膜面が極めて平坦であり、さらには室温近傍で成膜可能な透明導電膜と、それを製造するのに好適な透明導電膜製造用焼結体ターゲットを提供する。
【解決手段】透明導電膜製造用焼結体ターゲットは、主としてGa、InおよびOからなり、Gaを全金属原子に対して49.1原子%以上65原子%以下含有し、主としてβ−GaInO3相とIn23相から構成され、In23相(400)/β−GaInO3相(111)X線回折ピーク強度比が45%以下であり、さらに密度が5.8g/cm3以上である。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン化銀写真感光材料にパターン露光、現像、さらに電解めっきする際に電解めっき工程で生じるメッキムラ及び感材汚れを低減できる方法を提供すること。それによって、均一で高い導電性と高い透光性とを同時に有する導電性膜、とくに電磁波シールド膜、を提供すること、並びにそれらを装備した画像表示装置を提供すること。
【解決手段】表面抵抗が1〜1000Ω/□のフィルムの表面に硬膜溶液を反応させる硬膜工程を有することを特徴とする導電性膜の製造方法、該方法により得られた導電性膜、電磁波シールド膜及びそれらを装備した画像表示装置。 (もっと読む)


【課題】印刷(スクリーン印刷、インクジェット印刷等)により基板上に塗布し、次いで塗膜を焼成することによって所望の(特にクラックの発生が抑制された)透明導電膜を形成できるペースト組成物を提供する。
【解決手段】1)金属酸化物及び有機成分を含有する微粒子であって、その平均粒子径が1〜100nmである金属酸化物超微粒子、2)有機溶媒、並びに3)熱分解反応が吸熱反応である樹脂を含有することを特徴とする、透明導電膜形成用ペースト組成物。 (もっと読む)


【課題】レーザーエッチング性の良好となるレーザーパターニング用透明導電膜付きフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板上に形成された透明導電膜をレーザー光によりパターニングすることによって透明導電膜パターンを形成するために使用される透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜を形成する材料が酸化インジウム、酸化スズまたは酸化亜鉛を主成分とし、波長1064nmにおける式(1)にて求められる前記透明導電膜の吸収率が5%以上20%以下である透明導電膜付き基板。
透明導電膜の吸収率={100−(透明導電膜付きガラス基板の透過率+透明導電膜付きガラス基板の反射率)}−{100−(ガラス基板の透過率+ガラス基板の反射率)}‥‥‥(1)式 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットとして使用した場合、使用初期から末期まで安定したスパッタ放電が得られ、また、有機ELや高精細LCD等に用いられるRaやRyの小さい透明導電膜を実現し得る酸化物焼結体及びその製造方法並びにスパッタリングターゲット及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】酸化インジウムと必要に応じて酸化錫を含有すると共に酸化シリコンを含有する酸化物焼結体であり、相対密度が102%以上である。 (もっと読む)


【課題】導電性粉末の分散性に優れた水分散液を用いた常温硬化性ないし熱硬化性の水系透明導電性塗料であって、透明性および導電性に優れた塗膜を形成することができる塗料を提供する。
【解決手段】塗料中で、分散剤を必要とせずに、分散前の導電粉末の平均一次粒子径(DT50)に対する分散後の累積重量50%粒子径(D50)の比〔D50/DT50〕が1.1〜9.0であり、常温硬化性または熱硬化性の水系導電性塗料であり、塗布後、常温硬化または熱硬化して成膜した膜厚5μmの塗膜の比全光透過率が90%以上であって、ヘーズ値が3.0%以下であり、導電粉末と樹脂の量比が70/30〜50/50の範囲で表面抵抗が1×108Ω/□以下である塗膜を形成する水系透明導電性塗料。 (もっと読む)


【課題】長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロール及びペン入力した図形や文字の認識ズレ率が小さいタッチパネルを提供する。
【解決手段】 少なくとも片面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロール内で前記透明導電膜の表面抵抗を計33点測定した際に、下記式(1)で定義される表面抵抗の分布均一度Dが0.2以下であることを特徴とする透明導電性フィルムロール。
D=(Rmax−Rmin)/(Rmax+Rmin) …(1)
上式で、33点の表面抵抗測定値において、Rmaxは最大値を、Rminは最小値を意味する。
さらに、タッチパネルの少なくとも一方のパネル板が前記透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。 (もっと読む)


【課題】 導電性に優れると共に、耐有機溶剤性も兼ね備えた透明導電膜を形成することができる透明導電塗料、及びこの透明導電塗料を用いて形成される透明導電膜を提供する。
【解決手段】 平均粒径が1〜100nmの導電性酸化物粒状粉がバインダーを含む溶剤中に分散した透明導電塗料であって、バインダーが架橋性樹脂と硬化剤を主成分とし、且つ架橋前の架橋性樹脂のガラス転移点(Tg)が80℃以上、好ましくは100℃以上である。架橋性樹脂としてはアクリルポリオール樹脂が好ましく、硬化剤はブロックイソシアネートが好ましい。 (もっと読む)


