エトキシスルホスクシネート界面活性剤と両性界面活性剤との組合せを基剤とし、極めて低刺激性でありながら使用特性および経済性は低下しない頭髪および皮膚の洗浄組成物が記載されている。長鎖アルキルエトキシスルホスクシネートと中鎖アルキルエトキシスルホスクシネートとの混合物を使用し、長鎖成分が中鎖成分の全重量を基準として約０．１％−約６％のレベルで組成物中に存在するのが望ましいことが知見された。 （もっと読む）

ベタイングリシンのエステル基またはアミド基よりなる界面活性剤複合体であって、グリシンベタインとスルホン酸およびアルコールまたは植物油から抽出された脂肪酸アミンを反応させて精製するものである。さらに、界面活性剤複合体を含む美容用品であって、特に、液体石鹸、バスフォーム、シャワージェルまたはシャンプーに係るものである。 （もっと読む）

本発明は、基体上に紫外線に対する保護を提供する残留堆積物を残す棒状固形合成石鹸に関するもので、(a) HLBが15を超える非乳化性界面活性剤、(b) 重量で10%超過〜約25%の赤色ワセリン、および (c) 少なくとも1つの表面処理済み金属酸化物日焼け止め剤で構成される。任意に、本発明の組成には、(d) log Pの値が約4.0を超える少なくとも1つの湿潤剤や、(e) log Pの値が約4.0を超える有機日焼け止め剤を含めることもできる （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容可能な媒体中に、メクイノールおよび少なくとも1つの不飽和脂肪酸を含む皮膚用色素除去組成物、ならびにその医薬的または美容的使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、生理学的に許容される媒体中に、少なくとも1の水性相、少なくとも1の保存料、及び制限されたコンフォメーションを有する少なくとも1のロッドポリマー状ブロック構造に共有結合された、可変のコンフォメーションを有する、少なくとも1のコイルポリマー状ブロック構造を含む、ロッド−コイルタイプの少なくとも1のブロックコポリマーを含む化粧料組成物。 （もっと読む）

１，２‐ジオールおよびフェノキシエタノールの規定の混合物であって、細菌、真菌およびカビ胞子に対して広い活性を示す、抗菌性組成物について本願明細書で記載されている。この活性は少量の共殺菌剤を該組成物へ添加することによって増強され、該混合物は、別の方法では水に不溶性の共殺菌剤を供給するシステムとして作用する。 （もっと読む）

本発明は、式Ｉの一クラスの４−シアノ−フェノキシ誘導体、およびそのアンドロゲン受容体モジュレーターとしての使用を対象とする。本発明の他の態様は、過剰な皮脂分泌を減少させ、毛髪の成長を刺激するためのこれら化合物の使用を対象とする。
【化１】

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本発明は、界面活性剤又は界面活性剤の混合物を含有する界面活性剤構成成分を含有する低刺激性ボディウォッシュ組成物であって、前記低刺激性ボディウォッシュ組成物は少なくとも約７０％の構造化ドメイン体積比を有し、及び該界面活性剤構成成分は少なくとも約６００ｍＬの総起泡体積を与える、低刺激性ボディウォッシュ組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】脱毛の患者における美容的に許容できる、発毛のより高い比率を生み出す能力を有する化合物の提供。
【解決手段】４−オキソ−ベンゾニトリルの新規クラス、アンドロゲンモジュレーターとしてのそれらの使用、及び脱毛の治療におけるそれらの使用。 （もっと読む）

治療用すすぎ剤、特に口内すすぎ剤類を包含する口腔ケア組成物類、及び有意に増強された抗菌活性を提供し、それによって口腔の細菌を低減し及び全体的口腔衛生を促進するための使用が開示されている。本発明の組成物は、生物学的利用可能な濃度が増大された陽イオン性抗菌剤類、特に塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）のような第四級アンモニウム化合物類を供給するために配合され、並びに歯垢、虫歯、歯肉炎、歯周病及び息の悪臭を包含する口腔の疾患又は症状の予防又は治療に有用である。本発明の組成物は、陰イオン性、非イオン性又は両性界面活性剤類（これらは第四級アンモニウム化合物の生物学的利用能に、及びしたがってその抗菌効力に、マイナスの影響があることが見出された）を本質的に含まないように処方される。 （もっと読む）