透明導電性フィルムロール及びタッチパネル
【課題】長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロール及びペン入力した図形や文字の認識ズレ率が小さいタッチパネルを提供する。
【解決手段】 少なくとも片面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロール内で前記透明導電膜の表面抵抗を計３３点測定した際に、下記式（１）で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする透明導電性フィルムロール。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。
さらに、タッチパネルの少なくとも一方のパネル板が前記透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
【解決手段】 少なくとも片面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロール内で前記透明導電膜の表面抵抗を計３３点測定した際に、下記式（１）で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする透明導電性フィルムロール。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。
さらに、タッチパネルの少なくとも一方のパネル板が前記透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルム上に透明導電膜を積層した透明導電性フィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロール及びそれを用いたタッチパネルに関する。詳しくは、透明性及び導電性が要求される、タッチパネル用透明電極やエレクトロルミネッセンスパネル用透明電極を製造するのに好適な、特に大型パネル用透明電極を製造するのに好適な、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な長尺の透明導電性フィルムロール及びそれを用いたタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電性フィルムとしては、プラスチックフィルムに導電性材料を積層したフィルムが一般的に使用されている。また、導電性材料としては、有機物、無機物のいずれもが使用できるが、導電性と透明性の両立の点から無機物が好適である。前記無機物としては、金、銀などの金属や、金属酸化物が透明性の観点より好適である。特に、金属酸化物の中でも、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛及びこれらの複合酸化物が好ましく、前記金属酸化物を蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法あるいはＣＶＤ法によりプラスチックフィルムに積層したフィルムが知られている。
【０００３】
この透明導電性フィルムは、フィルム巻取り式のイオンプレーティング装置またはスパッタリング装置で一般的に製造されている。これらの装置を用いて製造された透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断し、紙管またはプラスチックコア等に巻取り、フィルムロールの形態で流通するのが一般的である。このロール状に巻取った透明導電性フィルムをシート状に裁断した後、透明導電性フィルムの透明導電膜上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【０００４】
アナログ方式のタッチパネルは、透明電極の表面抵抗の分布が均一であることを仮定して、入力位置を認識し文字や記号として表示される（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、８２頁）。したがって、これに用いられる透明導電性フィルムの表面抵抗の分布はどの位置においても極めて均一である必要がある。また、エレクトロルミネッセンスパネルの透明電極においても、パネル内で均一な発光強度を得るためには、均一な表面抵抗分布を有する透明電極を用いる必要がある。特に、大型のエレクトロルミネッセンスパネルであればあるほど、透明電極の表面抵抗の分布は一層均一であることが強く要求される。
【０００５】
透明電極の表面抵抗の分布を均一にするためには、巻取り式の成膜装置内に表面抵抗測定装置を設け、透明導電膜を形成しながらインラインで連続的に表面抵抗を測定し、表面抵抗の分布が一定になるよう導電性薄膜の成膜条件を制御する方法が採用できる。
【０００６】
例えば、この方式の一例として、２本の金属ロール間に透明導電膜をはさんで接触させ、このロール間の表面抵抗を測定する方法が挙げられる。しかしながら、この方式は透明導電性フィルムの長手方向における表面抵抗の分布を測定することができるが、幅方向の表面抵抗の分布を測定することは原理的に不可能である。また、長手方向の表面抵抗の分布に関しても、フィルムのテンションが均一でないと、金属ロールと透明導電膜との接触が不均一になり、表面抵抗に測定誤差を含むことになる。
【０００７】
また、透明導電性フィルムの幅方向における表面抵抗を測定するために、１本の絶縁ロール（シリコンゴムまたはポリフルオロテトラエチレン製）に３個以上の金属リングを巻きつけ、金属リング間の抵抗値を測定する方法もある。しかしながら、この方式は、絶縁物と金属リングとの境に微小な突起が形成され、このためにフィルム表面に傷が生じやすくなってしまう。
【０００８】
そこで、幅方向の表面抵抗の分布を連続的に測定することができ、かつ、フィルム表面に傷を発生させない表面抵抗測定器として、電磁誘導コイルと導電膜との結合インダクタンスを測定する方法（磁界を印加して発生する渦電流を測定する方法）が知られている（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、第８８頁）。しかしながら、この方法は、１０Ω／□程度以上の表面抵抗を有する導電膜を測定するためには、印加磁界の強度をかなり上げる必要があるために、磁束の広がりが大きくなり、インラインでの連続測定では製造プロセスでの基材のパスライン変動（基材面の法線方向の振動）により、センサー部と測定対象である導電膜との離隔距離が変動し、結合インダクタンスが一定とならず、結果として測定誤差が大きくなるという問題がある。
【０００９】
さらに、この方法は、渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのフェライトコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従ってインダクタンスが変化し、コイルに印加する高周波電圧を一定にしていたとしても、前記導電膜に流れる渦電流が変化して、結果として測定誤差が大きくなるという問題が発生する。
【００１０】
以上のように、一般的な表面抵抗測定計を巻取り装置内に設けても、測定誤差が大きいため、表面抵抗が均一な透明導電性フィルムロールを得ることは極めて困難である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロール及びそれを用いて製造したタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の透明導電性フィルムロールに係る発明は、少なくとも片面に透明導電膜を有する、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍのプラスチックフィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロールを幅方向に対し中央位置及び左右の端部から２５〜１００ｍｍの任意の位置で、かつ長手方向に全長に対して１０分の１の長さピッチで計３３点の前記透明導電膜の表面抵抗（Ω／□）を測定した際に、下記（１）式で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。上記表面抵抗の分布均一度Ｄは、ゼロに近いほど表面抵抗の変動が小さいことを意味する。
本発明におけるタッチパネルに係る発明は、透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が上記の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
表面抵抗などの品質が長手方向及び幅方向で均一な透明導電性フィルムロールが得られ、最終製品であるタッチパネル等の文字や図形の認識ズレ率が小さくなるなど性能安定性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明で透明導電性フィルムロールの基材として用いるプラスチックフィルムとは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムである。
【００１５】
有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
【００１６】
これらの有機高分子のなかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これらの有機高分子は単独で使用する以外に、他の有機高分子の単量体を少量共重合したり、他の有機高分子を１種以上ブレンドしてもよい。
【００１７】
前記プラスチックフィルムは、パネルの視認性の点から、透明性に優れていることが必要である。したがって、プラスチックフィルム中には透明性を悪化させるような粒子や添加剤などを含有させないことが好ましい。しかしながら、プラスチックフィルム製造時やロールの巻出しや巻取り時のハンドリング性（滑り性、走行性、ブロッキング性、巻取り時の随伴空気の空気抜け性など）の点からは、フィルム表面に適度な表面凹凸を有することが好ましい。
【００１８】
このような相反する特性を満足させる方法として、基材フィルムをコーティング法または共押し出し法にて、厚みが０．０３〜１μｍと非常に薄い表面層を設けた積層構造とし、該表面層のみに粒子を含有させる方法が好ましい。これらの方法の中でも、コーティング法の場合、共押し出し法よりも表面層の厚みを薄くすることができ、かつプラスチックフィルムと導電層との密着性も良好にすることができるため好適である。
【００１９】
基材として積層プラスチックフィルムを用いる場合、表面層に含有させる粒子は１種類でも複数併用してもよく、透明性の点から、粒子の屈折率がプラスチックフィルムの構成樹脂及びコート層のバインダー樹脂と同じまたは近いものを用いることが好ましい。例えば、基材やコート層のバインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、バインダー樹脂中に平均粒子径が１０〜２００ｎｍのシリカ、ガラスフィラー、アルミナ−シリカ系などの複合酸化物、などを０．５〜５．０質量％含有させることが好ましい。
