【課題】透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法において、パターニング処理を簡易に行う。
【解決手段】透明導電膜３は、導電性を有する複数の金属細線７と、バインダーとしての透明樹脂層８と、を備える。光触媒活性を有する光触媒粒子９は、透明樹脂層８内に分散されている。この構成によれば、透明導電膜３上に紫外線が照射され、紫外線が照射された光触媒粒子９の光触媒作用により、透明導電膜３内の金属細線７を酸化して絶縁体とすることができ、これを選択的に行うことで、透明導電膜３のパターニング処理を行うことができる。従って、透明導電膜３上に紫外線を所定パターンで照射する簡易な工程により、透明導電膜３のパターニング処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】透明性、導電性、耐久性に優れた導電性塗膜を容易に形成でき、しかも保存安定性に優れた導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子および分子中にスルホ基を有するポリアニオンからなる導電性高分子複合体と、前記スルホ基に配位または結合するアミン化合物と、該アミン化合物を触媒として反応を生じるグリシジル基を分子中に２個以上有するグリシジル基含有化合物と溶媒とを含み、２５℃におけるｐＨが３．５〜７．５である。 （もっと読む）

【課題】透明フィルム基材上に結晶質のインジウム系複合酸化物膜が形成された長尺状の透明導電性フィルムを製造する。
【解決手段】本発明の製造方法は、インジウムと４価金属とを含有するインジウム系複合酸化物の非晶質膜が、スパッタ法により前記長尺状透明フィルム基材上に形成される非晶質積層体形成工程、および前記非晶質膜が形成された長尺状透明フィルム基材が、加熱炉内に連続的に搬送され、前記非晶質膜が結晶化される結晶化工程、を有する。前記結晶化工程における加熱炉内の温度は１７０℃〜２２０℃であることが好ましい。また、前記結晶化工程におけるフィルム長さの変化率は＋２．５％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅ナノ構造体を利用した有用な製品を提供する。
【解決手段】本発明の一観点に係る透明導電膜は、ポリマー中に銅ナノ構造体を分散させた構造となっている。この観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、また、銅ナノ構造体を０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含むことも好ましい。また、本発明の他の一観点に係る透明導電膜の製造方法は、ポリマー溶液中に銅ナノ構造体を加えて混合及び攪拌し、ポリマー溶液を基板上に塗布し、乾燥させる。なおこの観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、銅ナノ構造体が、ポリマー溶液中のポリマー及び前記銅ナノ構造体の重量の和に対して０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含まれることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】金属材料を無駄なく用いてコストの上昇を抑えつつも、金属ナノワイヤー表面での光の乱反射を防止可能な透明導電膜を提供する。
【解決手段】金属ナノワイヤーとこれに吸着された有色化合物とを含む透明導電膜である。有色化合物は、可視光領域の光を吸収する材料であり、さらに金属ナノワイヤーを構成する金属に結合する官能基を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、導電積層体をタッチパネル等に使用する電極部材に加工形成する際のアルカリ処理に対し耐性を有する導電積層体を提供せんとするものである。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、下地層、線状構造体からなるネットワーク構造を有する導電成分を含む導電層と、保護層とを積層した導電積層体であって、該下地層が下記（Ｉ）（ＩＩ）を満たす導電積層体。
（Ｉ）Ｓ元素、および、金属イオンを、いずれも含まない親水性官能基（Ａ）を有する。
（ＩＩ）メラミン系架橋剤（Ｂ）を含む。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルにおいて、金属細線のパターンで電極を構成した場合においても、高い透明性を確保することができ、しかも、歩留まりの向上を図ることができる導電シートを提供する。
【解決手段】透明基体１２と、該透明基体１２の他主面に形成された第２導電部１３Ｂとを有し、少なくとも第２導電部１３Ｂが透明粘着剤１２０を介して表示装置１０８に接着される導電シートにおいて、第２導電部１３Ｂは、金属細線による網目状構造部を有し、透明基体１２の主面と金属細線の側壁とのなす角が鋭角であり、第２導電部１３Ｂにおける透明粘着剤１２０とのピール粘着力が、０．１Ｎ／１０ｍｍ以上５Ｎ／１０ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】静電容量型電子入力装置のＸＹ電極の形成において、真空プロセスを用いずに、工程が短く、製品の品位低下の問題を軽減し、コストダウン化にも繋がる作成方法を提供する。
【解決手段】透明基板の表面の同一レイヤーに、X軸方向及びこれと直交するY軸方向に間欠的に配列される複数の第１の透光性電極３と、互いに絶縁された、X軸方向及びY軸方向に配列され、各々が第１の透光性電極３の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極４とを備え、第１の透光性電極３の各々は複数のジャンパー８によって相互に電気的に接続され、第１の透光性電極３と第２の透光性電極４とのパネル端部のそれぞれに金属電極を備える電子入力装置において、少なくとも第１の透光性電極３と第２の透光性電極４とは、金属微粒子、および／または、導電性高分子から選ばれる一種以上の導電性材料を含有する感光性樹脂組成物を用いて形成された透明導電性薄膜から成る。 （もっと読む）

