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国際特許分類[B81C3/00]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | マイクロ構造技術 (6,196) | マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置 (1,969) | 個別に処理された構成部品からの,装置またはシステムの組立 (639)

国際特許分類[B81C3/00]に分類される特許

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【課題】 特に、動作空間を囲む枠体と対向基板とを接合する金属接合部の腐食を防止しやすい構造のMEMSセンサ及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 機能層10には、動作領域15と外部領域16とを区画する枠体14とが形成される。前記枠体14と支持基板1間は第1の絶縁層3aを介して接合される。枠体と配線基板との間には、枠体の外周側面から内側に向けて延出する横方向溝部18が形成される。また横方向溝部よりも内側では傾斜側面14fを介して前記横方向溝部18での間隔よりも近接する前記枠体と前記第2の部材との対向面間が動作領域の全周を囲む金属接合部30aを介して接合されている。傾斜側面14fの傾き角度θ1は、鈍角である。そして横方向溝部18内にて現れる金属接合部30aの外周表面が保護絶縁層41により覆われている。 (もっと読む)


【課題】 金属結合部の接合界面に作用する応力の均一性を向上させるMEMSセンサを提供することを目的としている。
【解決手段】 機能層10には、動作領域15と外部領域16とを区画する枠体14とが形成される。前記枠体14と支持基板1間は第1の絶縁層3aを介して接合される。枠体14と配線基板2間は、金属結合部30aを介して接合されている。金属結合部30aでは、配線基板2の表面に第1の金属層31aが形成され、枠体14の表面に第2の金属層32aが形成され、第1の金属層31aと第2の金属層32aとが加熱され加圧されて互いに接合されている。第1の絶縁層3aの外周側面3cは、枠体14の外周側面14aよりも前記動作領域の方向に後退している。第1の金属層と前記第2の金属層との接合界面Aの外周端部Bは、前記第1の絶縁層3aの外周側面3cよりも前記動作領域から離れる方向である外側に位置している。 (もっと読む)


【課題】電極とミラーとを近接させても、ミラーと電極との衝突を回避しつつミラーの揺動スペースを確保する。
【解決手段】ミラーデバイス1は、揺動可能なミラー21と、ミラー21と対向する駆動電極31,31,…とを備えている。ミラーデバイス1は、ミラー21が設けられたミラー基板2と、駆動電極31,31,…が設けられた電極基板3と、ミラー基板2と電極基板3との間に介設され、ミラー21と当接することによってミラー21の揺動を所定の揺動範囲に制限するストッパ4とをさらに備えている。 (もっと読む)


【課題】寄生容量を低減して、ノイズの増大、帯域幅の減少や感度の低下を防止することができる電気機械変換装置を提供する。
【解決手段】電気機械変換装置は、基板7と、振動膜4と、基板7と振動膜4との間に間隙5が形成されるように振動膜4を支持する振動膜支持部6と、から構成されるセル1と、基板7に絶縁物11を介して配置されたセル1の引き出し配線12と、を有する。電気機械変換装置において、絶縁物11は振動膜支持部6の厚さよりも厚い。 (もっと読む)


【課題】樹脂と樹脂もしくは樹脂とガラス基板からなる2枚のワークを、接合の一様性を確保しつつ、アライメントずれや破損といった不具合が生じないように貼り合わせること。
【解決手段】第1のワークW1を反転ステージユニット30の反転ステージ31に載置し、第2のワークW2を加圧ステージユニット20のワークステージ21上に載置し、光照射ユニット10からUV光を照射する。次いで、反転ステージ31を180°反転させて、ワークステージ21上でワークW1,W2を重ね合わせ、ワークW1,W2を加圧して仮接合する。そして仮接合状態のワークを、搬送手段により加熱ステージに搬送し、加熱機構で加熱してワーク温度を所定温度まで昇温させて、接合が完了するまでをこの温度を維持する。 (もっと読む)