【００２０】
前記プラスチックフィルムの厚みは、１０μｍを越え、３００μｍ以下の範囲であることが好ましく、７０〜２６０μｍの範囲が特に好ましい。プラスチックフィルムの厚みが１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなる傾向があり、耐久性が不十分となりやすい。一方、厚みが３００μｍを越えると、巻取りフィルムロールの形態をとることが難しくなってしまう。
【００２１】
また、前記プラスチックフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
【００２２】
また、基材のプラスチックフィルムと透明導電膜との間に、透明導電膜の付着力を向上させるために、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層または無機薄膜層を設けても良い。
【００２３】
前記硬化型樹脂としては、加熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に制限はなく、シリコン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
【００２４】
前記無機薄膜層の構成材料としては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウムなどの単体あるいは２種類以上の複合酸化物であることが好ましい。
【００２５】
また、本発明で用いる透明導電膜としては、透明性及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物、銀及び銀合金、銅及び銅合金、金等が単層もしくは２層以上の積層構造したものが挙げられる。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物またはスズ−アンチモン複合酸化物が好適である。
【００２６】
さらに、これらの透明導電膜中に、表面抵抗や透明性を調整するために、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウム、などを少なくとも１種含有させてもよい。これらの無機酸化物の含有量は多くても主成分に対して合計量で１０質量％以下であることが好ましい。
【００２７】
透明導電膜の膜厚は４〜８００ｎｍの範囲が好ましく、特に好ましくは５〜５００ｎｍである。透明導電膜の膜厚が４ｎｍよりも薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示しにくい傾向がある。一方、８００ｎｍよりも厚い場合、透明性が低下しやすくなる。
【００２８】
本発明における透明導電膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。
【００２９】
例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基材に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても構わない。
【００３０】
透明導電性フィルムの透明導電膜表面での光の反射率を低減させ、光線透過率を向上させるために、透明導電膜の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を、透明導電膜とプラスチックフィルムの間に単層もしくは２層以上に積層することが好ましい。単層構造の場合、透明導電膜よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのが好ましい。また、２層以上の多層構造とする場合は、プラスチックフィルムと隣接する層は、プラスチックフィルムよりも大きな屈折率を有する材料を用い、透明導電膜の下の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。
【００３１】
このような低反射処理層を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されない。例えば、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＮａＡｌＦ４、ＳｉＯ２、ＴｈＦ４、ＺｒＯ２、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｏ３、などの誘電体を用いるのが好ましい。
【００３２】
本発明の透明導電性フィルムロールは、下記式（１）で定義する透明導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下となる、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロールである。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
【００３３】
前記の材料及び方法により製造した透明導電性フィルムロールにおいて、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布を均一なものとするためには、例えば、透明導電層を積層する工程において、巻取り式成膜機に下記で詳述するインライン方式でかつ非接触式の表面抵抗測定装置を設けることが好ましい。
【００３４】
この非接触式表面抵抗測定装置の構成を、図１を用いて説明する。
非接触式表面抵抗測定装置は、基材１上の導電膜２に設定間隔を空けて対向させてその導電膜２に渦電流を流す渦電流発生部３Ａ、及び導電膜２に流れる渦電流を導電膜２とは離間した状態で検出する渦電流検出部３Ｂ（渦電流発生部３Ａとは一体になっている）とから成る複数（ｎ個）の渦電流センサー３を設けている。そして、該渦電流センサー３の温度を検出する温度センサー４Ａ（温度検出部に相当）、及び渦電流センサー３と導電膜２との離隔距離センサー４Ｂを前記渦電流センサー３と一体に設けた構成からなる。さらに、渦電流検出部３Ｂの検出結果と、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂの検出結果に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出するコンピューター７（算出手段に相当）を設けて構成されている。
【００３５】
渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔センサー４Ｂの各センサーは、センサー用アンプ６につながれている。このセンサー用アンプ６は、高周波発振器と渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段と、導電膜２とセンサー３との離隔距離に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段、温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段とを含む。高周波発振器は、高周波を印加して導電膜に流れる渦電流を検出する。
【００３６】
好ましくは、上記導電膜２とセンサー３との離隔距離を検出するセンサー４Ｂは、静電容量式、超音波式、レーザ式、光電式などの変位センサーである。導電膜の表面抵抗を算出する手段は、デジタル信号に基づいて導電膜の表面抵抗を算出する。
【００３７】
導電膜に渦電流を流す方法は、導電膜に設定間隔を空けて渦電流発生部ならびに渦電流検出部を対向させるものと、渦電流発生部と渦電流検出部の両者で導電膜を挟み込むものがある。例えば、渦電流発生部としてのフェライトコイルなどのコイルに高周波電圧を印加し、前記コイルを導電膜に近づけるか、前記コイルで導電膜を挟み込むことで、導電膜に高周波誘導結合による渦電流を流す。
【００３８】
この高周波電圧を一定にすると、導電膜に流れる渦電流と導電膜の表面抵抗が逆比例（反比例）する。したがって、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくと、その離隔距離（基準点）での表面抵抗を求めることができる。
【００３９】
渦電流は、原理的に導電膜とセンサーとの離隔距離が大きくなるにつれて、小さくなる傾向があるため、予め渦電流と離隔距離との関係について校正曲線（検量線）を作成しておく。具体的には、上記導電膜とセンサーとの離隔距離を検出する手段にて得られた離隔距離から基準点との差を出し、上記校正曲線から渦電流の補正値を計算する。この補正値は、導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも小さい場合は減算する方向に、逆に導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも大きくなる場合は加算する方向で計算する。こうして導電膜とセンサーとの離隔距離の任意点で、導電膜の表面抵抗を正確に算出することができる。上記導電膜の表面抵抗の算出はコンピューターの演算周期により、導電膜の製造プロセスにおいて連続的に行われる。
【００４０】
また、渦電流は、原理的に渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従って変化する。渦電流と透磁率の間には正の相関があるが、コイル材料の種類によって透磁率の温度特性は正負双方がある。すなわち、温度上昇に応じて透磁率が大きくなる正特性と、温度上昇に応じて透磁率が小さくなる負特性がある。
【００４１】
そこで、前記温度検出部の検出結果が前記基準温度から外れていると、選択したコイル材料の温度特性に応じて、算出手段が、前記基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部の検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、表面抵抗を算出する。
【００４２】
この場合、予め温度変動量と渦電流補正量との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことが重要である。このように予め作成した検量線を基に導電膜の表面抵抗を算出するため、渦電流発生部の温度が変動しても、導電膜の表面抵抗の測定値に誤差が生じにくくなる。
【００４３】
さらに、渦電流センサー、温度センサー及び隔離センサーとを一体化させた渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に複数個を固定して配置することで、プロセス幅が広くて幅方向の温度分布（温度ムラ）があったとしても、幅方向の表面抵抗を正確に測定することができる。また、上記と同様の作用効果を示す方法として、上記渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に１個設け、これらを積載して幅方向に走査させることができる駆動手段を設ける方法が挙げられる。
