国際特許分類[B01J8/24]の内容
処理操作;運輸 (1,245,546) | 物理的または化学的方法または装置一般 (124,790) | 化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置 (50,456) | 流体および固体粒子の存在下で行なう,化学的または物理的プロセス一般;このようなプロセス用装置 (665) | 流動化粒子によるもの (236) | 流動床技術によるもの (177)
国際特許分類[B01J8/24]の下位に属する分類
2以上の流動床を有するもの,例.反応器および再生装置 (24)
2種類以上の流動粒子を有する流動化床への導入によるもの (2)
流動床の固定充填材料に関するもの,例.レンガ,ワイヤリング,そらせ板 (4)
粒子の本質的に水平な流れを有する流動床を有するもの
回転装置を含むかまたは回転を受ける流動床によるもの (14)
振動または脈動を受けた流動床によるもの (3)
電流または放射を受けた流動床によるもの (7)
流動化分散部材 (5)
無端のフィラメント状,帯状,またはシート状材料の処理用
国際特許分類[B01J8/24]に分類される特許
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粒状固形物の熱処理方法およびプラント
本発明は、マイクロ波放射をマイクロ波供給源(2)から流動層反応炉(1)へ供給する、反応炉(1)における粒状固形物の熱処理方法、および対応するプラントに関するものである。エネルギーの利用およびマイクロ波放射の導入を改善するため、第1のガスまたはガス混合物を好ましい中央ガス供給管(3)を通して下方から、反応炉の混合室(7)へ導入し、ガス供給管(3)の少なくとも一部を、流動用ガスを供給することにより流動化される固定環状流動層(8)によって包囲している。マイクロ波放射は、混合室(7)へ同ガス供給管(3)を通して供給される。
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流動層の粒状固体の熱処理方法およびプラント
本発明は、少なくとも一つの導波管(5)を通して流動層炉(1、1a)にマイクロ波を放射する、流動層炉(1、1a)に位置した流動層(3、3a)における粒状固体の熱処理方法および対応するプラントに関する。マイクロ波の放射効率を向上させるために、マイクロ波の放射角を流動層炉(1、1a)の主軸(11)に対して10度から50度、とくに10度から20度の角度に傾ける。
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微粒固体運搬方法および設備
本発明は、流動層反応炉内の微粒固体の運搬方法と、これに相当する設備とに関するものである。第1のガスまたは混合ガスは、中央管(3)を通して下方から反応炉(1)の混合チャンバ(7)に注入され、この中央管(3)は、流動化用ガスが供給されることで流動化する固定環状流動層(10)によって、少なくとも部分的に包囲されている。第1のガスまたは混合ガスのガス速度と、環状流動層(10)の流動化用ガス速度とが調整されることによって、粒子フルード数は中央管(3)では1〜100になり、環状流動層(10)では0.02〜2になり、混合チャンバ(7)では0.3〜30になる。
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粒状固体の熱処理方法およびプラント
この発明は、渦流チャンバ(4)を有しとくにフラッシュ炉またはサスペンション炉を構成する炉(1)の粒状固体の熱処理方法に関し、マイクロ波源(2)からのマイクロ波を、導波管を通して炉(1)に放射し、さらにこの発明は、対応するプラントに関する。導波管の堆積物を避けるために、同じ導波管がガス供給管(3)を構成し、ガス流がさらに、ガス供給管(3)を通して渦流チャンバ(4)に供給される。
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微細粒状化固形物の熱処理方法およびプラント
本発明は、流動層反応炉(1)で石膏などの微細粒状化固体を50ないし1000℃に加熱する固形物の熱処理方法、およびこれに用いるプラントに関するものである。エネルギー利用効率を改善するため、第1ガスまたはガス混合物を、好ましくは中央のガス供給管(3)を通して下方から、反応炉(1)の混合チャンバ(21)へ導入し、ガス供給管(3)は、少なくとも一部が、流動化ガスを供給することにより流動化する固定式環状流動層(2)に包囲されている。第1ガスまたはガス混合物、ならびに環状流動層(2)用の流動化ガスの流速を調整して、粒子フルード数を、ガス供給管(3)においては1ないし100の間、環状流動層(2)においては0.02ないし2の間、混合チャンバ(21)においては0.3ないし30の間にする。
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排ガスからのガス状汚染物質除去方法および設備
本発明は、流動層(2)内で固体を生成することで微粒反応物質と反応するガス状汚染物質を排ガスから除去する方法およびそれに対応する設備に関するものである。反応物質のほぼ化学量論的消費によって、クリーンガス中の汚染物質を低濃度にするために、排ガスを下方から好ましくは中央ガス供給管(20)を介して反応炉(2)の混合チャンバ(21)に注入する。ガス供給管(20)は、反応炉の流動化用ガスが供給されることで流動化する反応物質から成る固定環状流動層(22)によって、少なくとも部分的に包囲されている。排ガスのガス速度と環状流動層(22)の流動化用ガスの速度とを調整することによって、ガス供給管(20)における粒子フルード数を1〜100とし、環状流動層(22)では0.02〜2とし、混合チャンバ(21)では0.3〜30とする。
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反応炉における処理条件の制御方法およびプラント
本発明は、とくに粒状材料が投入され、粒状材料が搬送ライン(14)を通して運ばれるプラントの反応炉(1)における処理条件、とくに温度を制御する方法に関する。反応炉内の処理条件をできるだけ一定に保持するために、搬送ライン(14)で運ばれる材料量を決定し、これを処理条件、とくに温度を制御するための制御変数および/または外乱変数として用いる。また、この方法を行なうためのプラントを説明する。
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粉粒体の流動循環装置
【課題】 流動容器内で、粉粒体の容器中央部への指向性を高めると共に、粉粒体を排出したときに、排出口周りの通気部材上に粉粒体が残ることを防止する。
【解決手段】 流動容器10の底壁に形成した排出口15の周りに、通気性を有するとともに粉粒体の通過を阻止する通気部材18を、排出口15から離れるに従って上方に移行するように傾斜して設け、排出口15の上方に筒状の上昇管29を起立状態で設け、通気部材18と上昇管29とに下方から送気する送気手段12を設け、送気手段12によって流動容器10内の粉粒体を流動化させるとともに、上昇管29内で粉粒体を上昇させ、上昇管29の上端開口から噴出した粉粒体を下降させることで、粉粒体を循環させるようにする。そして、通気部材18を、排出口に近い部分で急傾斜とし、排出口から離れた部分で緩傾斜とする。
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粒体流動層高検知装置
【課題】 簡便で確実に粉体流動層高を検知しうる手段を提供することにある。
【解決手段】 上記課題は、櫂形攪拌翼を備えた粉体攪拌流動装置において、該攪拌翼に取着されたチルト式スイッチよりなる粉体流動層高検知装置によって解決される。
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流れを角度付けして分配する底部ヘッド
流動床の重合反応において流れを角度付けして分配するための、改善された、角度付けされた、環状のデフレクターが提供される。角度付けされた環状のデフレクターは、切頭円錐形状の外側表面と、両端位置で開放され、中心軸線に沿った内側のキャビティとを有している。角度付けされた環状のデフレクターは、流動床の重合反応器の円錐形状の底部と関連付けされるようになっており、前記底部と関連付けされると角度付けされた環状のデフレクターの外側表面は、前記円錐形状の底部の内壁と実質的に平行に角度付けされる。この組み合わせにより、流体流れは最適化される。
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