【課題】太陽電池に用いられる薄膜シリコンを成膜するためのプラズマＣＶＤ装置から排出される排ガスを処理する装置を小型化する技術を提供する。
【解決手段】太陽電池製造装置２０から排出された混合ガスをポンプ１２を用いてフィルタ部３０に送出し、フィルタ部３０で高次シランを除去した後、膜分離を利用した分離部４０を用いて混合ガスを水素とモノシランとに分離する。分離されたモノシランは、シランガス除害部５０により除害される。また、分離された水素は、水素ガス排気部６０により大気に放出される。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体製造装置から排出される排ガスを処理する装置や工程を簡略化する。
【解決手段】排ガス処理装置１０は、複数の半導体製造装置２０から排出される排ガスを処理する排ガス処理装置１０であって、複数の半導体製造装置２０から排出されるそれぞれの排ガスを集めて混合し収容するガス収容部４０と、ガス収容部４０で混合された混合ガスを希釈ガスで希釈する希釈部５０と、混合ガスを除害する除害部５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】シラン系ガスを含む処理対象ガスの加熱分解によって生じたシリカが融解することによる閉塞を回避できる熱処理炉およびこれを用いた排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理炉１２を、内部に高温の排ガス処理空間２０ｅを有する炉本体２０と、排ガス処理空間２０ｅに少なくともシラン系ガスを含む処理対象ガスＦを供給する処理対象ガス供給手段２２と、排ガス処理空間２０ｅに、処理対象ガスＦの熱分解に必要な空気に加えて、排ガス処理空間２０ｅの温度をシリカの融点以下にする温度調節用の空気を供給する空気供給手段２４とで構成することにより、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

流体流から酸性ガスを除去するための吸収剤は、Ａ）第三級アミン基及び／又は立体障害した第二級アミン基のみを有する、少なくとも１の環式アミン化合物、及びＢ）少なくとも１の立体障害していない第二級アミン基を有する、少なくとも１の環式アミン化合物の溶液を含む。この吸収剤は、例えば、Ａ）１−ヒドロキシエチルピペリジン及び／又はトリエチレンジアミン及びＢ）ピペラジンの水溶液を含む。この吸収剤は、特に、煙道ガスからの二酸化炭素の分離のために適しており、かつ、次の基準を満たす：（ｉ）低いＣＯ₂分圧での十分な収容能；（ｉｉ）低いＣＯ₂分圧での十分に迅速な吸収率；（ｉｉｉ）酸素に対する安定性：（ｉｖ）溶媒損失の減少のための低い蒸気圧：及び（ｖ）吸収剤の再生のための低いエネルギー要求。
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【課題】接触したガスに応じて構造を変化させてガスを吸着分離することが可能な成形体を提供する。
【解決手段】柔軟性結晶性の相互嵌合性構造を有し、親和性を有するガスの非存在下における第１の構造と、親和性を有するガスの存在下での当該ガスに対して高い親和性を有する第２の構造をとり得ることを特徴とする、金属イオン、芳香族多価カルボン酸配位子及び窒素原子またはリン原子を含有する芳香族二価配位子から構成される有機金属錯体を含むガス分離用成形体。 （もっと読む）

排出物の削減に関するシステム及び方法を提供する。本発明の態様は、削減システムを高レベル設定で起動するステップと、望ましくない物質を含む排出物を削減システムにおいて受け取るステップと、削減システムを高レベル設定で使用して望ましくない物質を削減するステップと、排出物に関する情報を受け取るステップと、情報を分析して最適な設定を決定するステップと、高レベル設定を最適な設定に調整するステップと、より多くの望ましくない物質を含むより多くの排出物を受け取って、その後これを減衰させることができるステップとを含むことができる。最適な設定は、選択する設定効率に対応する。他にも数多くの態様を提供する。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置から排出される排ガス中に酸素や水分が含まれている場合に、排ガス処理装置に酸素や水分が流入することを抑制しながら排ガスを処理することができる排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】 半導体製造装置８０から排出される排ガス中から酸素と水分の少なくとも一方を除去する除去装置３０と、除去装置３０通過後の排ガスを処理する排ガス処理装置２０を備える半導体製造装置８０の排ガス処理システム１０。 （もっと読む）

【課題】手作業でミキサを洗浄しなければならないという手間を省くことが可能なガス処理装置を提供すること。
【解決手段】処理水を貯めるようにされた処理槽と、処理槽の内側で先端部が処理水に浸る位置に配置されるミキサと、特定のガスをミキサへ導入する第１の導入管と、乾燥ガスをミキサへ導入する第２の導入管と、生成物を除去する洗浄水をミキサへ導入する第３の導入管と、第１の導入管を開閉する第１のバルブと、第２の導入管を開閉する第２のバルブと、第３の導入管を開閉する第３のバルブと、水位低下手段と、洗浄動作開始信号が入力されると第１のバルブを閉じさせるとともに水位低下手段に処理水の水位をミキサの先端部が浸らない水位以下に下げさせ、生成物を乾燥させるのに必要な時間第２のバルブのみを開けさせて乾燥ガスをミキサへ導入させ、第２のバルブを閉じさせるとともに第３のバルブを開かせて洗浄水をミキサへ導入させる制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造にて昇華物除去部材の汚染状態を正確に検知することができる排気ガス処理装置を提供する。
【解決手段】第１の筐体１１の内部に、熱処理炉Ｘから排出される高温の排気ガスを透過させて、当該排気ガス中の昇華物を捕集するフィルタ層２ａを設けた。前記昇華物を付着させるゲージ５を、前記第１の筐体１１の内部に引き抜き可能に導入した。 （もっと読む）

ガス洗浄装置及びガス洗浄方法が提供される。本発明によるガス洗浄装置は、 反応ガスが流入される反応管と、反応管と連結され、流入された反応ガスをプラズマ化させる反応器と、反応器内のプラズマに水を注入するための水注入部とを備え、別途のヒーターを使用せず、プラズマの熱源を利用して水を蒸気化させるため、非常に経済的なガス洗浄が可能である。さらに、プラズマ化した反応ガスが排出される最適の領域で水を直接蒸気化させて反応ガスを洗浄するため、ガス洗浄の効率も向上する。
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