【００４４】
前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、及び離隔距離センサー４Ｂは、センサーアンプ６にセンサーケーブル５を介して接続してあり、導電膜の表面抵抗の測定結果を表示するＣＲＴ８と、測定結果を印字出力するプリンター９と、測定された表面抵抗が規定された範囲外になったことや異常をオペレータに報知する警報装置１０を設けてある。
【００４５】
前記センサーアンプ６には、高周波発信器と、渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換する第１Ａ／Ｄ変換器と、前記温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換する第２Ａ／Ｄ変換器とを設けてある。
【００４６】
前記コンピュータ７は、前記第１及び第２Ａ／Ｄ変換器によって得られたデジタル信号に基づいてデータ処理し、温度センサー４の検出結果が前記基準温度から外れていると、基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部３Ｂの検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出する。
【００４７】
また、導電膜２の製造プロセスにおいて、前記の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流表面抵抗計を導電膜２の幅方向に複数個配置して、あるいは前記渦電流表面抵抗計１個を適切な駆動手段に積載して導電膜２の幅方向に走査させながら、透明導電性フィルムロールの導電膜２における幅方向及び長手方向の表面抵抗分布のトレンド（経時的な変化）をコンピューター７により求めることができる。
【００４８】
次に、上記の渦電流表面抵抗計の動作について説明する。
（１）前記渦電流発生部３Ａが基材１上の導電膜２と数ｍｍの設定間隔を空けて対向する状態、または基材１を挟み込む状態に渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔距離センサー４Ｂを配置する。
【００４９】
（２）センサーアンプ６から渦電流センサー３の渦電流発生部３Ａに高周波を印加して、高周波誘導結合により導電膜２に渦電流を発生させる。
【００５０】
（３）前記印加する高周波電圧を一定に制御していれば、導電膜２に流れる渦電流と導電膜２の表面抵抗が逆比例（反比例）する。そのため、図２に示すように、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことで、導電膜２と渦電流発生部３Ａとを前記設定間隔を空けた状態の基準温度での未知の導電膜２の表面抵抗を求めることができる。
【００５１】
（４）渦電流は、コイル材料の温度特性が正特性を有していれば大きくなり、表面抵抗は小さくなる傾向がある。そのため、図３に示すような、予め作成しておいた表面抵抗と前記温度との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、渦電流検出部３Ｂの検出結果を補正する。
【００５２】
（５）渦電流は、渦電流センサーと導電膜との離隔距離が大きいほど、表面抵抗は小さくなる傾向があるため、予め作成しておいた図４に示す、表面抵抗と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、上記（４）で得られた算出結果を補正する。
【００５３】
前記コンピューター７により表示される導電膜２の表面抵抗は、任意の作成ソフトウェアによりＣＲＴ６に表示し、測定値やグラフとしてデータ処理を行い、インラインで表面抵抗を連続的に測定する。また、必要に応じて、プリンタ９に印字出力する。
【００５４】
導電膜２の表面抵抗の算出は、コンピューター７の演算周期により導電膜２の製造プロセスにおいて連続的に行うことができる。
【００５５】
また、表面抵抗の測定結果を、警報装置１０や製造プロセスにフィードバックすることで、透明導電性プラスチックフィルムロールを製造する際に表面抵抗を制御することができ、製造工程における品質の向上・生産性向上を図ることができる。
【００５６】
さらに、前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂを一体に設けることで、ほぼ同一点での渦電流と温度の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。
【００５７】
本発明の透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断した後、フィルム上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【００５８】
図１１に、本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いた、アナログ方式のペン入力用タッチパネルの例を示す。透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いたものである。
【００５９】
このタッチパネルにペンにより文字や図形を入力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電膜同士が接触し、電気的にＯＮの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することができる。
【００６０】
この際、ペン接触側のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用いると、長手方向及び幅方向ともにほぼ均一な表面抵抗が得られるため、透明導電性フィルムロールのどの部分を裁断して用いても、文字や図形の認識ズレ率の小さい安定なタッチパネルが得られる。
【００６１】
また、アナログ方式のペン入力用タッチパネルにおける両方のパネルに本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用い、透明導電性フィルムの導電膜を形成していない面を、粘着剤を介して透明樹脂シートと積層することで、タッチパネルの固定電極に用いる透明導電性積層シートが得られる。すなわち、固定電極をガラス製から樹脂製にすることで、軽量でかつ衝撃により割れにくいタッチパネルを作製することもできる。
【００６２】
前記粘着剤は透明性を有するものであれば特に制限はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着剤の厚さは特に制限はないが、通常１〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが１μｍ未満の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難しく、１００μｍを越える厚さでは生産性の観点から好ましくない。
【００６３】
この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使用するものであり、厚さは０．０５〜５ｍｍの範囲が好ましい。前記透明樹脂シートの厚みが０．０５ｍｍ未満では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さが５ｍｍを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを使用することができる。
【実施例】
【００６４】
次に、本発明を実施例及び比較例により詳しく説明するが、本発明は当然以下に示す実施例に限定されるものではない。また、本実施例で得られた透明導電性フィルムロール及びタッチパネルの特性は下記の方法により評価した。
【００６５】
（１）透明導電膜の表面抵抗
透明導電性フィルムのスリットロールの幅方向における中央部及び中央部から左右２００ｍｍの位置について、長さ方向に１０ｍピッチで、ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠した４探針法にて、透明導電膜の表面抵抗を、表面抵抗測定機（三菱油化（株）製、Ｌｏｔｅｓｔ ＡＭＣＰ−Ｔ４００）を用いて測定した。
【００６６】
すなわち、１本のスリットロールにおいて、３３箇所（幅方向３点×長手方向１１点）の表面抵抗を測定し、この３３個の測定値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとした。この値を用いて、（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）を算出した。この算出を１６本のスリットロールすべてに対して行った。
【００６７】
（２）タッチパネルの図形認識ズレ率
上記のように作製したタッチパネルに、Ｘ−Ｙプロッタ（ローランド株式会社製、ＤＸＹ−１１５０Ａ）を用いて、直径４０ｍｍの丸印を５箇所に筆記した。ペンは先端が０．８ｍｍΦのポリアセタール製を用い、ペン荷重は０．６Ｎとした。銀ペーストからの信号を読み取り、丸印が正確に認識されているかを評価するために、認識した印の長軸の長さをｒ１、筆記した丸印の直径をｒ０＝４０ｍｍとした際に、認識図形のズレとして、（｜ｒ１−ｒ０｜／ｒ０）×１００を図形認識ズレ率（％）として計算した。５箇所の筆記個所において算出し、最も大きなズレ率を、このタッチパネルの図形認識ズレ率とした。
【００６８】
実施例１
図１に記載の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を具備した巻取り式スパッタリング装置を使用し、ＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。なお、前記渦電流式表面抵抗計は、フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に配設した。幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、基材とした。次いで、該ＰＥＴフィルムの接着改質層面に透明導電膜を成膜した。
【００６９】
透明導電膜の成膜条件は、スパッタ時の圧力を０．４Ｐａ、Ａｒ流量を２００ｓｃｃｍ、酸素流量を３ｓｃｃｍとした。また、ターゲット電力投入は、日本イー・エヌ・アイ社製ＲＰＧ１００を用いて、３Ｗ／ｃｍ２を印加した。この際に、パルス幅２μsec.でパルス周期が１００ｋＨｚの正電圧パルスも印加することで、異常放電の発生を抑制した。
【００７０】
