【課題】 塗布膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、高品位の透明導電膜を安定的に形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材７上に塗布して塗膜８を形成し、この塗膜８上に大気圧下にて反応ガスを導入し該反応ガスをプラズマ化させて弱電離プラズマ状態のプラズマであるプルームＰ’を発生させ、このプルームＰ’を塗膜８に照射して塗膜８を改質することにより、基材７上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 透明導電塗膜層中の導電性高分子量を増加させなくても導電性が改善された導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式
【化１】


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は相互に独立して水素または炭素数１〜４のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって任意に置換されてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基を表す）
で表される繰り返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を構成成分とする透明導電性塗膜を設け、次いでカレンダー処理して表面抵抗率が１０〜１０^７Ω／□である導電性フィルムを得る。 （もっと読む）

大気圧もしくはその近傍の圧力下、高周波電界Ａを発生させた第１の放電空間に放電ガスを供給して励起し、前記励起した放電ガスのエネルギーを薄膜形成ガスに伝えて励起し、基材を、前記励起した薄膜形成ガスに晒すことにより、前記基材上に薄膜を形成する第１の工程と、高周波電界Ｂを発生させた第２の放電空間に酸化性ガスを含有するガスを供給して励起し、前記第１の工程で形成された前記薄膜を、前記励起した酸化性ガスを含有するガスに晒す第２の工程とを有することを特徴とする薄膜形成方法。
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【課題】ＭＯＣＶＤ（有機金属化学的気相成長）法により、透明導電膜を多層構造で連続的に製膜するための製膜装置及び製膜方法に於いて、原料を節約し、均一で高品質な膜質を保持しつつ製膜速度を向上させる方法を提供する。
【解決手段】多層透明導電膜連続製膜装置は、基板装着部２と、真空排気を行う仕込み部3と、有機金属化合物（ジエチル亜鉛）とジボランと水を気相で反応させＭＯＣＶＤ法により透明導電膜を基板上に形成する製膜処理部４１〜４ｎを複数有する多層製膜処理部と、基板取り出し部５と、基板取外し部５と、基板セッターを基板装着部へ戻させるセッターリターン部７とからなり、前記各部を順次移動しながら基板に多層透明導電膜を連続的に製膜する。各製膜処理部は、有機金属化合物とジボラン、水の夫々を噴射するノズルを設け、これらを冷却する冷却機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】 より低温で、より安全に、（低コストで）金属酸化物膜、特に透明導電性膜として重要なＩＴＯ膜などの金属酸化物膜を形成可能なコーティング液、該コーティング液を用いて形成される金属酸化物膜、さらに、このＩＴＯ膜などの金属酸化物膜を電極として用いた有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を提供すること。
【解決手段】 金属イオンと、金属イオン配位が可能な官能基を有するバインダーとを含み、塗布後に加熱処理によって金属酸化物膜が形成されることを特徴とするコーティング液。 （もっと読む）

【課題】簡単で迅速に製造が可能で、且つ反射防止性及び帯電防止性に優れたＦＥＤ用反射防止フィルを提供すること。
【解決手段】透明基板の一方の表面に反射防止膜が、他方の表面に透明導電層が設けられ、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム；及び一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板が、該膜形成されていない表面と該層が形成されていない表面同士で接着されてなる積層体であって、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムＦＥＤ用反射防止フィルの製造方法、及び電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされた電界放出型ディスプレイ。 （もっと読む）

本発明は十分に高透明である透明導電膜付透光性基板を提供することを目的とし、それは透光性基板上に膜厚が１２〜２ｎｍの連続する透明導電膜を形成してなる透明導電膜付透光性基板であり、好ましくは、透明導電膜が柱状単結晶の集合体であり、透明導電膜の最大表面粗さが１〜２０ｎｍの範囲であり、透明導電膜の平均表面粗さが０．１〜１０ｎｍの範囲であり、透明導電膜は錫ドープ酸化インジウムの薄膜であり、錫ドープ酸化インジウムの薄膜中にスズ原子が均一に分布しており、波長４００ｎｍの光に対する透過率が８８％以上であり、波長３５０ｎｍの光に対する透過率が８５％以上であり、全光線透過率が９０％以上である透明導電膜付透光性基板である （もっと読む）

【課題】 透明被膜形成時に、クラックが生成することなく、導電層が形成されて、高硬度であると共に導電性を向上させる透明被膜を形成することが可能な導電性透明被膜形成用塗布剤及び該塗布剤を利用した導電性透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】 本発明に係る導電性透明被膜形成用塗布剤は、（ｉ）メタクリロキシ基又はアクリロキシ基を含有するシラン化合物及び／又はその加水分解物と、（ｉｉ）メタクリロキシ基又はアクリロキシ基を含有する重合性酸性リン酸エステルと、（ｉｉｉ）ラジカル発生化合物を含有するマトリックス前駆体を含む組成物である。特に、マトリックス前駆体中の（ｉ）と（ｉｉ）の割合が固形分として質量比１０：９０〜７０：３０の範囲にあることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 廉価な低純度のジエチル亜鉛原料中に不純物として含有するトリエチルアルミニウム添加剤として利用し、製膜コストを低減する。
【解決手段】 低純度（９９．９９〜９８％又は９９．９９〜９０％）のジエチル亜鉛を原材料として用い、ＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法によりＺｎＯ系透明導電膜を作製する。酸化剤としての水蒸気（Ｈ₂ Ｏ）と前記原料中に不純物として含有するトリエチルアルミニウム添加剤として転用し、（更に、添加剤としてジボランを添加し、）前記ジエチル亜鉛と、前記水蒸気（Ｈ₂ Ｏ）と、トリエチルアルミニウムと、（ジボランと）を気相反応させてＺｎＯ系透明導電膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線照射による透明導電膜パターン形成（トリミング）やレーザー焼成が可能な透明導電膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】 アセチルアセトンインジウム、ドーパント用有機金属化合物、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び／又はアルケニルフェノールと、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジルからなる溶液に有機色素を溶解させて透明導電膜形成用塗布液を得る。この塗布液を基板上に塗布、乾燥させた後、必要に応じレーザー光線照射によるトリミングを行い、４００℃以上の温度で焼成、又はレーザー焼成して透明導電膜パターンを形成する。 （もっと読む）

