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Fターム[5G323BB06]の内容

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Fターム[5G323BB06]に分類される特許

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【課題】表示装置あるいは太陽電池のいずれの半導体素子の製造工程において幅広く利用されている塑型もしくは表面加工工程において、処理工程数が少なく、簡便で選択精度に優れ、製造コストを削減できる塑型もしくは表面加工工程に使用できる水溶性ペーストを提供すること。
【解決手段】(A)水溶性高分子、(B)界面活性剤並びに(C)無機物微粒子及び有機物微粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する塑型または表面加工用水溶性ペースト組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】金属ナノ繊維を用いた透明導電膜を有する透明導電体であって、湿熱耐久性に優れた透明導電体を提供する。
【解決手段】透明基板と、その表面に形成された、金属ナノ繊維及びバインダ樹脂を含む透明導電膜を含む透明導電体であって、前記透明導電膜における金属ナノ繊維が、厚さ方向に濃度分布を有しており、且つ前記透明導電膜の前記透明基板と反対側の表面近傍における金属ナノ繊維濃度が、前記透明導電膜の前記透明基板との界面近傍における金属ナノ繊維濃度に比べて低いことを特徴とする透明導電体。 (もっと読む)


【課題】 欠陥の低減された超薄膜素子が得られる平坦性に優れた透明電極を提供することである。
【解決手段】 実施形態の透明電極は、透明基板(11)と、前記透明基板上に形成され、金属ナノワイヤーの三次元網目構造(20)を含む電極層(12)とを具備する。前記電極層は、表面の金属が反応して反応生成物が形成された金属ナノワイヤー(22)を含む第一の導電性領域(14)と、前記第一の導電性領域に隣接し、前記金属ナノワイヤー(21)の表面の金属が未反応で前記第一の導電性領域より導電性が高い光透過性の第二の導電性領域(13)とを含むこと特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の解決しようとする課題は、導電層のパターンが形成されていても、パターン同士の隙間を生じさせず、パターン同士の境界部を目立ち難くすることを可能とした透明導電性積層体およびその製造方法を提案するものである。
【解決手段】透明基板と、該透明基板の少なくとも一方の面に形成され外表面に凹部が成形されたハードコート層と、該凹部に形成された導電層とを有し、前記ハードコート層と前記導電層の屈折率の差が0.05以下であることを特徴とする透明導電性積層体である。 (もっと読む)


【課題】加熱処理によって透明導電体層が結晶化されている場合であっても、パターニングによって生じる段差を小さく抑えることができ、さらに、加熱処理において、剥がれ、発泡などの外観不具合を生じない粘着剤層付き透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】ベースポリマーとして、ガラス転移温度が0℃以下の(メタ)アクリル系重合体セグメント(A)、およびガラス転移温度が110℃以上の(メタ)アクリル系重合体セグメント(B1)またはスチレン系重合体セグメント(B2)、を有するブロック共重合体またはグラフト共重合体を含有する粘着剤を使用する。 (もっと読む)


【課題】加熱処理によって透明導電体層が結晶化されている場合であっても、パターニングによって生じる段差を小さく抑えることができ、さらに、加熱処理において、剥がれ、発泡などの外観不具合を生じない粘着剤層付き透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】粘着剤層として、(メタ)アクリル系ブロック共重合体(A)と架橋剤(B)とを含むものを使用する。(メタ)アクリル系ブロック共重合体(A)は、ガラス転移温度が異なる(メタ)アクリル系重合体セグメント(c)および(メタ)アクリル系重合体セグメント(d)を有するものとし、少なくとも一方の重合体セグメント中に、架橋性官能基(e)を有するモノマー単位を含むものとする。 (もっと読む)


【課題】基板上にZnOからなる透明導電膜を高効率で製造するZnO透明導電膜製造装置を提供する。
【解決手段】ZnO透明導電膜製造装置(100)は、真空状態に維持されたチャンバー(110)と、チャンバー(110)内を通過するように基板(50)を一方向(A)に搬送するとともに、任意の箇所において停止可能な基板搬送手段(120)と、チャンバー(100)内に配置されたシャワーヘッド(130)と、を備える。シャワーヘッド(130) は、第一の流路と、第一の流路の周囲に形成された第二の流路と、第一の流路及び前記第二の流路を加熱する加熱手段と、を備え、第一の流路及び第二の流路の一方からはDEZnの気体が、他方からは水蒸気が基板に対して噴霧される。 (もっと読む)


【課題】タッチパネル用構造体として適用された際に透明導電膜の存在に起因して表示装置の視野が妨害される弊害を解消した透明導電膜構造体とその製法等を提供する。
【解決手段】透明基板とこの基板上に設けられた回路パターン形状を有する透明導電膜とで構成される透明導電膜構造体であって、透明導電膜の外縁近傍領域に、透明導電膜を貫通すると共に上記外縁と平行に設けられた複数のスリット群と非スリット群とで構成された屈折率緩衝部を有し、この屈折率緩衝部はその幅方向に亘って上記外縁と平行でかつ幅寸法が互いに同一の単位領域により区画されており、屈折率緩衝部における単位領域の屈折率が、透明基板と略同一の屈折率を有する最外側の単位領域から透明導電膜と略同一の屈折率を有する最内側の単位領域に向かって連続的に変化していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導電性に優れた導電性基材をより簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】
仮支持体と、該仮支持体に設けられた、金属銀部を含む導電層とを備えた導電性フイルムから、該導電層を基材に転写することを含む導電性基材の製造方法であって、
該金属銀部は、ハロゲン化銀及びバインダーを含有する銀塩含有乳剤層を露光し、現像処理することによって形成されたものであり、
該導電性フイルムと該基材とを、該導電性フイルムの該仮支持体が外側となるように張り合わせる工程、及び
該導電層から該仮支持体を剥離する工程
を含む、製造方法。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性を有する導電性高分子膜を形成できるモノマー溶液の製造方法、導電性高分子膜の形成方法及び導電性基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性高分子を形成するためのモノマー溶液の製造方法であって、p−トルエンスルホン酸の金属塩化合物の水和物を含む酸化剤を加熱して脱水する脱水工程と、脱水工程で脱水された酸化剤と、導電性高分子を形成する原料モノマーと、溶媒とを混合してモノマー溶液を得る混合工程とを含むモノマー溶液の製造方法。 (もっと読む)