なお、渦電流センサーの温度依存性及び離隔距離依存性をあらかじめ測定し、検量線を作成した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を連続的にモニターしながら、上記検量線から表面抵抗が２５０Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は２２〜２７ｎｍであった。また、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図５に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００７１】
得られた透明導電性フィルムロールを幅６００ｍｍ、長さ１００ｍにスリットし、１６本のスリットロールを作製した。得られた透明導電性フィルムロールの評価結果を表１に示す。
【００７２】
前記透明導電性フィルムのスリットロールから、透明導電性フィルムを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出し、一方のパネル板として用い、両端部（２００ｍｍ長の両辺）に銀ペーストを印刷した。他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマＣＶＤ法で厚みが２０ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物薄膜（酸化スズ含有量：１０質量％）からなる透明導電性ガラス（日本曹達製、Ｓ５００）を用い、これを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出した後、３００ｍｍ長の両辺に銀ペーストを印刷した。この２枚のパネル板を透明導電膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの断面図を図１３に示した。また、タッチパネルの評価結果を表２及び図１１に示した。
【００７３】
実施例２
プラスチックフィルムとして、厚みが１９２μｍのクリアハードコート層を片面に設けたＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製、ＨＣ１０１）を用いた。前記ハードコート層の反対面に透明導電膜を形成させたこと以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図６に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０９であった。
【００７４】
実施例３
光重合開始剤含有アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）を、トルエン／ＭＥＫ（８／２：質量比）の混合溶媒を用いて、固形分濃度が５０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液Ａを調製した。
【００７５】
幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、上記塗布液Ａを塗膜の厚みが５μｍになるようにマイヤーバーによりフィルムの接着改質層に塗布し、８０℃で１分間乾燥を行った。次いで、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させた。さらに、１８０℃で１分間の加熱処理を施して、揮発成分の低減を行ない、片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを巻き取り、基材とした。
【００７６】
片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを基材として用い、硬化物層面に透明導電膜を形成させること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００７７】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図７に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０２であった。
【００７８】
実施例４
実施例１において、ＩＴＯターゲットの代わりにスズ−アンチモン複合酸化物（ＡＴＯ）ターゲット（酸化アンチモン５質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用い、酸素流量を３ｓｃｃｍから５ｓｃｃｍに変更し、透明導電膜の表面抵抗が１０００Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。このこと以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。また、透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は９５〜１１０ｎｍであった。
【００７９】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図８に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．１０であった。
【００８０】
実施例５
実施例１の導電膜の製造プロセスにおいて、温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を、透明導電フィルムの導電膜上の隔離した位置に、幅方向に３個固定して配置する代わりに、上記渦電流式表面抵抗計１個を導電膜の幅方向に連続的に走査させながら、透明導電性フィルムの幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所で導電膜の表面抵抗を測定すること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００８１】
なお、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１４に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００８２】
比較例１
温度センサー及び離隔距離センサーを備えていない渦電流式表面抵抗計（フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に設置）を用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１、表２、及び図１２に示した。
【００８３】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図９に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．２２であった。
【００８４】
比較例２
実施例１において、渦電流式表面抵抗計の代わりに、２本の絶縁式フリーロール間の抵抗値からフィルム上の表面抵抗を算出するモニターを用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１及び表２に示した。
【００８５】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１０に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．３３であった。
【００８６】
【表１】
【００８７】
【表２】
【００８８】
以上の結果から、次のことがいえる。
実施例１〜５は、透明導電性フィルムのスリットロール内での透明導電膜の表面抵抗分布が、長手方向及び幅方向ともに均一である。そのため、例えば実施例１の透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルも入力図形が正確に認識されている。
【００８９】
これに対し、比較例１は、透明導電膜の表面抵抗分布が長手方向において均一性が不十分であり、比較例２は幅方向の均一性が不十分である。そのため、例えばの透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルは、図形認識ズレ率が大きく、タッチパネルとして不適であった。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】非接触式表面抵抗測定装置の構成を示す説明図である。
【図２】渦電流と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図３】温度と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図４】渦電流と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図５】実施例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図６】実施例２におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図７】実施例３におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図８】実施例４におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図９】比較例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１０】比較例２におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１１】実施例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１２】比較例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１３】実施例１のタッチパネルの断面図である。
【図１４】実施例５におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【符号の説明】
【００９１】
１ 基材
２ 導電膜
３Ａ 渦電流発生部
３Ｂ 渦電流検出部
４Ａ 温度センサー
４Ｂ 離隔距離センサー
５ センサーケーブル
６ センサーアンプ
７ コンピューター
８ ＣＲＴ
９ プリンター
１０ 警報装置
１１ 通信ケーブル
１２ ＣＲＴケーブル
１３ プリンターケーブル
１４ 制御ケーブル
１５ タッチパネルの認識図形
１６ 透明導電性フィルム
１７ プラスチックフィルム
１８ 透明導電膜
１９ ガラス板
