【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた反射防止特性を有する導電性光学素子を提供することにある。
【解決手段】反射防止機能を有する導電性光学素子は、表面を有する基体と、基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる構造体と、構造体上に形成された透明導電膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】内部への水分の浸入を防止して、白化を防止することができる透明導電膜層シー
トを提供する。
【解決手段】透明導電膜層シート５は、水蒸気バリア性のある材質からなる基体シート１
と、基体シート１の一方面の上に形成された透明導電膜層３と、透明導電膜層３を覆うよ
うに形成された粘着層４と、粘着層４の上に積層された、波長５５０ｎｍにおける面内方
向リタデーション値Ｒｅが２０ｎｍ以下の光学等方性シート７とを備えている。透明導電
膜層シート５は、光学等方性シート７の上に形成された透明導電膜層３と、その透明導電
膜層３を覆うように形成された粘着層４とを更に備えていてもよい。基体シート１が、粘
着層４の側面まで被覆されるよう立体形状に形成されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】内部への水分の浸入を防止して、白化を防止することができる透明導電膜層シー
トを提供する。
【解決手段】 透明導電膜層シート５は、波長５５０ｎｍにおける面内方向リタデーショ
ン値Ｒｅが２０ｎｍ以下で水蒸気透過性が高い材質からなる基体シート７と、基体シート
７の一方面の上に形成された透明導電膜層３と、透明導電膜層３を覆うように形成された
粘着層４と、基体シート７の他方面に積層された水蒸気バリア性のある材質からなる保護
シート１とを備えている。保護シート１を立体形状に加工して、粘着層４の側面を被覆す
るように構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層を有機物により形成する工程、前記アンダーコート層上に、スパッタリング法により透明導電体層を形成する工程、および前記透明導電体層を、エッチングしてパターン化する工程を有することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】可視光線透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れ、内部応力が小さいため高温・多湿な環境下でも変形しない透明導電膜及びそれを含むディスプレイフィルタを提供する。
【解決手段】本発明による透明導電膜は、透明基板上に第１屈折透明薄膜と金属薄膜とが繰り返し積層され、且つ第１屈折透明薄膜と金属薄膜との間に第１屈折透明薄膜よりも屈折率が低い第２屈折透明薄膜が積層されてなる透明導電膜であって、ここで、第２屈折透明薄膜は、その厚さが第１屈折透明薄膜の厚さに対して１０％以上、６５％以下で形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】これまでの基板上に形成された透明電極付き基板では、表面粗さは基板に依存しており、基板上に形成される下地層や透明電極では表面粗さを制御できなかった。この為、透明電極付き基板のミクロンオーダー以下の凹凸の制御ができず、光学設計にも限界があった。
【解決手段】下地層の一部または全部が粒子状の酸化ケイ素からなる層を用いることで、ナノレベルの凹凸の制御ができ、酸化ケイ素の屈折率とナノレベルの凹凸形状により光学特性を大きく向上することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に２層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には少なくとも１層のアンダーコート層を有し、かつ、パターン化された透明導電体層は、２層のアンダーコート層を介して設けられており、前記透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層の厚みが、前記透明なフィルム基材から第二層目のアンダーコート層の厚みよりも大きいことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材、及び該透明導電材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材の一面側に、銀粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物からなる導電性パターン層を有し、該導電性パターン層の表面に、ＡｇＣｌ、ＴｅＣｌ_２、ＴｅＣｌ_４、Ｔｅ、ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ及びＴｅＯ_２からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、且つ、厚みが０．０１〜０．５μｍである黒化層が積層されていることを特徴とする透明導電材、及び該透明導電材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた導電性微粒子分散液、透明性に優れ、且つ、帯電防止機能を有する硬化膜を基材の表面に形成することができる導電性微粒子含有光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化膜を提供し、また、特に高屈折率の透明導電膜形成用として有用なこれら分散液、組成物、及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子、金属錯体及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子分散液と、導電性微粒子、金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子含有光硬化性組成物と、この導電性微粒子含有光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化物膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラスチックフィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜でき、カールが低いＩＴＯ導電膜を作製とすることを目的とする。
【解決手段】透明基板の両面に透明硬質な有機物質層による膜厚が異なる第１のハードコート層と第２のハードコート層が設けられる。低温下で、その薄い第１のハードコート層の表面に、金属酸化物層と酸化珪素層を順次に成膜する。その上で酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）はマグネトロンスパッタリング法にて高電力密度で成膜した。得られた透明導電薄膜は透明性高く、優れた密着性と耐久性を持ち、且低温成膜されたものである。さらに、得られた透明導電薄膜はカールが低い特徴を持っている。 （もっと読む）

【課題】優れた反射防止性、帯電防止性、耐擦傷性、密着性、防汚性を有し、かつ生産性に優れた反射防止フィルムを提供すること。また、反射防止フィルムが取り扱われる環境に依存せず帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】支持体上に、下記（Ａ）及び（Ｂ）を含む低屈折率層用組成物を用いて形成される低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体に対して前記低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数ｌｏｇ（ＳＲ）が１３．０以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
（Ａ）重合性基を有する多官能フッ素含有モノマー
（Ｂ）π共役系導電性高分子とアニオン基を有する高分子ドーパントとを含む疎水化処理された導電性高分子組成物 （もっと読む）