【課題】導電積層体をタッチパネル等に使用する電極部材に加工形成する際のアルカリ処理に対し耐性を有する導電積層体を提供する。
【解決手段】基材１の少なくとも片面に、金属系ナノワイヤーからなるネットワーク構造を有する導電成分を含む導電層２と、保護層３とを積層した導電積層体であって、該保護層３が下記（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす導電積層体。（ｉ）構造内に２個以上の重合反応に寄与する炭素−炭素二重結合基を有する化合物が重合反応した構造を含む高分子からなる。（ｉｉ）保護層の全質量に対する前記炭素−炭素二重結合基由来の構造の炭素−炭素二重結合基の単位構造（＞Ｃ＝Ｃ＜：式量２４）部分の質量含有率が９質量％以上である。（ｉｉｉ）ＦＴ−ＩＲ法にて求めた前記炭素−炭素二重結合の伸縮振動のピーク強度ν１と炭素−水素単結合（Ｃ−Ｈ）の伸縮振動のピーク強度ν２の比ν１／ν２がν１／ν２≦０．３である。 （もっと読む）

【課題】効率的に、かつ低コストで、優れた物性値をもち、表面が平滑な、グラフェン／高分子積層体を製造する方法を提供する。
【解決手段】金属基板上に形成された、グラフェンを複数層有する多層グラフェン１０のうち少なくとも１層を、多層グラフェン１０の層間で剥がして、高分子フィルム３に貼り付ける、グラフェン転写工程を含む。 （もっと読む）

