【課題】熱サイクルナノインプリント リソグラフィによるパターン形成に要する時間を短縮する。
【解決手段】硬化性を有するケイ素化合物と酸発生剤を含むナノインプリント用組成物３０を基板２０に塗布して膜を形成し、ＵＶ照射により当該膜中に酸を発生させ、当該膜にローラ５０を押圧し、ローラ５０によって膜が押圧されている間に、ケイ素化合物の熱硬化温度以上に膜を加熱し、ローラ５０を剥離し、硬化パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】インプリント処理に際し、基板上に予め存在するパターンと、新たに形成される樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、第１波長と、特定の波長帯域に存在する第１波長以外の第２波長とを含む光９を受光し、第１波長の光と第２波長の光とに分離する光学素子２１を含み、パターンを形成すべき基板１０上の領域に予め存在する基板側パターン２０を加熱させる基板加熱機構６と、パターンを形成するに際し、基板加熱機構６により、光学素子２１にて分離された第２波長の光を用いて基板側パターン２０を熱変形させることで、型８に形成されているパターン部８ａの形状に対し、基板側パターン２０の形状を補正させる制御部７とを備える。ここで、樹脂１４は、特定の波長帯域に存在する第１波長の光を受光することで硬化する光硬化性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面の転写パターン形成領域に成膜ガスを供給して離型膜を形成するにあたり、テンプレートの側面及び裏面に前記離型膜が形成されることを防ぐ技術を提供すること。
【解決手段】転写パターン形成領域に、局所的に前記成膜ガスを供給して前記離型膜を形成するための成膜ガス供給部と、前記転写パターン形成領域の周囲に形成される外側領域に前記転写パターン形成領域の外周に沿ってパージ用流体を供給するパージ用流体供給部と、前記外側領域において前記パージ用流体が供給される領域の内側を前記転写パターン形成領域の外周に沿って排気して、外側領域を転写パターン形成領域に向かう前記パージ用流体と、転写パターン形成領域からテンプレートの側面へ向かう前記余剰の成膜ガスとを除去するための排気部と、を備えるように装置を構成してガスの側面への回りこみを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面に凹部を有する場合においても、ドライエッチング加工における面内のエッチングレートを制御し、パターン精度に優れたテンプレートの製造装置及びテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、真空容器と、電極と、調整体と、を含むテンプレートの製造装置が提供される。前記真空容器は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能とされている。前記真空容器は、反応性ガスの導入口と排気口とを有する。前記電極は、前記真空容器の内部に設けられ、高周波電圧が印加される。前記調整体は、絶縁体を主成分とする。前記調整体は、前記電極の上に載置される基板の前記電極の側の面に設けられた凹部に挿入される。 （もっと読む）

【課題】 エッチングマスクの耐性を向上させ、エッチングマスクの存在により形成される凹部の被エッチング箇所寸法が２５ｎｍ以下、特に２０ｎｍ以下であっても当該箇所のエッチング加工が可能となるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 第１マスクおよび当該第１マスクの存在により形成された難侵入性凹部を有する基材を準備する工程と、第１マスクが形成された側から物理蒸着法により、第１マスクよりも高いエッチング耐性を有する第２マスク形成用材料を第１マスクの頂上表面全体と前記難侵入性凹部の側面に周状に堆積させて、一連の膜からなる第２マスクを形成する工程と、第１マスクおよび第２マスクを介して前記基材をエッチングする工程と、を含み、難侵入性凹部の寸法は、基材の主面に対して垂直に物理蒸着法により前記第２マスク形成用材料を堆積させようとしたときに、第２マスク形成用材料が凹部の底面に実質的に到達できない大きさに設定される。 （もっと読む）

【課題】真空（減圧）条件の下で熱転写成形を行う成形装置に要する設備経費を圧縮し、連続的な生産を可能とすることにより時間当たりの生産性の向上も実現できる熱転写成形装置を提供する。
【解決手段】被加工材を減圧して搬送する搬送成形ユニット１０と、搬送成形ユニット内の被加工材を補助加熱する補助加熱部３０と、搬送成形ユニットを挟持して補助加熱部よりも高圧力により被加工材を加熱成形する加圧熱成形部４０と、搬送成形ユニット内の被加工材を冷却する加圧冷却部５０と、搬送成形ユニットを挟持して加圧冷却部よりも低圧力により被加工材を補助冷却する補助冷却部６０と、搬送成形ユニットの脱気部を通じて内部を減圧し補助加熱部に向けて搬出する搬出部７０と、補助冷却部から搬送成形ユニットを受け入れてその分離を行う搬入部８０と、接続部１１０を備え搬送成形ユニットを各部の配置順に搬送し所定位置に載置する搬送装置１００を有する。 （もっと読む）

【課題】複雑な構造で、高精確性を有し、且つ生産コストが低い三次元ナノ構造体アレイ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の三次元ナノ構造体アレイは基板と複数の三次元ナノ構造体と、を含む。前記複数の三次元ナノ構造体は、アレイ形式によって、基板の少なくとも一つの表面に設置され、前記三次元ナノ構造体は、第一突部と第二突部を含み、前記第一突部と第二突部とは接触して並列し、隣接する前記第一突部と第二突部との間には、第一溝が形成され、隣接する前記三次元ナノ構造体の間には、第二溝が形成され、前記第二溝の深度は第一溝より深い。 （もっと読む）

【課題】低反射特性に優れた表面微細構造を成型する。
【解決手段】原版の基板材料として、ニオブ酸リチウム単結晶基板４１を用い、この基板４１の表面上に、ドライエッチング用のマスクとしてＣｒなどの金属薄膜４２を成膜してこの上に樹脂微細パターン４４を生成し、これをマスクとしてエッチングを行って、金属微細パターン４５を得る。この金属微細パターン４５をマスクとして金属微細パターン４５を収縮しながら、ニオブ酸リチウム単結晶基板４１をエッチングすることで、微細構造中に平坦な面の殆ど存在しない構造を生成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 （もっと読む）