【課題】マイクロ電気機械システムマイクを提供する。
【解決手段】 基板21は第一チャンバー21aを有する。マイクロ電気機械システム部品エリア22は、基板21の上方に位置し、かつ金属層22a、スルーホール層22b、絶縁材エリア22cおよび第二チャンバー22dを有する。遮蔽層23は、マイクロ電気機械システム部品エリア22の上方に位置する。第一キャップ25は、遮蔽層23の上方に固定され、かつ第二チャンバー22dに繋がる少なくとも一つの開口部を有する。第二キャップ26は基板21の下方に固定される。 (もっと読む)


【課題】反射率の減少が防止されたMEMS素子およびこれを用いた光スイッチ装置およびディスプレイ装置、ならびにMEMS素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】支持層とデバイス層との間に絶縁層が介挿された構造を有し、前記支持層と前記絶縁層とに連通する開口部と、前記開口部に対応した前記デバイス層の領域に前記支持層とは反対側に変位可能に形成されかつ前記支持層側にミラー面を有する複数のマイクロミラー部とを有する本体部と、前記マイクロミラー部を変位させるための電圧を印加する電極が形成された基板と、を備え、前記本体部のデバイス層の表面と前記基板の表面とが接合されており、前記本体部の支持層側の前記開口部から前記マイクロミラー部へ光が入力される。 (もっと読む)


【課題】シリコーン樹脂からなる部材と接合される部材がシリコーン樹脂以外の材料からなる部材である場合にも強固な接合強度が得られるようにする。
【解決手段】シリコーン樹脂以外の材料からなるベースプレート10の表面上にシリコーン樹脂塗布層12を介してシリコーン樹脂からなる流路プレート14が接合されてマイクロチップが構成されている。その流路プレート14は、シリコーン樹脂塗布層12との接合面に流路16となる溝と、その溝につながる少なくとも1つの貫通孔18,20が形成された成型品であり、それにより流路プレート14とシリコーン樹脂塗布層12との接合面に、その溝とシリコーン樹脂塗布層12とからなる内面がシリコーン樹脂で囲まれた流路16が形成されている。 (もっと読む)


【課題】低コストのマイクロ電気機械システムセンサを提供する。
【解決手段】マイクロ電気機械システムセンサ20は、基板21、基板21に位置するマイクロ電気機械システム部品エリア27、薄膜層29、接着層22、および、複数のSi貫通電極26を備える。基板21は、第一表面211および第二表面212、ならびにマイクロ電気機械システム部品エリア27を有する。薄膜層29は、マイクロ電気機械システム部品エリア27に被さってチャンバを密閉することによって密閉空間を形成する。キャップ24は、接着層22によってマイクロ電気機械システム部品エリア27に固着する。複数のSi貫通電極26は、第二表面212まで伸びるようにマイクロ電気機械システム部品エリア27に電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】接合ガラスの一方の面に溝を精度よく、かつ効率よく形成する。
【解決手段】接合ガラス60の一方の面50b側から接合材23を撮像することで、一方の面50b側から接合ガラス60に照射可能なレーザー光R2を接合材23に合焦させる第1焦点調整工程と、第1焦点調整工程の後、レーザー光R2の焦点を、接合ガラス60の厚さ方向に沿った接合ガラス60の一方の面50b側に向けて、照射がなされるガラス基板50の推定厚さ分、移動させる第2焦点調整工程と、第2焦点調整工程の後、レーザー光R2を照射して一方の面50bに被検出部Dを形成する被検出部形成工程と、一方の面50b側から被検出部Dを撮像することで、レーザー光R2を被検出部Dに合焦し直す第3焦点調整工程と、第3焦点調整工程の後、レーザー光R2を切断予定線に沿って照射して、一方の面50bに溝M’を形成する溝形成工程とを有する接合ガラスの切断方法を提供する。 (もっと読む)


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