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Fターム[5H316DD03]の内容

流体圧力の制御 (4,764) | 目的 (699) | 過渡応答性の向上 (38)

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【課題】精密かつ高速に圧力制御を行なうことができる圧力制御装置を提供すること。
【解決手段】実施形態の圧力制御装置は、バルブと、前記バルブに接続されている軸部と、ソレノイド部と、マイクロメータ部と、制御部と、を備えている。前記ソレノイド部は、前記軸部をソレノイド駆動によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整し、前記マイクロメータ部は、前記軸部に着脱自在に取り付けられるとともに、前記軸部に取り付けられた場合には前記軸部をねじ機構によって軸方向に移動させることにより、前記軸部を介して前記バルブのゲート開度を調整する。前記制御部は、前記マイクロメータ部を用いて前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部に取り付け、前記ガス圧力を制御する際には、前記マイクロメータ部を前記軸部から取り外す。 (もっと読む)


【課題】 背圧室の容積を必要最小限として、一次圧及び流量などの過渡的な変動に対する応答性、二次圧安定性に優れたピストン式減圧弁を提供すること。
【解決手段】 ハウジング2内で軸線方向に摺動し、一次ポート3の弁座口10を閉鎖するシート部21を有するピストン20と、ピストン20によって仕切られた一次圧室6及び二次圧室8と、一次圧室6及び二次圧室8と連通するよう形成された弁室7と、二次圧室側からピストン20に嵌入されるロッド12とを備え、ピストン20は、ロッド12が嵌入される嵌入孔30と、嵌入孔30と一次圧室6とを連通させるように形成される連通孔32とを有し、嵌入孔30は、嵌入されるロッド12に面する部分に形成される凹状のシール溝36を有し、シール溝36に設けられるシール部材37によりロッド12とピストン20との間をシールすることによってピストン20内に形成される背圧室31を備える。 (もっと読む)


【課題】 小形で、出力ロッドを押し出す出力圧力を応答性良く制御できる小形押圧レギュレータを提供すること。
【解決手段】 内部空間17を有するシリンダブロック14と、前記内部空間17に配置されて圧力制御室17aを形成するダイアフラム18と、前記シリンダブロック14に往復直線運動可能に保持され、前記ダイアフラム18に連結される出力ロッド15と、を有するエアシリンダ部10と、前記エアシリンダ部10に連結されるものであって、前記圧力制御室17aの圧力を制御する圧力制御部30と、を有する。 (もっと読む)


【課題】基本機能を犠牲にすることなく、確実に、調節弁の開度制御の速応性や整定性などの制御性を向上させる。
【解決手段】供給電流Iが取り得る電流の範囲を複数の電流範囲に区分し、この電流範囲の区分毎に基本機能回路部7が実施する調節弁2の開度制御の制御形態(単ループ制御、二重ループ制御など)を定めたテーブルTB1をメモリ5に格納しておく。CPU4は、供給電流Iの実際値を検出し、基本機能回路部7に振り向けることが可能な余剰電流があるか否かを判断する。この場合、4mAを超える供給電流を余剰電流とみなし、その余剰電流を基本機能回路部7に配分するように、電流調整部8へ指令を送る。また、供給電流Iの区分に応じ、テーブルTB1に定められている制御形態で開度制御を実施するように、基本機能回路部7に指示する。 (もっと読む)


【課題】デジタル制御を採用したバルブ制御器であっても、従来のアナログ制御を使用している場合に近い応答性を実現することができる圧力制御装置を提供する。
【解決手段】流体が流れる流路5上に設けられた流体制御バルブ2と、前記流体の圧力を測定する圧力センサ3と、前記圧力センサ3で測定される圧力の測定値が、予め設定される設定値となるように前記流体制御バルブ2の開度を制御するバルブ制御器4と、を備え、前記バルブ制御器4が、入力される値に対して所定の演算を施して前記流体制御バルブ2の開度の操作量に関連する値を演算する操作量演算部41と、入力される値に対してデジタル制御により位相のずれを補償した値を出力する位相補償部42と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】ヒータを使用せずに真空容器内の圧力のアンダーシュートを防止する真空圧力制御装置を提供すること。
【解決手段】真空容器と真空ポンプとを接続する配管上であって開度を変化させることにより真空容器内の真空圧力を変化させ、弁座と当接又は離間するOリングを備える弁体とエア式シリンダを備えるパイロット式の真空比例開閉弁18と、真空容器内の真空圧力を計測する圧力センサ17と、圧力センサ17の圧力に基づいてOリングの弾性変形量を変化させ、Oリングからの漏れ量を変化させることにより真空容器内の圧力を制御するコントローラと56、を有する真空圧力制御装置8において、圧力センサ17により計測された真空容器内の圧力が一定以上の圧力下降率となったときに、エア式シリンダの内圧を排気する。 (もっと読む)


