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Fターム[4K029KA00]の内容

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【課題】キャンロールの外周面と長尺基板との間に形成されるギャップ部にガスを導入して長尺基板を均一かつ効率的に冷却する方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバー内でロールツーロールで搬送される長尺基板Fに対して、内部に冷媒が循環し外周面にガス導入孔15a,15bを備えたキャンロールの当該外周面に部分的に長尺基板Fを巻き付けながら熱負荷の掛かる処理を行う長尺基板Fの処理方法であって、キャンロールの外周面上に画定される長尺基板Fの搬送経路の上流および下流にそれぞれ隣接して設けられたフィードロールの周速度とキャンロールの周速度とに差をつけながらキャンロールの外周面とそこに巻き付けられる長尺基板Fとの間に形成されるギャップ部にガス導入孔からガスを導入する。 (もっと読む)


【課題】基板(例えば、大面積ガラス基板)上に膜を塗布するための方法およびコータを提供する。
【解決手段】シート状基板上に薄膜を塗布するためのコータ及び、基板をコータを通って延びる基板走行路に沿って搬送するよう適合させた移送システムであり、基板移送システムは、基板走行路の所望の一部に沿って搬送される際、コーティング材料を、上方向に、ギャップを通って基板の底主面上に供給するよう適合させたコーティング材料源を有する。 (もっと読む)


【課題】メンテナンスコストを低減するとともに、リーク箇所を特定することができるインライン式の真空処理装置に適したリークチェック方法を提供する
【解決手段】本発明のリークチェック方法は、複数のチャンバがそれぞれゲートバルブを介して連接されてなるインライン式真空処理装置Sに好適に適用されるものであって、リークチェックが行われるチャンバP6の隣に連接されたチャンバP7内に所定量のガスを導入するガス導入S004の後に、チャンバP6及びチャンバP7の真空度を測定S005し、チャンバP6の真空度を基準値と比較S007した結果を出力S008し、その後に、チャンバP6のチャンバP7とは逆側に連接されているチャンバに対して上記のようなリークチェックが順次行われる。 (もっと読む)


【課題】フットプリント(占有床面積)を抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、基板を保持する基板ホルダ18が設置された処理室12と、該処理室に隣接して配置されたターゲット室23と、該ターゲット室に挿入された回転軸29を回転させる回転装置28と、前記ターゲット室に設置され、前記回転軸が回転軸線に連結された錐形状のターゲットホルダ30であって、錐面において複数のターゲットを保持するターゲットホルダと、イオンを前記ターゲットホルダに保持された前記ターゲットに照射するイオン源40と、を有している。 (もっと読む)


【課題】半導体装置基板のスパッタリングプロセスで特に周辺部に付着するパーティクルを抑制できるスパッタリング装置および半導体装置製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置は、真空処理室1内に、ステージ2と、ターゲット4と、デポリング8と、カバーリング7とを備える。またプラズマ発生手段と、ステージ2に静電チャック作用を発生させる直流電源3と、ターゲット4のコンディショニング時にステージ2全体をプラズマから遮蔽して保護するシャッターディスク9と、クリーニング時にステージ2の基板設置面のみを覆ってプラズマから保護する保護ディスク12とを備える。保護ディスク12が上記サイズであることにより、ステージ2の側壁とデポリング8との間の余剰な成膜物も除去が可能となる。 (もっと読む)


