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国際特許分類[B81C3/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | マイクロ構造技術 (6,196) | マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置 (1,969) | 個別に処理された構成部品からの,装置またはシステムの組立 (639)

国際特許分類[B81C3/00]に分類される特許

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【課題】高感度化、製造効率の改善、低コスト化、高信頼性化の少なくとも1つを実現した機能素子、機能素子の製造方法、物理量センサー、および、この物理量センサーを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の機能素子1は、絶縁基板2と、可動部33と、可動部33に設けられた可動電極指361〜365と、絶縁基板2上に設けられ、且つ、可動電極指361〜365に対向して配置された固定電極指381〜388と、を含み、固定電極指381〜388は、可動電極指361〜365の一方の側に配置された第1固定電極指382、384、386、388と、他方の側に配置された第2固定電極指381、383、385、387と、を含み、第1固定電極指と第2固定電極指とは、互いに離間して配置されている。 (もっと読む)


【課題】マイクロチップの接合力と、マイクロチップの形状の維持とを両立することのできるマイクロチップの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に流路用溝を有する樹脂製の基板と、流路用溝をカバーする樹脂製のカバー部材と、が熱接合されたマイクロチップの製造方法において、基板の表面から所定の深さより深い内部領域の密度、又は基板の表面から前記所定の深さ以内の表面領域の密度を均一にする処理工程を有する。 (もっと読む)


【課題】MEMS素子への応力を緩和しながらMEMSデバイスのパッケージ全体の厚さを低背化できるMEMSデバイス、その製造方法、及びそれを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面側に第1電極部を有する基板102と、基板の第1電極部108aが配置された側に配置された制御素子であるIC110と、可動部133と、基板の第1電極部に対向し、可動部の変位を検出又は制御するための電極パッド136とを備え、電極パッドを露出させて制御素子上に配置されたMEMS素子と、基板の第1電極部とMEMS素子の電極パッドとを電気的に接続する接続部材142と、を具備し、可動部は、制御素子に覆われたMEMSデバイス。 (もっと読む)


【課題】保護カバーウェーハを破損させることなく、容易に保護カバー付きデバイスを製造する。
【解決手段】ボンディングパッド13に隣接したデバイス中央側に対応する保護カバーウェーハ上の領域に溝22を形成するとともに、その裏面の中央を研削して凹部を形成して環状凸部に囲繞された状態とし、ボンディングパッド13のデバイス中央側に溝22を対応させてデバイス形成面10と溝22が形成された面20とを貼り合わせ、保護カバーウェーハ1を溝22に沿って切削してボンディングパッド13を露出させ、分割予定ライン11に沿ってデバイスウェーハ1を分割し、保護カバー付きデバイスを製造する。エッチングをすることがないためエッチャントの管理などの煩わしさが解消される。また、保護カバーウェーハ2に環状凸部を形成して強度を高めることにより、保護カバーウェーハ2の破損を防止して保護カバーウェーハ2を薄化することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】石英ガラス基板の両板の対向面にガラスペーストを印刷してリブを形成しても、焼成で熔解により崩壊せずに、高さが50〜500μmの流路形成用ガラス組成物から成る微細流路が形成でき、石英ガラス基板を強固に接合でき、クラックが発生しない線熱膨張係数の小さな、ホウ珪酸塩ガラスを含有する流路形成用ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明の流路形成用ガラス組成物は、ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリット及びβスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムを含み、該ホウ珪酸塩ガラスのガラスフリットが、B、SiO、ZnO、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化物を必須成分として含み、これらの含有量が前記流路形成用ガラス組成物の全重量に対して68〜84重量%の範囲にあり、上記βスポジュメン、コーディエライト、熔融シリカ、酸化アルミニウム又は酸化ジルコニウムの含有量が上記全重量に対して4〜22重量%の範囲にあることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】保護カバーウェーハを破損させることなく、容易に保護カバー付きデバイスを製造する。
【解決手段】ボンディングパッド13に対応した保護カバーウェーハ2上の領域に溝22を形成するとともに、その裏面の中央を研削して凹部を形成して環状凸部に囲繞された状態とし、デバイスウェーハ1のボンディングパッド13に溝22を対応させてデバイスウェーハ1のデバイス形成面と保護カバーの溝形成面とを貼り合わせ、保護カバーウェーハ1を溝22に沿って切削してボンディングパッド13を露出させ、分割予定ライン11に沿ってデバイスウェーハ1を分割し、保護カバー付きデバイスを製造する。エッチングをすることがないためエッチャントの管理などの煩わしさが解消される。また、保護カバーウェーハ2に環状凸部を形成して強度を高めることにより、保護カバーウェーハ2の破損を防止して保護カバーウェーハ2を薄化することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板と圧電体とを接合してなる圧電デバイスと、その圧電デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板1の表面を加熱し、支持層1aにおける絶縁酸化膜層1bとは反対側の面に熱酸化膜1dを形成し、活性層1cにおける絶縁酸化膜層1bとは反対側の面に熱酸化膜1eを形成する。SOI基板1上に、接合層を密着させるための密着層4を形成する。そして、密着層4上に、金属ペーストとしてのろう材3aを介して、PZTからなる圧電材料2aの両面に電極層2b1・2b2を順に形成したチップ状の圧電体2を配置する。その後、ろう材3aを焼成して固めることによって接合層を形成し、接合層によってSOI基板1と圧電体2とを接合する。 (もっと読む)


【課題】エッチャントを用いることなく保護カバー付きデバイスを製造する保護カバー付きデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第一分割予定ライン11aと第二分割予定ラインとで区画された領域にデバイス12が形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを備え、デバイス12上に一方向に並んだ複数のボンディングパッド13に対応し、かつ、外周余剰領域に対応する外周縁を除いた保護カバーウェーハ2上の領域に貫通溝22a、22bを形成し、ボンディングパッド13に貫通溝を対応させてデバイスウェーハ1のデバイス形成面10と保護カバーウェーハ2を貼り合わせて貫通溝22a、22bを介してボンディングパッド13を露出させ、第一分割予定ライン11a及び第二分割予定ラインに沿って分割する。 (もっと読む)


【課題】2枚の基板をインサート物質を介して接合する複合基板の製造方法において、該インサート物質の移動を制御する複合基板の製造方法、及び該複合基板の製造方法によって得られる複合基板の提供。
【解決手段】平面をなす主面2aに機能素子8が配された第一基板2と、該第一基板2と接合させる主面3aを有する第二基板3とを用い、主面2a,3aのうち少なくとも一方の主面にインサート物質4を形成する工程Aと、主面2a,3aどうしを向かい合わせて圧接することにより、インサート物質4を介して、第一基板2と第二基板3とを接合させる工程Bと、を含む複合基板の製造方法であって、工程Aにおいてインサート物質4の表面に段差を設けること、及び工程Bにおいて前記段差の高い側から低い側に向けて、インサート物質4が移動するように圧接することを特徴とする複合基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ミラーを支持する部材と、その部材が接合される台座との接合状態を調整することにより、共振周波数を手間がかかることなく調整可能な光スキャナを提供することを目的とする。
【解決手段】入射する光を反射するミラーを支持する弾性構造体と、前記弾性構造体を支持する台座とからなる光スキャナであって、前記弾性構造体は、前記ミラーを駆動する駆動部が載置された弾性梁部と、前記弾性梁部に連結される調整部と、前記調整部の両端から延出する固定部と、から構成され、前記弾性構造体は、前記固定部及び前記調整部が前記台座と接合されることにより、前記台座に固定されていることを特徴とする光スキャナ。 (もっと読む)


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