２０ ビーズ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルム上に透明導電膜を積層した透明導電性フィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロール及びそれを用いたタッチパネルに関する。詳しくは、透明性及び導電性が要求される、タッチパネル用透明電極やエレクトロルミネッセンスパネル用透明電極を製造するのに好適な、特に大型パネル用透明電極を製造するのに好適な、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な長尺の透明導電性フィルムロール及びそれを用いたタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電性フィルムとしては、プラスチックフィルムに導電性材料を積層したフィルムが一般的に使用されている。また、導電性材料としては、有機物、無機物のいずれもが使用できるが、導電性と透明性の両立の点から無機物が好適である。前記無機物としては、金、銀などの金属や、金属酸化物が透明性の観点より好適である。特に、金属酸化物の中でも、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛及びこれらの複合酸化物が好ましく、前記金属酸化物を蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法あるいはＣＶＤ法によりプラスチックフィルムに積層したフィルムが知られている。
【０００３】
この透明導電性フィルムは、フィルム巻取り式のイオンプレーティング装置またはスパッタリング装置で一般的に製造されている。これらの装置を用いて製造された透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断し、紙管またはプラスチックコア等に巻取り、フィルムロールの形態で流通するのが一般的である。このロール状に巻取った透明導電性フィルムをシート状に裁断した後、透明導電性フィルムの透明導電膜上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【０００４】
アナログ方式のタッチパネルは、透明電極の表面抵抗の分布が均一であることを仮定して、入力位置を認識し文字や記号として表示される（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、８２頁）。したがって、これに用いられる透明導電性フィルムの表面抵抗の分布はどの位置においても極めて均一である必要がある。また、エレクトロルミネッセンスパネルの透明電極においても、パネル内で均一な発光強度を得るためには、均一な表面抵抗分布を有する透明電極を用いる必要がある。特に、大型のエレクトロルミネッセンスパネルであればあるほど、透明電極の表面抵抗の分布は一層均一であることが強く要求される。
【０００５】
透明電極の表面抵抗の分布を均一にするためには、巻取り式の成膜装置内に表面抵抗測定装置を設け、透明導電膜を形成しながらインラインで連続的に表面抵抗を測定し、表面抵抗の分布が一定になるよう導電性薄膜の成膜条件を制御する方法が採用できる。
【０００６】
例えば、この方式の一例として、２本の金属ロール間に透明導電膜をはさんで接触させ、このロール間の表面抵抗を測定する方法が挙げられる。しかしながら、この方式は透明導電性フィルムの長手方向における表面抵抗の分布を測定することができるが、幅方向の表面抵抗の分布を測定することは原理的に不可能である。また、長手方向の表面抵抗の分布に関しても、フィルムのテンションが均一でないと、金属ロールと透明導電膜との接触が不均一になり、表面抵抗に測定誤差を含むことになる。
【０００７】
また、透明導電性フィルムの幅方向における表面抵抗を測定するために、１本の絶縁ロール（シリコンゴムまたはポリフルオロテトラエチレン製）に３個以上の金属リングを巻きつけ、金属リング間の抵抗値を測定する方法もある。しかしながら、この方式は、絶縁物と金属リングとの境に微小な突起が形成され、このためにフィルム表面に傷が生じやすくなってしまう。
【０００８】
そこで、幅方向の表面抵抗の分布を連続的に測定することができ、かつ、フィルム表面に傷を発生させない表面抵抗測定器として、電磁誘導コイルと導電膜との結合インダクタンスを測定する方法（磁界を印加して発生する渦電流を測定する方法）が知られている（月刊ディスプレイ、１９９９年９月号、第８８頁）。しかしながら、この方法は、１０Ω／□程度以上の表面抵抗を有する導電膜を測定するためには、印加磁界の強度をかなり上げる必要があるために、磁束の広がりが大きくなり、インラインでの連続測定では製造プロセスでの基材のパスライン変動（基材面の法線方向の振動）により、センサー部と測定対象である導電膜との離隔距離が変動し、結合インダクタンスが一定とならず、結果として測定誤差が大きくなるという問題がある。
【０００９】
さらに、この方法は、渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのフェライトコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従ってインダクタンスが変化し、コイルに印加する高周波電圧を一定にしていたとしても、前記導電膜に流れる渦電流が変化して、結果として測定誤差が大きくなるという問題が発生する。
【００１０】
以上のように、一般的な表面抵抗測定計を巻取り装置内に設けても、測定誤差が大きいため、表面抵抗が均一な透明導電性フィルムロールを得ることは極めて困難である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロール及びそれを用いて製造したタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の透明導電性フィルムロールに係る発明は、少なくとも片面に透明導電膜を有する、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍのプラスチックフィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロールを幅方向に対し中央位置及び左右の端部から２５〜１００ｍｍの任意の位置で、かつ長手方向に全長に対して１０分の１の長さピッチで計３３点の前記透明導電膜の表面抵抗（Ω／□）を測定した際に、下記（１）式で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。上記表面抵抗の分布均一度Ｄは、ゼロに近いほど表面抵抗の変動が小さいことを意味する。
本発明におけるタッチパネルに係る発明は、透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が上記の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
表面抵抗などの品質が長手方向及び幅方向で均一な透明導電性フィルムロールが得られ、最終製品であるタッチパネル等の文字や図形の認識ズレ率が小さくなるなど性能安定性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明で透明導電性フィルムロールの基材として用いるプラスチックフィルムとは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムである。
【００１５】
有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
【００１６】
これらの有機高分子のなかでも、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これらの有機高分子は単独で使用する以外に、他の有機高分子の単量体を少量共重合したり、他の有機高分子を１種以上ブレンドしてもよい。
【００１７】
前記プラスチックフィルムは、パネルの視認性の点から、透明性に優れていることが必要である。したがって、プラスチックフィルム中には透明性を悪化させるような粒子や添加剤などを含有させないことが好ましい。しかしながら、プラスチックフィルム製造時やロールの巻出しや巻取り時のハンドリング性（滑り性、走行性、ブロッキング性、巻取り時の随伴空気の空気抜け性など）の点からは、フィルム表面に適度な表面凹凸を有することが好ましい。
【００１８】
このような相反する特性を満足させる方法として、基材フィルムをコーティング法または共押し出し法にて、厚みが０．０３〜１μｍと非常に薄い表面層を設けた積層構造とし、該表面層のみに粒子を含有させる方法が好ましい。これらの方法の中でも、コーティング法の場合、共押し出し法よりも表面層の厚みを薄くすることができ、かつプラスチックフィルムと導電層との密着性も良好にすることができるため好適である。
【００１９】
基材として積層プラスチックフィルムを用いる場合、表面層に含有させる粒子は１種類でも複数併用してもよく、透明性の点から、粒子の屈折率がプラスチックフィルムの構成樹脂及びコート層のバインダー樹脂と同じまたは近いものを用いることが好ましい。例えば、基材やコート層のバインダー樹脂としてポリエステル系樹脂を用いる場合には、バインダー樹脂中に平均粒子径が１０〜２００ｎｍのシリカ、ガラスフィラー、アルミナ−シリカ系などの複合酸化物、などを０．５〜５．０質量％含有させることが好ましい。
【００２０】
前記プラスチックフィルムの厚みは、１０μｍを越え、３００μｍ以下の範囲であることが好ましく、７０〜２６０μｍの範囲が特に好ましい。プラスチックフィルムの厚みが１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなる傾向があり、耐久性が不十分となりやすい。一方、厚みが３００μｍを越えると、巻取りフィルムロールの形態をとることが難しくなってしまう。
【００２１】
また、前記プラスチックフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
【００２２】
また、基材のプラスチックフィルムと透明導電膜との間に、透明導電膜の付着力を向上させるために、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層または無機薄膜層を設けても良い。
【００２３】
前記硬化型樹脂としては、加熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に制限はなく、シリコン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好ましい。
【００２４】
前記無機薄膜層の構成材料としては、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウムなどの単体あるいは２種類以上の複合酸化物であることが好ましい。
【００２５】
また、本発明で用いる透明導電膜としては、透明性及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物、銀及び銀合金、銅及び銅合金、金等が単層もしくは２層以上の積層構造したものが挙げられる。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物またはスズ−アンチモン複合酸化物が好適である。
【００２６】