【解決手段】本発明は、基板が搬送される搬送チャンバーと、前記搬送チャンバーの両側にそれぞれ結合された第1および第2の工程チャンバーと、を備え、前記第1および第2の工程チャンバーのそれぞれは、互いに離間して設けられる第1および第2の基板ホルダーと、前記第1および第2の基板ホルダーの間に設けられて前記第1および第2の基板ホルダーに向けて順次に蒸着原料を供給する噴射ユニットと、を備える薄膜蒸着装置およびこれを備える薄膜蒸着システムを提供する。このように、本発明は、搬送チャンバーの両側に同じ工程を行う多数の工程チャンバーが連結されることにより、多数の基板に対する薄膜工程を並行して実施して工程速度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】材料の損出の少ない経済性のよい、または、生産性の高い、あるいは稼働率の高い有機ELデバイス製造装置または及び同製造方法あるいは成膜装置または及び成膜方法を提供することである。
【解決手段】
本発明は、真空チャンバ内にN(Nは2以上)枚の基板を内在させ、第1枚目の第1の基板前記蒸発源で蒸着中に、第N枚目の第Nの基板前記真空チャンバ内に搬入し、第2枚目の第2の基板前記蒸発源で蒸着中に前記第1の基板前記真空チャンバ内から搬出する、あるいは第1の前記基板を蒸着中に第2の前記基板の前記位置合せを終了させ、前記蒸着時同一の蒸発源で前記第2の基板の蒸着中に前記第1の基板を前記真空チャンバ内から搬出させることを特徴とする。また、前記真空チャンバを複数に分割することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Al合金の配線を用いた画像表示装置において、ヒロックが発生せず、かつ、配線内にボイドが形成されないAl合金の配線を形成する。
【解決手段】下部電極112とトンネル絶縁膜115と薄膜電極117によってMIM電子源114が形成される。トンネル絶縁膜115は下部電極112を陽極酸化することによって形成する。下部電極112は信号線131の上に形成される。信号線131はヒロックを防止するために、Ndを添加するが、Ndの添加量を基板111側から連続的に減少させる。その結果トンネル絶縁膜は純Alを陽極酸化した質の良い絶縁膜とすることが出来る。また、本発明では信号線131膜内に界面は形成されず、界面に起因したボイドの発生も無い。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイの製造において、マスクと基板とを位置合わせした後の位置ずれを抑制し、有機発光素子の有機化合物層を高解像度でパターン成膜する。
【解決手段】成膜室1の内部において、マスク14と基板20との位置合わせを行い、続いて、基板20と相対的に蒸着源11を移動させて有機化合物層の成膜を行う。成膜室1内には、マスク14を支持するマスク支持台12と、マスク14と基板20との位置合わせを行い、密着させた後に、蒸着源11と干渉しない位置にマスク支持台12を移動させるためのマスク支持台移動機構13と、が設けられる。成膜後には、マスク支持台12上にて、基板20とマスク14の密着状態を解除する。 (もっと読む)


【課題】有機材料を劣化させずにITO表面に密着して有機膜を形成する。
【解決手段】基板Gは、前処理室CMにて前処理としてクリーニングされている。バルブ300を閉じることにより、有機材料が収納された空間は、処理容器PM1により画定された空間から遮断される。遮断後、クリーニング装置は、処理容器PM1内にて基板GのITO表面を最終クリーニングする。最終クリーニング後、バルブ300を開くことにより、有機材料が収納された空間は基板Gをクリーニングした空間と連通する。連通後、収納された有機材料を気化させ、気化させた有機材料を有機材料が収納された空間から基板Gをクリーニングする空間に吹き出させる。これにより、基板Gをクリーニングした処理容器PM1と同一の処理容器内にてクリーニングされた基板GのITO表面にホール輸送層(第1層の有機膜)を密着して形成する。 (もっと読む)


【課題】設置スペースの縮小及び装置コストの低減を図ることのできる大気圧プラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】対向配置された一対の電極(40)と、一対の電極(40)に接続された電源(5)と、被処理基材(K)を保持する保持手段(7,63a)とを備え、一対の電極(40)の少なくとも一方には、機能物質を含む含機能物質部材(42)が着脱自在に設けられ、電源(5)は、一対の電極(40)間の領域に大気圧雰囲気下でプラズマが励起し且つ含機能物質部材(42)から機能物質がスパッタリングする電力を当該一対の電極(40)に印加する構成とされ、保持手段(7,63a)は、スパッタリングした機能物質が被処理基材(K)に到達する位置となるように被処理基材(K)を保持する構成とされたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板Gに成膜する成膜装置13であって、処理容器30の内部において、第1の層を成膜させる第1成膜機構35と、第2の層を成膜させる第2成膜機構36を備え、第1成膜機構35は、処理容器30の内部に配置された、成膜材料の蒸気を基板に供給するノズル34と、処理容器の外部に配置された、成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部45と、蒸気発生部45で発生させた成膜材料の蒸気をノズル34に送る配管46と、を備える。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板に成膜する成膜装置13であって、処理容器30の内部に、第1の層を成膜させる第1成膜機構35と、第2の層を成膜させる第2成膜機構36を備える。処理容器30内を減圧させる排気口31を設け、第1成膜機構35を、第2成膜機構36よりも排気口31の近くに配置した。第1成膜機構35は、例えば基板に第1の層を蒸着によって成膜させ、第2成膜機構36は、例えば基板に第2の層をスパッタリングによって成膜させる。 (もっと読む)


