本発明は、特殊な構造を有する銀錯体化合物と有機酸金属塩を利用して、少なくとも１層以上の複合多層膜から構成された透明導電膜を製造する方法に関する。本発明の透明導電膜の製造方法は、溶液工程を通じて、１）透明基材上に導電層の透明度を向上させる透明層を形成する段階と、２）伝導度を付与する導電層を形成する段階と、を含むことを特徴とし、３）導電膜の経時変化を防ぐための保護層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。本発明によると、工程が簡単で、且つ伝導度と透過率に優れた大面積の透明導電膜を容易に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】新規な透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の製造方法は、チタン化合物と遷移元素化合物とを含有する溶液又は分散液を基材上にコートするコーティングステップと、コーティングステップで基材上にコートした溶液又は分散液を加熱して焼成することにより遷移元素がドープされたチタン酸化物の透明被膜を形成する焼成ステップと、焼成ステップで形成した透明被膜を酸素濃度が１ｖｏｌ％未満のガス雰囲気下で加熱処理する加熱ステップと、を備える。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛膜の作製コストを低減させ、且つ低抵抗な透明導電膜を形成する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも支持基板１１と酸化亜鉛透明導電膜１２とを備える酸化亜鉛透明導電膜付き支持基板の製造方法であって、少なくとも、該支持基板上１１にＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法により酸化亜鉛透明導電膜１２を形成する酸化亜鉛透明導電膜形成工程と、該酸化亜鉛透明導電膜形成工程の後に該酸化亜鉛透明導電膜１２に対して２００℃未満で光照射処理を施す光照射工程とを備、酸化亜鉛透明導電膜付き支持基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の透明電極などに利用可能な、導電性の高い金属化合物膜と、その簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】結晶構造を有する酸化亜鉛などからなる金属化合物粒子１を含む粒子分散液をシリコン基板２に塗布し、金属化合物粒子を、基板平面方向にＣ軸配向する粒子が含まれるように基板に付着させる。この上に同じ金属化合物粒子を含む液を塗布し、付着した金属化合物粒子を核として結晶成長させる。焼成処理をして基板平面方向にＣ軸配向した金属化合物膜３の結晶粒を得る。 （もっと読む）

【課題】塗布膜とスパッタ膜とを備え、且つ、従来に比べて厚み方向における導電性の向上が図られた透明導電膜、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドを含む溶液から得られたゾルを、基材１４に塗布し、それを乾燥させて、第１の透明導電膜（塗布膜１１）を形成し、塗布膜１１に対してプラズマ処理を行い、そして、塗布膜１１の上に、スパッタリング法によって第２の透明導電膜（スパッタ膜１２）を形成して、透明導電膜１０を完成させる。プラズマ処理は、例えば、プラズマ放電によって発生させたガスイオンを塗布膜１１に衝突させることによって行われるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】減圧雰囲気を必要とせず、低抵抗かつ高品位の透明導電膜を形成することができ、しかも、塗工法を用いることにより、量産性及び製造コストの点で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の形成方法は、基材１２の表面に導電性塗膜１３が形成された膜付基材１１を下部電極５上に載置し、この膜付基材１１上に大気圧または大気圧近傍の反応ガスｇを導入し、これら下部電極５と上部電極３との間に電圧を印加して反応ガスｇを非平衡プラズマ状態とし、この非平衡プラズマｐを導電性塗膜１３に照射して改質することにより、透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】低温で酸化錫膜を形成することができる酸化錫膜形成剤を提供する。
【解決手段】（１）ｐ個のβ位に二重結合を有する有機基（ｐが２〜４の場合有機基は同じでも異ってもよい）とｍ個のハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基又はアシルオキシ基のうちいずれか１種及びｎ個のハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基又はアシルオキシ基のうちいずれか１種と結合した１個の錫原子よりなる化合物（ｐは１〜４、ｍ及びｎは０〜３の整数を示し、ｐ＋ｍ＋ｎ＝４である）（２）２個のβ位に二重結合を有する有機基及び１個の二重結合で結ばれた酸素原子と結合した１個の錫原子よりなる化合物（３）１個のβ位に二重結合を有する有機基と１個の二重結合で結ばれた酸素原子及び１個の水酸基と結合した１個の錫原子よりなる化合物（（１），（２），（３）中の有機基はそれぞれ同一または異なる）の有機錫化合物を少なくとも１種含有する酸化錫形成剤。 （もっと読む）