【課題】透明性及び電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な透明導電膜を提供する。更に、本発明は、該透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有する透明導電膜であって、前記金属酸化物は、下記式（１）に規定する関係を満たす透明導電膜。
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【課題】単純な成膜装置および簡便なプロセスで、低抵抗であって、かつ所定の表面形状を有する透明導電膜を成膜する透明導電膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の成膜方法は、成膜材料を含む成膜溶液から液滴を形成するステップと、該液滴を被成膜物に噴き付けることにより、被成膜物の表面温度を第１温度領域から第２温度領域に変化させながら、透明導電膜を成膜するステップとを含み、第１温度領域は、第２温度領域の温度よりも２０℃以上高いことを特徴とする。上記の第１温度領域から第２温度領域への温度変化が連続的であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性、耐熱性等の化学的耐久性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成材料は、酸化亜鉛を主成分とし、フッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムのうち少なくとも一方を含み、さらにチタンを含む酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であり、全金属原子数に対するチタンの原子数の割合が２％超１０％以下であり、全金属原子数に対するフッ化ガリウムおよびフッ化アルミニウムの一方または両方の金属原子数の割合が０．１％以上５％以下であり、かつチタン源として、一般式：ＴｉＯ_2-X（Ｘ＝０．１〜１）で表される低原子価酸化チタンを用いた酸化物焼結体である。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、酸化チタンを含む酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であり、チタンの原子数の全金属原子数に対する割合が２％超１０％以下であり、かつチタン源として、原子価が４価であるチタン元素を用いて、還元性雰囲気中にて加圧焼結して作製された酸化物焼結体である。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの製造時およびスパッタリング時に割れを生じることのない高強度な酸化亜鉛焼結体および高抵抗な酸化亜鉛薄膜を提供する。
【解決手段】ジルコニウムを１０〜１０００ｐｐｍ含有し、抵抗率が１０^５Ω・ｃｍ以下である円筒形状の酸化亜鉛焼結体から成るスパッタリングターゲットを作製する。
またジルコニウムを１０〜２０００ｐｐｍ含有し、抵抗率が１０Ω・ｃｍ以上であり、膜厚１００ｎｍのとき、波長５００ｎｍの透過率が７５％以上の酸化亜鉛薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】 優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方
法を提供する。
【解決手段】 本発明の酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法は、スパッタリング法により酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法であって、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）が０．０２を超え０．１以下である酸化物焼結体または酸化物混合体を加工して得られるターゲットを用いる方法である。この形成方法により成膜された透明導電膜は、該透明導電膜中に含まれる亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）が０．０２を超え０．１以下である。 （もっと読む）

【課題】 イオンプレーティング法による、優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 イオンプレーティング法により酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法であって、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなり、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）が０．０２を超え０．１以下である酸化物焼結体または酸化物混合体を加工して得られるターゲットを用いる方法 （もっと読む）

【課題】良好な導電性と表面平滑性、加工性を併せ持つ酸化亜鉛系の透明導電膜を提供する。
【解決手段】基材１上に形成される透明導電性積層膜であり、該透明導電性積層膜は、周期表第III族又は第IV族の元素の化合物を含む下地膜１１と、該下地膜１１上に形成される酸化亜鉛を含む導電膜１２とを含むものであり、該導電膜１２は、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折法により検出される酸化亜鉛の（００２）面の回折線のうち、回折角２θが３３．００°≦２θ≦３５．００°である回折線の強度Ｉが１０００（ｃｐｓ）以下であり、該強度Ｉと該導電膜の膜厚ｔとのＩ／ｔが０〜１５．０（ｃｐｓ／ｎｍ）であることを特徴とする透明導電性積層膜。 （もっと読む）

【課題】低抵抗かつ耐食性を有する透明電極基板を提供する。
【解決手段】透明電極基板１１は、透明基材１１０と、格子状の配線体１１２と、透光性の電極層１１５とを具備する。透明基材は、格子状の溝１１０ａが形成された表面を有する。配線体は、第１の導電層Ｌ１１と、第２の導電層Ｌ２１〜Ｌ２３と、第３の導電層Ｌ３１，Ｌ３２とを含む。第１の導電層は、第１の比抵抗を有する。第２の導電層は、酸バリア性と第１の比抵抗よりも大きい第２の比抵抗を有する。第３の導電層は、第１の比抵抗よりも大きく第２の比抵抗よりも小さい第３の比抵抗を有する。配線体は、溝１１０ａの内部に第１の導電層Ｌ１１、第２の導電層Ｌ２１及び第３の導電層Ｌ３１の順に積層される。電極層は、配線体と電気的に接続されるように基材の表面に積層され、酸バリア性と第３の比抵抗よりも大きい第４の比抵抗とを有する。 （もっと読む）

【課題】実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、モリブデンおよび酸素からなる酸化物焼結体であって、モリブデンが原子数比でＭｏ／（Ｚｎ＋Ｍｏ）＝０．０２以上０．１以下となるよう含有されている。 （もっと読む）