【課題】 同一または異なる真空チャンバ内に配置したターゲット相互間でその投入電力を迅速に切換えることができ、十分な耐久性を有し、その上、低コストなスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 複数の真空チャンバ41a、41bに配置した複数の一対のターゲット41a、41b、41c、41dと交流電源とを備え、この交流電源を、電力供給部6及び発振用スイッチ回路72を有する複数の発振部7に分けて構成する。そして、各発振用スイッチ回路の作動を制御する制御手段と、前記複数の一対のターゲット相互間で交流電圧を印加されるものを切り換える切換信号を制御手段に入力する切換手段9とを設け、切換信号が入力されている制御手段によって、いずれかの一対のターゲットに所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加できるようにする。 (もっと読む)


【課題】3個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。
【解決手段】長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に3個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】比較的低圧力及び比較的高圧力の両方で均一なプラズマを生成できるiPVD源を提供する。またスパッタ−エッチングのための金属蒸着に対する均一なプラズマを提供する。
【解決手段】比較的低圧力(5mTorr)動作及び比較的高圧力(65mTorr)動作で均一なプラズマ濃度を持つ均一な金属蒸着のためのイオン化物理的気相蒸着(iPVD)源を使用するシステムと方法を提供する。均一性を強化する低圧力動作では、磁石構造がプラズマをチャンバ周辺に移動するために誘導結合プラズマ(ICP)源と組み合わされ、一方、高圧力動作でプラズマのランダム化または熱運動化によってプラズマ均一性が促進される。これにより、組み合わされた連続的な蒸着−エッチング処理における蒸着およびエッチングの両方のための、また、無網状蒸着(NND)および低網状蒸着(LND)の蒸着−エッチング処理のための均一性が提供される。 (もっと読む)


【課題】高抵抗値が要求される金属化フィルムは、金属膜を薄膜化するため原反の状態で湿気にさらされると金属の酸化が容易に進行して、酸化金属膜が形成され、膜の抵抗値が異常に高くなるという問題点があった。
【解決手段】フィルムに蒸着金属膜を形成し、この蒸着金属膜上にオイル被膜を形成する。このオイル被膜形成するオイル材料に特有の官能基を有する主鎖がポリシロキサン、あるいは特有の官能基を有する主鎖がフルオロポリエーテルを用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 真空容器の真空状態を維持しつつハースを交換可能なハース機構及び成膜装置を提供する。
【解決手段】 ハース機構2は、成膜装置1の真空容器10内の材料保持位置Bにおいて固形成膜材料Maを保持するための機構である。ハース機構2は、上下方向に貫通しており固形成膜材料Maを導入するための導入孔21aを有する複数のハース部材21と、真空容器10内に設けられ、複数のハース部材21を搭載するとともに、複数のハース部材21を材料保持位置Bの下方へ順次移動させるハース搭載部22と、材料保持位置Bの下方において上下方向に移動可能に設けられ、ハース搭載部22上に搭載されたハース部材21を材料保持位置Bへ押し上げるハース押上げ部材23aと、材料保持位置Bの下方において上下方向に移動可能に設けられ、固形成膜材料Maを押し上げる材料押上げ部材24aとを備える。 (もっと読む)


【課題】 成膜装置において、真空容器の真空状態を維持したまま真空容器内の被移送物を容易に移送できるハンドリング装置を提供する。
【解決手段】 ハンドリング装置4は、把持部4a、操作部4b、連結部4c、及び連結部支持部4dを備える。把持部4aは、真空容器10の内部に配置され、互いに開閉可能に結合された一対のロッド43及び44を有する。操作部4bは、真空容器10の外部に配置され、ロッド43及び44の開閉を操作するためのハンドル41a及び41bを有する。連結部4cは、把持部4aと操作部4bとを互いに連結し、操作部4bの動きをロッド43及び44へ伝達するシャフト42a及び42bを有する。連結部支持部4dは、連結部4cが挿通された屈曲可能な筒状部分47を有し、筒状部分47の一端及び他端のそれぞれにおいて真空容器10及び連結部4cに気密に固定されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、有機電界発光素子製造に使われる基板上に複数の薄膜を蒸着する装置に関する。
【解決手段】本装置は、マスク付着チャンバ、蒸着チャンバ、及びマスク回収チャンバを有する工程チャンバを有する。各々のチャンバ内の上部には移送ガイドが配置され、基板を支持する基板支持体は、蒸着チャンバ内で、工程実行時、そして工程チャンバ間の移動時、移送ガイドに沿って水平移動する。本発明の装置によると、工程にかかる時間を縮めることができ、設備面積が減る。また、一つまたは複数個のチャンバ単位でグループ付けられ、各グループ別の内部が他のグループの内部と隔離可能になるように、各グループ別の境界に位置する開口を開閉するゲートバルブが設けられる。これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 (もっと読む)


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