【課題】フロートガラス製造過程中に大気圧化学気相堆積（ＡＰＣＶＤ）によって高堆積速度でガリウムまたはアルミニウムドープ酸化亜鉛膜を作り、比較的安価な前駆体物質を利用し、望ましい低抵抗率特性を有する被覆ガラス物品を生産する。
【解決手段】コーティングがその上に堆積されることになる基材表面を有し、その表面が少なくとも４００℃の温度にあるような高温ガラス基材を提供することによって、低抵抗率のドープされた酸化亜鉛被覆ガラス物品が形成される。基材表面に、亜鉛含有化合物、酸素含有化合物及びアルミニウムまたはガリウム含有化合物が方向付けられる。亜鉛含有化合物と、酸素含有化合物と、アルミニウムまたはガリウム含有化合物とが、アルミニウムドープ酸化亜鉛コーティングまたはガリウムドープ酸化亜鉛コーティングが５ｎｍ／秒超の堆積速度で基材表面上に形成されるのに十分な時間の間、混合される。 （もっと読む）

【課題】 透明で低コストの透明導電膜を提供するとともに、該透明導電膜を形成することにより、生産性を向上させ、かつ低コストで高性能、高信頼性の光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 表面に酸化層が形成された金属微粒子を用意する工程と、前記金属微粒子と無機または有機金属化合物を溶解させた有機溶媒に分散させて、混合原料溶液を調整する工程と、前記混合原料溶液を基体の表面に塗布する工程と、前記基体の表面に塗布された混合原料溶液を熱処理して、透明導電膜を形成する工程と、を少なくとも備えることで、基体との接触抵抗を改善し、低コストで高効率の光電変換装置を得る。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら、銀凝集防止された透明導電性薄膜およびそれを用いた電磁遮蔽膜を提供する。
【解決手段】透明基体Ｓ上に生成された酸化物透明導電膜と金属膜の積層体であって、その酸化物透明導電膜と金属膜は、膜成分微粒子を基体Ｓ上に、スプレーコート法又は超音波噴霧法を用いた塗布方法により堆積させたのち大気圧プラズマ処理処理装置３０にて、基体Ｓ上に付着させることを特徴とする透明導電性積層膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するＩＴＯ等の透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのＩＴＯ等の透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液を提供する。
【解決手段】 （Ａ）有機インジウム化合物と（Ｂ）ドーパント用有機金属化合物を（Ｆ）溶剤に溶解させた後、熱分解性又は燃焼性を有する（Ｃ）アルカリ可溶性ラジカル重合性モノマー、（Ｄ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｅ）光重合開始剤からなる感光性樹脂成分を加えた透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液を用い、この塗布液を基材上に塗布、乾燥し、露光、現像を行って微細なパターンを形成し、３５０℃以上の温度で焼成して透明導電パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス周期が長く、安価な透明導電膜付基板の製造方法、またその製膜装置を提供する。
【解決手段】 少なくとも２枚以上の製膜面を対向して設置された基板上に化学気相蒸着法（以下ＣＶＤ法）を用いて酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜の製膜を実施するにあたり、各基板の製膜面を結んで構成される１つ以上の製膜空間外にガス供給体を設置し、該ガス供給体を通して、該製膜空間へと基板と平行に１方向に原料ガスを供給することを特徴とする、透明導電膜付基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】減圧雰囲気を必要とせず、結晶配向性を任意に制御した高品位の透明導電膜を低温で安定的に形成することができる透明導電膜の製造装置及び製造方法並びに透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造装置は、原料を含む反応ガスを導入するガス導入管と、プラズマ発生用上部電極及び下部電極と、上部電極と下部電極との間にプラズマ発生用の電圧を印加するプラズマ発生用電源とを備え、上部電極３には、原料を含む反応ガスを通過させるための開口端が円形状の孔１２が縦横に所定の間隔をおいて形成され、これらの孔１２の開口端の総面積は、上部電極３の表面３ａの面積の１％以上かつ７０％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一な厚さの薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】加熱保持された基板13上方に噴霧器14aを正対配置し、揮発性溶媒に溶解した薄膜材料を噴霧器14aから下方の基板13に向けて間欠噴霧し、ＳＰＤ法によって基板13表面に薄膜（透明導電膜）15を形成する薄膜形成方法で、噴霧器14aの間欠噴霧を、１回の噴霧時間が百ｍｓ以下の高速パルス間欠噴霧とする。間欠噴霧における１回の噴霧時間が短い分、噴霧中に噴霧圧力が変動して噴霧流量や噴霧領域が経時的に変化する機会が少なく、基板15表面に塗りムラが発生し難い。１回の噴霧で基板13に付着する薄膜材溶液の量が少なく、基板の温度低下も小さいので、高速パルス間欠連続噴霧により、噴霧工程に要す時間が従来方法に比べて延びることもない。 （もっと読む）