【課題】パイロット式の整圧器1において、良好な静特性を維持しつつ、動特性の改善を図る。
【解決手段】整圧器1は、供給路2上に介設された主ガバナ3、一次側調整路41上の絞り部43、66を含み、駆動圧を主ガバナ3の圧力感知室(第1室)33に供給する駆動圧供給機構、二次側調整路42上のパイロットガバナ5を含み、主ガバナ3の作動を制御する制御機構、及び、駆動圧供給機構の圧力降下に係る絞り特性を変更する絞り特性変更手段、を備える。絞り特性変更手段は、一次圧P1と駆動圧Pcとの差圧が所定値以上のときには、流量変化に対する圧力降下が相対的に小さい絞り特性にし、差圧が所定値よりも小さいときには、流量変化に対する圧力降下が相対的に大きい絞り特性にする。 (もっと読む)


【課題】 応答性、耐久性及び信頼性に優れ、安定した出力特性を得ることができる減圧弁を提供する。
【解決手段】 減圧弁1は、ハウジング2を備え、このハウジング2は、一次ポート17と二次ポート18とに繋がる弁通路19を有している。また、ハウジング2内には、弁体3が設けられており、この弁体3は、弁通路19を閉じる閉位置と弁通路19を開く開位置との間で移動して弁通路19の開度を調整可能になっている。また、弁体3は、二次圧pにより閉位置に向かって押されており、この二次圧pに抗して弁体3を開位置に向かって付勢するようにばね部材5が設けられている。更に、弁体3には、転がり軸受4が設けられ、この転がり軸受4によって弁体3が移動可能に支持されている。 (もっと読む)


【課題】現物サイズの大容量の圧油タンクを備えた圧油供給制御装置を用いて圧油確立訓練を実施する際に、個々の研修者が圧油確立訓練を修了するのに要する時間を大幅に短縮できる。
【解決手段】油槽3と、圧油タンク5と、圧油タンクと配管接続された小型圧油タンク7と、圧油タンクと小型圧油タンクとの間の油供給用配管に設置される油用バルブ11と、油槽から小型圧油タンクを経由して圧油タンクに油を供給するポンプ15と、を備え、小型圧油タンク内の油圧を高める場合には、油用バルブを開放することによって圧油タンク内の圧油を小型圧油タンク内に供給する。 (もっと読む)


【課題】下流側に流量変動が発生した場合においても、高応答かつ高精度に圧力制御を行うことができる圧力レギュレータを提供する。
【解決手段】圧力レギュレータ41は、サーボ弁11によって、気体供給源10から供給される気体の等温化圧力容器13への流入流量を規制し、等温化圧力容器13内の圧力を一定に保持する。ここで、サーボ弁11を操作する圧力制御手段(コンピュータ46)は、圧力計14で計測した等温化圧力容器13内の圧力をフィードバック制御する圧力制御系をメインループとし、その内側に、流入流量を制御する流入流量制御系を構成すると共に、圧力微分計15で計測した等温化圧力容器13内の圧力微分値に基づいて等温化圧力容器13における流入流量と流出流量との差である流入出流量差を推定するオブザーバを構成し、推定した流入出流量差を流入流量制御系にフィードバックするモデル追従制御系を構成する。 (もっと読む)


流体調整デバイスは、入口、出口、弁口を有する弁本体と、弁本体内でシフト可能な制御要素とを含む。制御アセンブリは、制御要素に連結されるアクチュエータを含み、ダイヤフラムチャンバに隣接して配置されるダイヤフラムを含む。検知管は、第1の端部、第2の端部、および中間部分を有し、第1の端部は、ダイヤフラムチャンバと連通するように位置付けられ、第2の端部は、出口に隣接して配置され、中間部分は、出口の中間部分に隣接して配置される。検知管は、肩部および広がり部分を含み、広がり部分は、第2の端部に隣接して配置される。 (もっと読む)


【課題】圧力制御応答性を向上させることができる真空圧力制御システムを提供すること。
【解決手段】真空比例開閉弁16の弁開度を調整して、反応室10内の真空圧力を目標圧力にフィードバック制御する真空圧力制御システムにおいて、反応室10内の真空圧力、または真空目標圧力からOリング49のリーク開始位置を算出し、その予圧圧力値をフィードバック制御の下限値とする。 (もっと読む)


【課題】乾式機械式一次ポンプと少なくとも1つの二次ポンプとからなるポンプユニットに配管によって接続された、排出物を含んでいるチャンバ内の圧力調整の範囲を増大させ、短い反応時間を得る。
【解決手段】乾式機械式一次ポンプ4と少なくとも1つの二次ポンプ5との両方の回転速度を同時に制御する速度調整器6を含む。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの巻き上げを低減し、圧力調整精度の向上及び調整時間の短縮化が図られたチャンバ圧力調整装置を提供する。
【解決手段】チャンバ22内のガスを吸引するポンプ42を備える構成とし、チャンバ22とガスポンプ42とを連通する連通管52に圧力調整ガスを導入し、ポンプ42による流量を一定として、圧力調整ガスの導入量を制御することで、チャンバ22内の圧力調整を行う。チャンバ22内にガスを供給することなく、チャンバ22内のガスを吸引する構成であるため、チャンバ22内における気流の発生を抑えることができ、パーティクルの巻き上げを防止することができる。また、ポンプ42による流量を一定としているため、ポンプ42の回転数制御を行う必要が無く、圧力調整ガスの導入量を調整することで、圧力調整精度を向上させ、圧力調整時間の短縮が図られる。 (もっと読む)