さらに、これらの透明導電膜中に、表面抵抗や透明性を調整するために、酸化チタン、酸化セリウム、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化シリコン、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化サマリウム、などを少なくとも１種含有させてもよい。これらの無機酸化物の含有量は多くても主成分に対して合計量で１０質量％以下であることが好ましい。
【００２７】
透明導電膜の膜厚は４〜８００ｎｍの範囲が好ましく、特に好ましくは５〜５００ｎｍである。透明導電膜の膜厚が４ｎｍよりも薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示しにくい傾向がある。一方、８００ｎｍよりも厚い場合、透明性が低下しやすくなる。
【００２８】
本発明における透明導電膜の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。
【００２９】
例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基材に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても構わない。
【００３０】
透明導電性フィルムの透明導電膜表面での光の反射率を低減させ、光線透過率を向上させるために、透明導電膜の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を、透明導電膜とプラスチックフィルムの間に単層もしくは２層以上に積層することが好ましい。単層構造の場合、透明導電膜よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのが好ましい。また、２層以上の多層構造とする場合は、プラスチックフィルムと隣接する層は、プラスチックフィルムよりも大きな屈折率を有する材料を用い、透明導電膜の下の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。
【００３１】
このような低反射処理層を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されない。例えば、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＮａＡｌＦ４、ＳｉＯ２、ＴｈＦ４、ＺｒＯ２、Ｎｄ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｏ３、などの誘電体を用いるのが好ましい。
【００３２】
本発明の透明導電性フィルムロールは、下記式（１）で定義する透明導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下となる、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布が均一な透明導電性フィルムロールである。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
【００３３】
前記の材料及び方法により製造した透明導電性フィルムロールにおいて、長手方向及び幅方向に表面抵抗の分布を均一なものとするためには、例えば、透明導電層を積層する工程において、巻取り式成膜機に下記で詳述するインライン方式でかつ非接触式の表面抵抗測定装置を設けることが好ましい。
【００３４】
この非接触式表面抵抗測定装置の構成を、図１を用いて説明する。
非接触式表面抵抗測定装置は、基材１上の導電膜２に設定間隔を空けて対向させてその導電膜２に渦電流を流す渦電流発生部３Ａ、及び導電膜２に流れる渦電流を導電膜２とは離間した状態で検出する渦電流検出部３Ｂ（渦電流発生部３Ａとは一体になっている）とから成る複数（ｎ個）の渦電流センサー３を設けている。そして、該渦電流センサー３の温度を検出する温度センサー４Ａ（温度検出部に相当）、及び渦電流センサー３と導電膜２との離隔距離センサー４Ｂを前記渦電流センサー３と一体に設けた構成からなる。さらに、渦電流検出部３Ｂの検出結果と、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂの検出結果に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出するコンピューター７（算出手段に相当）を設けて構成されている。
【００３５】
渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔センサー４Ｂの各センサーは、センサー用アンプ６につながれている。このセンサー用アンプ６は、高周波発振器と渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段と、導電膜２とセンサー３との離隔距離に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段、温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換するＡ／Ｄ変換手段とを含む。高周波発振器は、高周波を印加して導電膜に流れる渦電流を検出する。
【００３６】
好ましくは、上記導電膜２とセンサー３との離隔距離を検出するセンサー４Ｂは、静電容量式、超音波式、レーザ式、光電式などの変位センサーである。導電膜の表面抵抗を算出する手段は、デジタル信号に基づいて導電膜の表面抵抗を算出する。
【００３７】
導電膜に渦電流を流す方法は、導電膜に設定間隔を空けて渦電流発生部ならびに渦電流検出部を対向させるものと、渦電流発生部と渦電流検出部の両者で導電膜を挟み込むものがある。例えば、渦電流発生部としてのフェライトコイルなどのコイルに高周波電圧を印加し、前記コイルを導電膜に近づけるか、前記コイルで導電膜を挟み込むことで、導電膜に高周波誘導結合による渦電流を流す。
【００３８】
この高周波電圧を一定にすると、導電膜に流れる渦電流と導電膜の表面抵抗が逆比例（反比例）する。したがって、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくと、その離隔距離（基準点）での表面抵抗を求めることができる。
【００３９】
渦電流は、原理的に導電膜とセンサーとの離隔距離が大きくなるにつれて、小さくなる傾向があるため、予め渦電流と離隔距離との関係について校正曲線（検量線）を作成しておく。具体的には、上記導電膜とセンサーとの離隔距離を検出する手段にて得られた離隔距離から基準点との差を出し、上記校正曲線から渦電流の補正値を計算する。この補正値は、導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも小さい場合は減算する方向に、逆に導電膜とセンサーとの離隔距離が基準点よりも大きくなる場合は加算する方向で計算する。こうして導電膜とセンサーとの離隔距離の任意点で、導電膜の表面抵抗を正確に算出することができる。上記導電膜の表面抵抗の算出はコンピューターの演算周期により、導電膜の製造プロセスにおいて連続的に行われる。
【００４０】
また、渦電流は、原理的に渦電流発生部あるいは渦電流検出部としてのコイルの透磁率が温度特性を有しているために、温度変動があるとそれに従って変化する。渦電流と透磁率の間には正の相関があるが、コイル材料の種類によって透磁率の温度特性は正負双方がある。すなわち、温度上昇に応じて透磁率が大きくなる正特性と、温度上昇に応じて透磁率が小さくなる負特性がある。
【００４１】
そこで、前記温度検出部の検出結果が前記基準温度から外れていると、選択したコイル材料の温度特性に応じて、算出手段が、前記基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部の検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、表面抵抗を算出する。
【００４２】
この場合、予め温度変動量と渦電流補正量との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことが重要である。このように予め作成した検量線を基に導電膜の表面抵抗を算出するため、渦電流発生部の温度が変動しても、導電膜の表面抵抗の測定値に誤差が生じにくくなる。
【００４３】
さらに、渦電流センサー、温度センサー及び隔離センサーとを一体化させた渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に複数個を固定して配置することで、プロセス幅が広くて幅方向の温度分布（温度ムラ）があったとしても、幅方向の表面抵抗を正確に測定することができる。また、上記と同様の作用効果を示す方法として、上記渦電流式表面抵抗計を導電膜の製造プロセスの幅方向に１個設け、これらを積載して幅方向に走査させることができる駆動手段を設ける方法が挙げられる。
【００４４】
前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、及び離隔距離センサー４Ｂは、センサーアンプ６にセンサーケーブル５を介して接続してあり、導電膜の表面抵抗の測定結果を表示するＣＲＴ８と、測定結果を印字出力するプリンター９と、測定された表面抵抗が規定された範囲外になったことや異常をオペレータに報知する警報装置１０を設けてある。
【００４５】
前記センサーアンプ６には、高周波発信器と、渦電流のアナログ信号をデジタル信号に変換する第１Ａ／Ｄ変換器と、前記温度に応じたアナログ信号をデジタル信号に変換する第２Ａ／Ｄ変換器とを設けてある。
【００４６】
前記コンピュータ７は、前記第１及び第２Ａ／Ｄ変換器によって得られたデジタル信号に基づいてデータ処理し、温度センサー４の検出結果が前記基準温度から外れていると、基準温度から外れたことに起因する渦電流の増減量を求めるとともに、前記渦電流の増減量を渦電流検出部３Ｂの検出結果から減じあるいは加える補正を行い、その補正した渦電流の値に基づいて、導電膜２の表面抵抗を算出する。
【００４７】
また、導電膜２の製造プロセスにおいて、前記の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流表面抵抗計を導電膜２の幅方向に複数個配置して、あるいは前記渦電流表面抵抗計１個を適切な駆動手段に積載して導電膜２の幅方向に走査させながら、透明導電性フィルムロールの導電膜２における幅方向及び長手方向の表面抵抗分布のトレンド（経時的な変化）をコンピューター７により求めることができる。
【００４８】
次に、上記の渦電流表面抵抗計の動作について説明する。
（１）前記渦電流発生部３Ａが基材１上の導電膜２と数ｍｍの設定間隔を空けて対向する状態、または基材１を挟み込む状態に渦電流センサー３、温度センサー４Ａ、離隔距離センサー４Ｂを配置する。
【００４９】
（２）センサーアンプ６から渦電流センサー３の渦電流発生部３Ａに高周波を印加して、高周波誘導結合により導電膜２に渦電流を発生させる。
【００５０】