【課題】透明性およびアンチニュートンリング性に優れ、かつ、輝度ムラのない樹脂層を形成することができる硬化性組成物、あるいは該樹脂層を有する導電性積層体を提供する。
【解決手段】導電性積層体は、透明基材層の一方の面に、粒子含有樹脂層、透明導電層の順に形成され、前記粒子含有樹脂層は、無機粒子の凝集体を含有し、前記粒子含有樹脂層の前記透明導電層が形成された面におけるＪＩＳＢ０６０１−２００１による算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面反射を抑制して光の透過率を高めた透明導電膜を備える透明導電膜付き基材を提供する。
【解決手段】マトリクス樹脂５中に金属ナノワイヤ３を含有して形成される透明導電膜２を透明基材１の表面に備えた透明導電膜付き基材に関する。透明導電膜２のマトリクス樹脂５中には、マトリクス樹脂５よりも低い屈折率を有する低屈折率粒子４を含有する。低屈折率粒子４によって透明導電膜２の屈折率を低くすることができ、表面反射を抑制して透明導電膜２の光の透過率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】反射率調整層の厚み及び屈折率により、透明導電フィルムの反射率を制御し、エッチング工程の後に異なるブロックの間の反射率の差をなくすことによって、上記異なるブロックの間に同一の光学表示効果向上させる透明導電フィルム構造を提供する。
【解決手段】透明導電フィルム構造１は、基板１０と、前記基板上に形成された多層膜構造２０とを含み、前記多層膜構造２０は、前記基板１０に最も近い位置から順に反射率調整層２１と透明導電フィルム２２とからなる。 （もっと読む）

【課題】抵抗膜方式タッチパネルにおけるニュートンリングの発生を有効に抑制できるニュートンリング防止フィルムを提供する。
【解決手段】１又は複数のポリマーと１又は複数の硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含む液相から、前記溶媒の蒸発に伴うスピノーダル分解により、複数のポリマー同士、ポリマーと硬化性樹脂前駆体、又は複数の硬化性樹脂前駆体同士が相分離構造を形成し、前記樹脂前駆体を硬化させてアンチニュートンリング層を形成することによりニュートンリング防止フィルムを製造する。このフィルムは、前記アンチニュートンリング層が、表面に凹凸構造を有しており、入射光を等方的に透過して散乱し、かつ散乱光強度の極大値を示す散乱角が０．１〜１０°であるとともに、全光線透過率が７０〜１００％である。 （もっと読む）

【課題】所望の形状のダブルテクスチャ構造を有する透明導電膜を簡便な方法で製造可能とする、透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の製造方法は、表面に起伏形状を有する成形型を作製する工程（Ｓ１０）と、基板を準備する工程（Ｓ２０）と、基板上に、透明導電性前駆体材料と揮発性材料とを含む透明導電性前駆体層を形成する工程（Ｓ３０）と、成形型の起伏形状を透明導電性前駆体層に押圧する工程（Ｓ４０）と、揮発性材料を揮発させる工程（Ｓ５０）と、透明導電性前駆体層から成形型を離型させる工程（Ｓ６０）と、透明導電性前駆体層を熱処理する工程（Ｓ７０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】焼成しても、膨れや剥離が生じることがない、導電性基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子（Ａ１）とこの金属ナノ粒子（Ａ１）を被覆する保護コロイド（Ａ２）とで形成された金属コロイド粒子（Ａ）、沸点が１００〜２５０℃である極性溶媒で構成された分散媒（Ｂ）、及び沸点又は分解温度が２５０℃を超え、かつ数平均分子量が２００〜２０００である親水性化合物で構成されている分散助剤（Ｃ）を含む金属ナノ粒子ペーストを調製する。この金属ナノ粒子ペーストを用いると、焼成しても膨れが生じることなく、基材（特に、ＩＴＯやＦＴＯなどの金属酸化物で構成された透明電極膜）に強固に密着した焼結膜を形成できる。 （もっと読む）

【課題】パターン見えを軽減させると共に、導電パターン膜を容易に形成することができる導電性ナノファイバーシート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。狭小溝９及び微小ピンホール７には、絶縁材料が埋められている。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー技術に限定されることなくパターンの形成が可能であり、安価なパターン形成方法を使用できるためコストを抑制でき、また、配線パターンのサイズや形状を自由に設計できるため、製品応用への範囲が広く、大量生産が可能な、配線パターンの見えない積層体を提供すること。
【解決手段】可視光波長領域における屈折率が１．８以上、２．２以下の透明基板１と、透明基板１上の一部に形成された酸化亜鉛膜２とを備え、透明基板１の可視光領域の光の波長に対応する屈折率に対して、酸化亜鉛膜２の可視光領域の光の波長に対応する屈折率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であり、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１のみを透過して出射される光の可視光領域における分光透過率に対して、透明基板１の裏面から入射されて、透明基板１および透明基板１の一部に形成された酸化亜鉛膜２を透過して出射される光の可視光領域における分光透過率が、プラス５％およびマイナス５％の範囲内であることを特徴とする。 （もっと読む）