本発明は、適切な強度およびパルス幅のマイクロ波パルスがプラズマを発生するためにマイクロ波注入デバイスを介して注入される反応器のプラズマ室内で、導電性透明被膜またはＴＣＯ被膜を基板に付着するプラズマ・インパルスＣＶＤ方法（ＰＩＣＶＤ方法）に関する。マイクロ波注入デバイス上での導電性被膜の形成は、保護デバイスによって特に抑制されるが、これは、そうしないと、マイクロ波透過率の減衰によってプラズマ強度が低減され、それによって結局プラズマ形成が妨げられるからである。層形成を抑制するために使用される保護デバイスは、たとえば、プラズマ室とマイクロ波注入デバイスの間のマイクロ波透過性被膜、マスキングまたは分離デバイス、たとえば、一定の間隔で、任意選択で清浄化されるかあるいは取り替えられるフィルムまたは接着テープでもよい。そのような基板はまた、被膜デバイスまたは分離デバイスとして使用されることもできる。層の所望しない形成はまた、プラズマ室内のガス組成を制御することによって効果的に抑制されることもできる。マイクロ波注入デバイスおよび／または保護デバイスは、マイクロ波透過を実質的に妨げず非導電性または弱導電性である被膜が堆積される温度レベルまで冷却できる。本発明はまた、本発明の方法を実施するＰＩＣＶＤ反応器にも関する。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が小さく、光の透過性にも優れており、発光輝度の向上が期待される多孔質ＩＴＯ膜の作製方法および低抵抗の多孔質ＩＴＯ電極膜形成方法の提供。
【解決手段】インジウムと錫とアルコールとを含む有機溶液を用い、これを界面活性剤の存在下で加熱処理する。界面活性剤としては、ノニルフェノールエトキシレート、オクチルフェノールエトキシレートなどのようなノニオン界面活性剤を有機溶液に対して５〜２０重量％使用する。 （もっと読む）

【課題】 塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材６上に塗布して塗膜７を形成し、この塗膜７上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマＰ化させ、このプラズマＰを塗膜７に照射して塗膜７を改質することにより、基材６上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
透明性と導電性に優れた透明導電膜を、スクリーン印刷法、ワイヤーバーコート法などの低コストかつ簡便な膜形成法を使用することで形成できる透明導電膜形成用ペーストを提供する。
【解決手段】
透明導電膜形成用ペーストを、アセチルアセトンインジウム、アセチルアセトン錫、セルロース誘導体を、アルキルフェノ−ル及び／又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジル、アセチルアセトン中で加熱溶解することで取得するに際して、アセチルアセトンインジウムとアセチルアセトン錫の合計含有量を１〜３０重量％、セルロース誘導体の含有量を５重量％以下、アセチルアセトンの含有量を０．５〜１０重量％未満とする。このペーストを基板上に塗布、乾燥した後、４００℃以上の温度で焼成することにより所望のＩＴＯ透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

成膜装置は、２２０ｃｍ²以上の面積を有する下地（１）上にＣＶＤによって透明導電膜を堆積するための成膜室（３）と、有機金属蒸気を含む第１のガスを輸送する第１のガス管と、酸化剤蒸気を含む第２のガスを輸送する第２のガス管と、第１と第２のガス管を結合させて第１と第２のガスを混合するためのガス混合空間（１２）と、そのガス混合空間おいて混合された反応ガスを成膜室内へ導入するガス導入手段（１０）と、成膜室から排ガスを排出するための排気装置（６）とを含む。 （もっと読む）

高い電気伝導率を有する導電性ポリアニリン成形体を与える導電性ポリアニリン組成物及びポリアニリンの非導電性塩基状態を経ずに導電性ポリアニリン組成物を製造する方法。
実質的に水と混和しない有機溶剤に溶解している、（ａ）プロトネーションされた置換又は未置換ポリアニリン複合体、及び（ｂ）フェノール性水酸基を有する化合物を含む導電性ポリアニリン組成物；その製造方法；及びそれからなる成形体。 （もっと読む）

【課題】 良好な塗布性を示し、下地基材への影響が少なく、透明性、平滑性、導電性等に優れた塗膜を形成し得る導電性組成物を提供する。
【解決手段】 スルホン酸基及び／またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー、含窒素官能基及び末端疎水性基を有する水溶性高分子並びに溶剤を含んでなる導電性組成物。 （もっと読む）