（３）前記印加する高周波電圧を一定に制御していれば、導電膜２に流れる渦電流と導電膜２の表面抵抗が逆比例（反比例）する。そのため、図２に示すように、予め渦電流と表面抵抗との関係について校正曲線（検量線）を作成しておくことで、導電膜２と渦電流発生部３Ａとを前記設定間隔を空けた状態の基準温度での未知の導電膜２の表面抵抗を求めることができる。
【００５１】
（４）渦電流は、コイル材料の温度特性が正特性を有していれば大きくなり、表面抵抗は小さくなる傾向がある。そのため、図３に示すような、予め作成しておいた表面抵抗と前記温度との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、渦電流検出部３Ｂの検出結果を補正する。
【００５２】
（５）渦電流は、渦電流センサーと導電膜との離隔距離が大きいほど、表面抵抗は小さくなる傾向があるため、予め作成しておいた図４に示す、表面抵抗と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）に基づいて、上記（４）で得られた算出結果を補正する。
【００５３】
前記コンピューター７により表示される導電膜２の表面抵抗は、任意の作成ソフトウェアによりＣＲＴ６に表示し、測定値やグラフとしてデータ処理を行い、インラインで表面抵抗を連続的に測定する。また、必要に応じて、プリンタ９に印字出力する。
【００５４】
導電膜２の表面抵抗の算出は、コンピューター７の演算周期により導電膜２の製造プロセスにおいて連続的に行うことができる。
【００５５】
また、表面抵抗の測定結果を、警報装置１０や製造プロセスにフィードバックすることで、透明導電性プラスチックフィルムロールを製造する際に表面抵抗を制御することができ、製造工程における品質の向上・生産性向上を図ることができる。
【００５６】
さらに、前記渦電流センサー３、温度センサー４Ａ及び離隔距離センサー４Ｂを一体に設けることで、ほぼ同一点での渦電流と温度の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。
【００５７】
本発明の透明導電性フィルムロールは、スリッターにより幅３００〜８００ｍｍ程度、長さ１０〜１０００ｍ程度のサイズに裁断した後、フィルム上に銀ペースト印刷や誘電体印刷などの加工を施し、タッチパネルやエレクトロルミネッセンスパネル用の透明電極として使用される。
【００５８】
図１１に、本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いた、アナログ方式のペン入力用タッチパネルの例を示す。透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得た透明導電性フィルムを用いたものである。
【００５９】
このタッチパネルにペンにより文字や図形を入力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電膜同士が接触し、電気的にＯＮの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することができる。
【００６０】
この際、ペン接触側のパネル板に本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用いると、長手方向及び幅方向ともにほぼ均一な表面抵抗が得られるため、透明導電性フィルムロールのどの部分を裁断して用いても、文字や図形の認識ズレ率の小さい安定なタッチパネルが得られる。
【００６１】
また、アナログ方式のペン入力用タッチパネルにおける両方のパネルに本発明の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムを用い、透明導電性フィルムの導電膜を形成していない面を、粘着剤を介して透明樹脂シートと積層することで、タッチパネルの固定電極に用いる透明導電性積層シートが得られる。すなわち、固定電極をガラス製から樹脂製にすることで、軽量でかつ衝撃により割れにくいタッチパネルを作製することもできる。
【００６２】
前記粘着剤は透明性を有するものであれば特に制限はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着剤の厚さは特に制限はないが、通常１〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが１μｍ未満の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難しく、１００μｍを越える厚さでは生産性の観点から好ましくない。
【００６３】
この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使用するものであり、厚さは０．０５〜５ｍｍの範囲が好ましい。前記透明樹脂シートの厚みが０．０５ｍｍ未満では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さが５ｍｍを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを使用することができる。
【実施例】
【００６４】
次に、本発明を実施例及び比較例により詳しく説明するが、本発明は当然以下に示す実施例に限定されるものではない。また、本実施例で得られた透明導電性フィルムロール及びタッチパネルの特性は下記の方法により評価した。
【００６５】
（１）透明導電膜の表面抵抗
透明導電性フィルムのスリットロールの幅方向における中央部及び中央部から左右２００ｍｍの位置について、長さ方向に１０ｍピッチで、ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠した４探針法にて、透明導電膜の表面抵抗を、表面抵抗測定機（三菱油化（株）製、Ｌｏｔｅｓｔ ＡＭＣＰ−Ｔ４００）を用いて測定した。
【００６６】
すなわち、１本のスリットロールにおいて、３３箇所（幅方向３点×長手方向１１点）の表面抵抗を測定し、この３３個の測定値のうち、最大値をＲｍａｘ、最小値をＲｍｉｎとした。この値を用いて、（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ）を算出した。この算出を１６本のスリットロールすべてに対して行った。
【００６７】
（２）タッチパネルの図形認識ズレ率
上記のように作製したタッチパネルに、Ｘ−Ｙプロッタ（ローランド株式会社製、ＤＸＹ−１１５０Ａ）を用いて、直径４０ｍｍの丸印を５箇所に筆記した。ペンは先端が０．８ｍｍΦのポリアセタール製を用い、ペン荷重は０．６Ｎとした。銀ペーストからの信号を読み取り、丸印が正確に認識されているかを評価するために、認識した印の長軸の長さをｒ１、筆記した丸印の直径をｒ０＝４０ｍｍとした際に、認識図形のズレとして、（｜ｒ１−ｒ０｜／ｒ０）×１００を図形認識ズレ率（％）として計算した。５箇所の筆記個所において算出し、最も大きなズレ率を、このタッチパネルの図形認識ズレ率とした。
【００６８】
実施例１
図１に記載の温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を具備した巻取り式スパッタリング装置を使用し、ＩＴＯターゲット（酸化錫１０質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。なお、前記渦電流式表面抵抗計は、フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に配設した。幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、基材とした。次いで、該ＰＥＴフィルムの接着改質層面に透明導電膜を成膜した。
【００６９】
透明導電膜の成膜条件は、スパッタ時の圧力を０．４Ｐａ、Ａｒ流量を２００ｓｃｃｍ、酸素流量を３ｓｃｃｍとした。また、ターゲット電力投入は、日本イー・エヌ・アイ社製ＲＰＧ１００を用いて、３Ｗ／ｃｍ２を印加した。この際に、パルス幅２μsec.でパルス周期が１００ｋＨｚの正電圧パルスも印加することで、異常放電の発生を抑制した。
【００７０】
なお、渦電流センサーの温度依存性及び離隔距離依存性をあらかじめ測定し、検量線を作成した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を連続的にモニターしながら、上記検量線から表面抵抗が２５０Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は２２〜２７ｎｍであった。また、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図５に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００７１】
得られた透明導電性フィルムロールを幅６００ｍｍ、長さ１００ｍにスリットし、１６本のスリットロールを作製した。得られた透明導電性フィルムロールの評価結果を表１に示す。
【００７２】
前記透明導電性フィルムのスリットロールから、透明導電性フィルムを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出し、一方のパネル板として用い、両端部（２００ｍｍ長の両辺）に銀ペーストを印刷した。他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマＣＶＤ法で厚みが２０ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物薄膜（酸化スズ含有量：１０質量％）からなる透明導電性ガラス（日本曹達製、Ｓ５００）を用い、これを２００ｍｍ×３００ｍｍの長方形に切り出した後、３００ｍｍ長の両辺に銀ペーストを印刷した。この２枚のパネル板を透明導電膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。得られたタッチパネルの断面図を図１３に示した。また、タッチパネルの評価結果を表２及び図１１に示した。
【００７３】
実施例２
プラスチックフィルムとして、厚みが１９２μｍのクリアハードコート層を片面に設けたＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製、ＨＣ１０１）を用いた。前記ハードコート層の反対面に透明導電膜を形成させたこと以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図６に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０９であった。
【００７４】
実施例３
光重合開始剤含有アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）を、トルエン／ＭＥＫ（８／２：質量比）の混合溶媒を用いて、固形分濃度が５０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液Ａを調製した。