【課題】導電性無機ナノワイヤーの使用量を抑え、抵抗値のばらつきを抑制し、透明性に優れた導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも片面に、直径1〜100nm、且つアスペクト比が100〜5000である導電性無機ナノワイヤー(A)を含む導電層が積層された導電性フィルムであって、前記導電性無機ナノワイヤー(A)が前記導電層の平面内に占める面積の割合が5〜30%、且つ前記導電層の表面抵抗値が1.0×10〜1.0×10Ω/□であり、長手方向の表面抵抗値のばらつきが0.1〜10%である導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板2上に、金属を含有する細線電極3と導電性ポリマー含有層4とが形成され、該細線電極3が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板2上に付与した後、該導電性インクの焼成温度T(℃)より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度S(℃)よりも高い温度T(℃)でS(分)加熱された後に、焼成温度T(℃)でS(分)加熱され、かつ該焼成温度T(℃)と該溶剤の揮発温度よりも高い温度T(℃)との差が、200℃>T−T>50℃の関係を満たす透明導電性基板1を形成する。 (もっと読む)


【課題】量産性に優れる転写シートの提供およびその製造方法の提供にある。
【解決手段】平滑性を備える基体シート2と、前記基体シートの平滑性を反映するように基体シートの上に部分的又は全面に形成される金属薄膜層3と、前記金属薄膜層の上に形成されグラフェンを主成分とする透明導電膜層4と、前記透明導電膜層の一部上に形成される引き回し回路パターン層5と、を備える転写シート1。 (もっと読む)


【課題】量産性に優れる転写シートの提供およびその製造方法の提供にある。
【解決手段】グラフェンからなる透明導電膜層の作成において、平滑性があり触媒となる金属薄膜層を使用することにより、品質の良いグラフェンを作製するとともに、後の金属薄膜除去の工程が簡易となり、量産性のある転写シートおよびその製造方法を提供できる。 (もっと読む)


【課題】耐久性、防汚性、視認性向上効果、オリゴマー抑制効果に優れる透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】基材フィルムの一方の面に、シリカ層(A)と導電層とを基材フィルム側からこの順に有し、前記基材フィルムの前記シリカ層(A)を有する面とは反対面に、樹脂を含むハードコート層とシリカ層(B)とを基材フィルム側からこの順に有し、前記シリカ層(A)およびシリカ層(B)が、ケイ素、炭素および酸素を含む透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネル。 (もっと読む)


【課題】低コストで低抵抗化が実現可能であり、赤外領域においても透明性を有する電体基板、導電体基板の製造方法、デバイス、電子機器及び太陽電池パネルを提供すること。
【解決手段】基板と、基板上に設けられ、結晶構造におけるa軸長さが酸化スズ系材料と対応した物質からなり、結晶成長を制御するシード層と、シード層上に設けられ、酸化スズ系透明導電体の結晶からなる導電層とを備える。 (もっと読む)


【課題】導電パターン間の抵抗のばらつきが小さく、タッチパネル動作の安定性に優れた導電シートを提供する。
【解決手段】基体14上に金属細線15による導電パターン26及び端子配線パターン42を備え、前記導電パターン26の線幅が20μm以下である導電シート10の製造方法であって、前記基体14上に施された銀塩乳剤層36を有する感光材料を露光処理する露光工程と、露光後の前記銀塩乳剤層36を現像処理して、金属細線15からなる前記導電パターン26及び前記端子配線パターン42を一括形成する現像工程と、さらに、前記金属細線15の一部に抵抗調整の処理を施し、前記導電パターン26間の抵抗のばらつきを30%以下にする抵抗調整工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】導電パターンの位置を所望の位置からずらすことなく、三次元形状を有する導電パターン形成基板を製造できる方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板11と、絶縁基板11の上に設けられ、基体内に金属からなる網状部材が配置される導電部Cおよび基体内の網状部材が除去されることにより形成された空隙が配置される絶縁部Iを有する導電膜12とを備えた三次元形状を有する導電パターン形成基板10を製造する方法であって、絶縁基板11の上に、基体内に網状部材が配置される基礎膜aが少なくとも形成された成形用基板18を得る工程と、成形用基板18を三次元成形し、三次元形状基板20とする工程と、三次元形状基板20における基礎膜aにレーザ光Lを照射することによって空隙を形成し、導電膜12とする工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性と化学的耐久性及び近赤外領域の高透過性を有する透明導電膜の成膜を可能にする酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲット、および酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の酸化亜鉛系透明導電膜形成材料は、実質的に亜鉛、チタン、酸素および窒素からなる酸化物焼結体であって、原子数比でTi/(Zn+Ti)=0.02超0.1以下となるよう含有されている。 (もっと読む)


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