【課題】低いエネルギーのレーザ光の照射であってもアブレーション現象が起こり、問題なくパターニングできる酸化錫薄膜が付いた透明基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上にキャリア濃度が5×1019/cm以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が1064nmのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】表示パターンや引き回し配線の微細化に伴う表示ムラ等の発生を防止することができる低欠陥で表示品質の高い表示装置を形成するための表示用電極膜および表示用電極膜を用いた表示用電極パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置を形成するための表示用電極膜1であって、基板10上に直接又は透明薄膜を介して間接的に形成された透明導電膜20と、透明導電膜20上に形成された低抵抗薄膜30と、を備え、透明導電膜20は、表面処理を行うことなく表面平均粗さRaが1nm以下,表面突起Rmaxが10nm以下に形成され、低抵抗薄膜30は、面抵抗値が0.1Ω/□以下に形成されると共に、透明導電膜にダメージを与えることなく選択エッチング可能な材料で形成された。低抵抗薄膜は、2層又は3層の薄膜を膜厚合計が500nm以下となるように積層して構成された。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、薄くても、表示体にカールや反りかえりなどの平面性不良が起きにくい透明導電性フィルムを提供せんとするものである。
【解決手段】
本発明の透明導電性フィルムは、二軸延伸ポリエステルフィルム(A)に透明導電層(B)が積層されてなる透明導電性フィルムにおいて、該二軸延伸ポリエステルフィルム(A)の50cm四方の範囲における、本文で定義する面配向係数の最大値と最小値の差が0.007以下であり、かつ、該面配向係数の平均が0.11〜0.15であることを特徴とするものである。
また、本発明のエレクトロルミネッセンス素子は、かかる透明導電性フィルムを用いて構成されていることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】支持体上に導電性微粒子の圧縮層からなる導電層を有する転写用導電性フィルム、その導電層が付与され表面導電性を有する物体及び導電層が付与され表面導電性を有する物体を製造する方法を提供する。
【解決手段】支持体1上に、支持体1から剥離可能な樹脂層3を有し、樹脂層3上に導電性微粒子の圧縮層からなる導電層4を少なくとも有する転写用導電性フィルム11であって、導電性微粒子の一部は樹脂層3中に入り込んでおり、導電層4は樹脂層3と共に支持体1から剥離可能である。導電層4は、転写支持体22上に導電性微粒子含有層P4が形成された転写前駆フィルムPFから転写的に形成される。 (もっと読む)


【課題】 生産性に優れ、基材の表面温度が300℃以下で形成でき、低キャリア密度、高キャリア移動度及び低抵抗率の透明導電膜及びその形成方法を提供することである。
【解決手段】 大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応性ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上にキャリア密度が1×1014〜1×1019/cm3、キャリア移動度が1〜100cm2/V・secである透明導電膜を形成する透明導電膜の形成方法において、前記反応性ガスが少なくとも酸化性ガス及び還元性ガスを含有し、その比(酸化性ガス/還元性ガス)が0.1〜50体積%であり、かつ放電空間外に導入するガス中の酸素濃度が0.001〜3体積%であることを特徴とする透明導電膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】 塗膜を300℃以下の温度で熱処理した場合においても、透明性に優れ、表面抵抗が低く、膜強度が高い透明導電膜を容易に得ることができる透明導電膜形成用塗料及び透明導電膜並びに透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜形成用塗料は、ITO超微粒子と、シリカゾルと、Inの無機塩またはSnの無機塩とを含有し、ITO超微粒子100重量部に対し、シリカゾルをシリカ換算で2重量部以上かつ20重量部以下、Inの無機塩またはSnの無機塩を20重量部以上かつ100重量部以下としたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 透明基材の一方の面に透明導電性薄膜を設けたフィルムに、粘着剤層を介して外表面にハードコート層を有する透明基材を貼り合わせた導電性積層フィルムであって、加熱加工時におけるカールの発生を抑えることができ、かつ、スジの発生がなく外観特性の良好な積層フィルムを提供する。
【解決手段】 第一透明基材31の第一面にハードコート層32を形成したフィルムと、第二透明基材12の第一面に1層のアンカー層13を介して透明導電性薄膜11を有するフィルムとを、第一透明基材の第二面と第二透明基材の第二面とが対向するように配置し、粘着剤層を介して接着したフィルムであって、第一透明基材および第二透明基材はいずれも二軸延伸フィルムであり、フィルムにおける第二透明基材を基準とする縦方向の熱収縮率と、フィルムにおける第二透明基材を基準とする縦方向の熱収縮率との差を、−0.10〜0.25%の範囲とする。 (もっと読む)


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