【課題】１０００Ω以下の表面抵抗率、８０％以上の全光線透過率、５％以下のヘイズを有し、耐水性、透明基材と透明導電層との密着性に優れたタッチパネル用透明導電シートを提供する。
【解決手段】本発明のタッチパネル用透明導電シートは、透明基材と、該透明基材上に形成された透明導電層を有するタッチパネル用透明導電シートにおいて、透明導電層が、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、下記（ａ）及び／又は（ｂ）の重合性化合物とを含むことを特徴とする。（ａ）：グリシジル基を有する化合物。（ｂ）：アリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基から選ばれる１種と、ヒドロキシル基とを有する化合物。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、基材の表面温度が３００℃以下で形成でき、低キャリア密度、高キャリア移動度及び低抵抗率の透明導電膜及びその形成方法を提供することである。
【解決手段】 大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応性ガスを放電空間に導入してプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上にキャリア密度が１×１０¹⁴〜１×１０¹⁹／ｃｍ³、キャリア移動度が１〜１００ｃｍ²／Ｖ・ｓｅｃである透明導電膜を形成する透明導電膜の形成方法において、前記反応性ガスが少なくとも酸化性ガス及び還元性ガスを含有し、その比（酸化性ガス／還元性ガス）が０．１〜５０体積％であり、かつ放電空間外に導入するガス中の酸素濃度が０．００１〜３体積％であることを特徴とする透明導電膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 塗膜を３００℃以下の温度で熱処理した場合においても、透明性に優れ、表面抵抗が低く、膜強度が高い透明導電膜を容易に得ることができる透明導電膜形成用塗料及び透明導電膜並びに透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜形成用塗料は、ＩＴＯ超微粒子と、シリカゾルと、Ｉｎの無機塩またはＳｎの無機塩とを含有し、ＩＴＯ超微粒子１００重量部に対し、シリカゾルをシリカ換算で２重量部以上かつ２０重量部以下、Ｉｎの無機塩またはＳｎの無機塩を２０重量部以上かつ１００重量部以下としたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布法によって、例えば、透明性と高抵抗値を有し、更にエッチング性が良好な透明導電膜を低コストかつ簡便に形成できるような透明導電膜形成用塗布液、およびこの塗布液を使用した透明導電膜の製造方法と透明導電膜を提供する。
【解決手段】透明導電膜形成用塗布液は、アセチルアセトンインジウム、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び／又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジル、必要に応じ有機錫化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液であって、アセチルアセトンインジウム又はこれと有機錫化合物の含有量が１〜３０重量％、セルロース誘導体の含有量がアセチルアセトンインジウム、またはこれと有機錫化合物１００重量部に対し５０重量部以下で、さらにアセチルアセトンインジウムと有機錫化合物の含有割合をインジウム１００モルに対して、錫２．５モル以下、２７モル以上としたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】
低電圧で駆動させることができ、かつ長期間に亙って安定な導電特性を維持できる透明導電性基板、及びこの透明導電性基板を用いる有機ＥＬ素子等の光学的素子を提供する。
【解決手段】
基板と、該基板表面に形成された透明導電膜と、及び該透明導電膜上に、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を表し、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜の層を有することを特徴とする透明導電性基板、並びに、互いに対向する２つの電極間に発光層を必須の層として設けた光学的素子において、前記電極の少なくとも一方が、前記透明導電性基板からなることを特徴とする光学的素子。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、透明性と導電性を兼ね備えた微細なパターンを有するＩＴＯ透明導電パターン膜とその製造方法、及びそのＩＴＯ透明導電パターン膜を低コストかつ簡便に製造できる透明導電膜形成用感光性塗布液を提供することにある。
【解決手段】 アセチルアセトンインジウムと有機錫化合物を溶剤に溶解させた後、熱分解性又は燃焼性を有する感光性樹脂と希釈液を加えた透明導電膜形成用感光性塗布液を用い、この塗布液を基材上に塗布、乾燥し、露光、現像を行って微細なパターンを形成し、４００℃以上の温度で焼成して透明導電パターン膜を形成する。 （もっと読む）