【課題】圧力制御応答性を向上させることができる真空圧力制御システムを提供すること。
【解決手段】真空比例開閉弁16の弁開度を調整して、反応室10内の真空圧力を目標圧力にフィードバック制御する真空圧力制御システムにおいて、反応室10内の真空圧力、または真空目標圧力から予圧圧力値(Oリング49のリーク開始位置)を算出し、その予圧圧力値をフィードバック制御の下限値とする。 (もっと読む)


【課題】チャタリング現象を防止できる真空弁制御装置を提供する。
【解決手段】液体の液位変動によって真空弁を開閉させる真空弁制御装置2である。
そして、液位変動を検知する検知管内の圧力変動によって弾性変形する検知ダイヤフラム22が配置される検知空間23と、検知ダイヤフラム22の弾性変形に伴うプランジャ24の移動によって開閉される検知弁25と、検知弁25が開閉されて導入される真空圧によって弾性変形する切替ダイヤフラム26が配置される切替空間27と、切替ダイヤフラム26の弾性変形に伴って移動されて真空弁に真空圧又は大気圧を選択的に導入する切替弁28と、を備えるとともに、検知空間23と切替空間27とは連通されないで分離される。 (もっと読む)


フロー制御弁は、流体入口、流体出口、第1作業ポート及び第2作業ポートを包含するハウジングを含む。ハウジングは、スプール孔及びパイロットスプール孔を形成する。主段階用スプールはスプール孔に配置される。パイロット段階用スプールは前記パイロットスプール孔に配置される。パイロット段階用スプールは、主段階用スプールと選択的に流体連通されている。マイクロプロッセサは、制限され構造化された制御器及び補償制御器を持つ制御器を含む。制限され構造化された制御器及び補償制御器の出力は合計され、パイロット段階用スプールに通信される電気信号を形成する。 (もっと読む)


ガス調整器は、アクチュエータ、レギュレータバルブ、および圧力負荷装置を備える。圧力負荷装置は、ダイヤフラムの反対側表面に印加されレギュレータにより制御される下流側圧力に対抗するために、アクチュエータのダイヤフラムの表面に圧力負荷を提供する。下流側圧力を調整するために、下流側圧力が変化しダイヤフラムが制御要素を動かすようにずれても、圧力負荷装置は特定の負荷圧力を維持する。レギュレータは、制御要素にかかる上流側圧力の力を打ち消すために、バランス力を印加するバランストリムをさらに備えてもよい。
(もっと読む)


【課題】メンテナンスを容易に行うことができる止水栓装置を提供する。
【解決手段】流入口34bが形成された止水栓装置本体20と、止水栓装置本体20内に螺合された第1回転軸部材46と、第1回転軸部材46に取り付けられ、第1回転軸部材46が回転されると、軸方向に移動され、流入口34bを開閉する弁部材56とを備えた止水弁ユニット2aと、止水栓装置本体20内の止水弁ユニット2aの下流側に配置され、第1回転軸部材46と同軸に延びかつその一方の端に第1回転軸部材46の端部と係合可能な係合端が形成された第2回転軸部材48と、第2回転軸部材48の他方の端に取り付けられ、回転操作することにより第1回転軸部材46を回転させる操作部48cとを備え、止水栓装置本体20に組み込まれた調圧弁ユニット2bとを有し、調圧弁ユニット2bは、弁部材56が流入口34bを閉鎖したままの状態で止水栓装置本体20から取り外し可能である。 (もっと読む)


【課題】流量制御機器が流量制御を開始した直後から流量特性を検定することができる流量検定システムを提供すること。
【解決手段】第1遮断弁7Aと、第1遮断弁7Aの下流側に配置された流量制御機器8Aと、流量制御機器8Aの下流側の圧力を測定する圧力センサ12とを有するガス配管系の流量を、圧力センサ12が測定した圧力に基づいて検定する流量検定システム16において、流量制御機器8Aの正常時に圧力センサ12が測定する圧力を積算した標準値を記憶する標準値記憶手段27と、第1遮断弁7Aを介して流量制御機器8Aに供給され、流量制御機器8Aに流量を制御されたプロセスガスを、圧力センサ12に供給したときに、圧力センサ12が測定する圧力を積算して圧力積算値を算出し、圧力積算値を標準値と比較して、流量の異常を検知する異常検知手段14と、を有する。 (もっと読む)


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