【００７５】
幅１３００ｍｍ、長さ８５０ｍ、厚み１８８μｍの、片面に接着改質層を有するＰＥＴフィルムロール（東洋紡績株式会社製、Ａ４１００）を巻出し、上記塗布液Ａを塗膜の厚みが５μｍになるようにマイヤーバーによりフィルムの接着改質層に塗布し、８０℃で１分間乾燥を行った。次いで、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させた。さらに、１８０℃で１分間の加熱処理を施して、揮発成分の低減を行ない、片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを巻き取り、基材とした。
【００７６】
片面に硬化物層を有するＰＥＴフィルムロールを基材として用い、硬化物層面に透明導電膜を形成させること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００７７】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図７に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０２であった。
【００７８】
実施例４
実施例１において、ＩＴＯターゲットの代わりにスズ−アンチモン複合酸化物（ＡＴＯ）ターゲット（酸化アンチモン５質量％含有、三井金属鉱業株式会社製）を用い、酸素流量を３ｓｃｃｍから５ｓｃｃｍに変更し、透明導電膜の表面抵抗が１０００Ω／□が中心となるように、フィルムの送り速度及び酸素流量を調整した。このこと以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。また、透明導電性フィルムロール製造時の透明導電膜の膜厚は９５〜１１０ｎｍであった。
【００７９】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図８に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．１０であった。
【００８０】
実施例５
実施例１の導電膜の製造プロセスにおいて、温度センサー及び離隔距離センサーを一体化した渦電流式表面抵抗計を、透明導電フィルムの導電膜上の隔離した位置に、幅方向に３個固定して配置する代わりに、上記渦電流式表面抵抗計１個を導電膜の幅方向に連続的に走査させながら、透明導電性フィルムの幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所で導電膜の表面抵抗を測定すること以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムロール及びタッチパネルを得た。得られた結果を表１及び２に示した。
【００８１】
なお、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１４に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．０３であった。
【００８２】
比較例１
温度センサー及び離隔距離センサーを備えていない渦電流式表面抵抗計（フィルム幅方向の中央部、中央から左右５００ｍｍ離れた位置の計３箇所に設置）を用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１、表２、及び図１２に示した。
【００８３】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図９に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．２２であった。
【００８４】
比較例２
実施例１において、渦電流式表面抵抗計の代わりに、２本の絶縁式フリーロール間の抵抗値からフィルム上の表面抵抗を算出するモニターを用いた以外は実施例１と同様にした。得られた結果を表１及び表２に示した。
【００８５】
また、実施例１と同様に、透明導電性フィルムロールを製造時に、幅方向の中央部、中央から左に５００ｍｍの位置、中央から右に５００ｍｍの位置における導電膜の表面抵抗値を長手方向に１０ｍピッチで１００ｍ分を出力した。渦電流式表面抵抗計の測定結果を図１０に示した。導電膜の表面抵抗の分布均一度Ｄは０．３３であった。
【００８６】
【表１】
【００８７】
【表２】
【００８８】
以上の結果から、次のことがいえる。
実施例１〜５は、透明導電性フィルムのスリットロール内での透明導電膜の表面抵抗分布が、長手方向及び幅方向ともに均一である。そのため、例えば実施例１の透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルも入力図形が正確に認識されている。
【００８９】
これに対し、比較例１は、透明導電膜の表面抵抗分布が長手方向において均一性が不十分であり、比較例２は幅方向の均一性が不十分である。そのため、例えばの透明導電性フィルムのスリットロールから作製したタッチパネルは、図形認識ズレ率が大きく、タッチパネルとして不適であった。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】非接触式表面抵抗測定装置の構成を示す説明図である。
【図２】渦電流と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図３】温度と表面抵抗との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図４】渦電流と離隔距離との関係についての校正曲線（検量線）を示す説明図である。
【図５】実施例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図６】実施例２におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図７】実施例３におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図８】実施例４におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図９】比較例１におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１０】比較例２におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【図１１】実施例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１２】比較例１のタッチパネルの出力形状を示す説明図である。
【図１３】実施例１のタッチパネルの断面図である。
【図１４】実施例５におけるスリットロール内の表面抵抗の分布を示す説明図である。
【符号の説明】
【００９１】
１ 基材
２ 導電膜
３Ａ 渦電流発生部
３Ｂ 渦電流検出部
４Ａ 温度センサー
４Ｂ 離隔距離センサー
５ センサーケーブル
６ センサーアンプ
７ コンピューター
８ ＣＲＴ
９ プリンター
１０ 警報装置
１１ 通信ケーブル
１２ ＣＲＴケーブル
１３ プリンターケーブル
１４ 制御ケーブル
１５ タッチパネルの認識図形
１６ 透明導電性フィルム
１７ プラスチックフィルム
１８ 透明導電膜
１９ ガラス板
２０ ビーズ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも片面に透明導電膜を有する、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍのプラスチックフィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロールを幅方向に対し中央位置及び左右の端部から２５〜１００ｍｍの任意の位置で、かつ長手方向に全長に対して１０分の１の長さピッチで計３３点の前記透明導電膜の表面抵抗（Ω／□）を測定した際に、下記式（１）で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする透明導電性フィルムロール。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。
【請求項２】
透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が請求項１記載の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
【請求項１】
少なくとも片面に透明導電膜を有する、幅３００〜１３００ｍｍで長さ１０〜１０００ｍのプラスチックフィルムをロール状に巻き取った透明導電性フィルムロールであって、前記透明導電性フィルムロールを幅方向に対し中央位置及び左右の端部から２５〜１００ｍｍの任意の位置で、かつ長手方向に全長に対して１０分の１の長さピッチで計３３点の前記透明導電膜の表面抵抗（Ω／□）を測定した際に、下記式（１）で定義される表面抵抗の分布均一度Ｄが０．２以下であることを特徴とする透明導電性フィルムロール。
Ｄ＝（Ｒｍａｘ−Ｒｍｉｎ）／（Ｒｍａｘ＋Ｒｍｉｎ） …（１）
上式で、３３点の表面抵抗測定値において、Ｒｍａｘは最大値を、Ｒｍｉｎは最小値を意味する。
【請求項２】
透明導電膜を有する一対のパネル板を、透明導電膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が請求項１記載の透明導電性フィルムロールを裁断して得られた透明導電性フィルムであることを特徴とするタッチパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２００７−１４１８５３（Ｐ２００７−１４１８５３Ａ）
【公開日】平成１９年６月７日（２００７．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３９７３０（Ｐ２００６−３３９７３０）
【出願日】平成１８年１２月１８日（２００６．１２．１８）
【分割の表示】特願２００２−１８１９７２（Ｐ２００２−１８１９７２）の分割
【原出願日】平成１４年６月２１日（２００２．６．２１）
【出願人】（０００００３１６０）東洋紡績株式会社 (3,622)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年６月７日（２００７．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１８日（２００６．１２．１８）
【分割の表示】特願２００２−１８１９７２（Ｐ２００２−１８１９７２）の分割
【原出願日】平成１４年６月２１日（２００２．６．２１）
【出願人】（０００００３１６０）東洋紡績株式会社 (3,622)
【Ｆターム（参考）】
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