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国際特許分類[C01G35/00]の内容

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【課題】本発明は、平均孔径が小さく、高い表面積を有する多孔質金属酸化物膜を簡便な方法で得ることができる多孔質金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、金属元素の異なる2種類以上の金属源を含有する多孔質金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基材とを接触させることにより、上記基材上に多孔質金属酸化物膜を形成する多孔質金属酸化物膜の製造方法であって、上記多孔質金属酸化物膜形成用溶液に最も多く含まれる上記金属源の金属源モル分率が、70%以下であることを特徴とする多孔質金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】特定の粒子サイズの五酸化弁金属を提供する。
【解決手段】BET表面積が2m2/g未満で且つ圧縮嵩密度が1.8 g/ccより大である五酸化ニオブ粉末、BET表面積が3m2/gより大で且つ圧縮嵩密度が1.8 g/cc未満である五酸化ニオブ粉末、BET表面積が3m2/g未満で且つ圧縮嵩密度が3.0 g/ccより大である五酸化タンタル粉末、並びに、BET表面積が3m2/gより大で且つ圧縮嵩密度が3.0 g/cc未満である五酸化タンタル粉末等を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い密度及び配向度の結晶配向セラミックスを優れた量産性で製造できる異方形状粉末及びその製造方法、並びに結晶配向セラミックスの製造方法を提供すること。
【解決手段】特定の結晶面{100}面が配向する配向粒子からなる異方形状粉末及びその製造方法、並びに該異方形状粉末を用いた結晶配向セラミックスの製造方法である。異方形状粉末は、一般式(1)(KaNa1-a)(Nb1-bTab)O3(但し、0≦a≦0.8、0.02≦b≦0.4)で表される等方性ペロブスカイト型の5価金属酸アルカリ化合物を主成分とする。異方形状粉末の作製にあたっては、特定組成のビスマス層状ペロブスカイト型化合物を酸処理し、得られた酸処理体にK源等を添加して加熱する。 (もっと読む)


【課題】各種の陽イオンが共存する水溶液からナトリウムイオン、カリウムイオン及びルビジウムイオンを選択的に吸着する技術を提供する。
【解決手段】下記一般式(1):
8+x22−x59・nHO (1)
(式中、Mは、水素元素及びアルカリ金属元素からなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、Mは、4価の金属イオンになりうる金属元素からなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、Mは、5価の金属イオンになりうる金属元素からなる群より選択される少なくとも一種の元素である。また式中の添字xは、0≦x≦11を満たす数であり、nは、0≦n≦12を満たす数である。)で表される化合物を有効成分とし、アルカリ金属イオンのうちナトリウムイオン、カリウムイオン及びルビジウムイオンを選択的に吸着する特異的アルカリ金属イオン吸着剤。 (もっと読む)


【課題】長時間の操作を可能にし、生成物を比較的高い収率で生じる、希土類金属および他の遷移金属の化合物のナノサイズないしマイクロサイズの粒子を製造するための方法、殊に連続的な方法を提供する。
【解決手段】希土類金属化合物または他の遷移金属化合物のマイクロ粒子またはナノ粒子を、1つ以上の沈殿試薬を用いて少なくとも1つの相応する希土類金属または遷移金属の金属塩溶液からの前記粒子の均質な沈殿によって製造する方法の場合に、溶剤または溶剤混合物中で可溶性でありかつ処理温度で安定である、1つ以上の弱塩基性化合物を沈殿試薬として使用し、沈殿を熱水条件下で実施する。 (もっと読む)


【課題】キャパシター用タンタルまたはニオブ粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、陰極及び溶融塩を含む電解還元反応器におけるキャパシター用タンタル(Ta)またはニオブ(Nb)粉末の製造方法において、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択した少なくとも一つの金属のハロゲン化合物と、アルカリ金属酸化物からなる溶融塩中、アルカリ金属酸化物を陰極で1次電解還元し、電解還元されたアルカリ金属により五酸化タンタル(Ta2O5)または五酸化ニオブ(Nb2O5)を部分的に還元してTa2O(5-y)またはNb2O(5-y)(ここで、y=2.5〜4.5)で表示されるタンタルまたはニオブ酸化物を得る工程、及び前記アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択した少なくとも一つの金属のハロゲン化合物を陰極で1次電解還元して、Ta2O(5-y)またはNb2O(5-y)(ここで、y=2.5〜4.5)で表示されるタンタルまたはニオブ酸化物と2次還元反応を進行してタンタルまたはニオブ粉末を得る工程を含む。 (もっと読む)


【課題】 従来の層状化合物の単層剥離から得られた薄片状物質とは構造・組成が異なる、シート内にメッシュ構造を持つ厚みが1nm以下の酸化タンタルからなる“ナノメッシュ”を提供しようと言うものである。
【解決手段】 オープンチャンネルを有するホスト層が積層したタンタル酸化物から出発し、その層間にプロトンまたはオキソニウムイオンを導入する第1の段階、次いで嵩高いカチオンを含む溶液と接触させる第2の段階、の2段階工程によって単層剥離し、薄片状に剥離し、規則的に配列したホール(孔)によって形成されたメッシュ構造を有する二次元シート状酸化タンタルナノメッシュが分散した溶液を得る。 (もっと読む)


【課題】精製工程において含有される不純物としてのフッ素やリンが可能な限り除去された高純度の酸化タンタルを得る。
【解決手段】タンタルコンデンサー等のタンタルスクラップを原料として、フッ化水素酸で浸出してタンタル溶液を得、次いで該溶液に正リン酸エステルの抽出剤を用いてタンタル錯塩として溶媒に抽出したものからアンモニア性水溶液で逆抽出し、得られたタンタル溶液を吸着剤で処理して有機分を除去する。さらに、アンモニア性水溶液を添加して水酸化タンタルを得、また、これを乾燥、粉砕した後、焼成して酸化タンタルを得る。 (もっと読む)


チタネート薄膜の原子層堆積(ALD)及び化学蒸着(CVD)に有用なバリウム、ストロンチウム、タンタル及びランタン前駆体組成物。前駆体は、式M(Cp)で表され、式中、Mはストロンチウム、バリウム、タンタル又はランタンであり、Cpは、式(I)のシクロペンタジエニルであり、式中、R〜Rは、それぞれ、互いに同じか又は異なり、それぞれ、水素、C〜C12アルキル、C〜C12アミノ、C〜C10アリール、C〜C12アルコキシ、C〜Cアルキルシリル、C〜C12アルケニル、RNNRから独立に選択され、式中、R、R及びRは、互いに同じか又は異なり、それぞれ、水素及びC〜Cアルキルから独立に選択され、官能基を有するペンダントリガンドが、金属中心Mにさらに配位する。上式の前駆体は、フラッシュメモリやその他のマイクロ電子デバイスの製造において、高誘電率材料を均一にコーティングするのに有用である。
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【課題】 流動界面ゾル−ゲル法により得られるゲルナノシートを、基材表面に大面積無欠陥で積層してセラミックスナノシート積層膜を製造する。
【構成】 化学修飾した一種以上の金属アルコキシドを部分加水分解によりポリマー化し、このポリマーを水に対する適度な溶解性を有する溶媒を用いて所望の濃度の溶液にした後、流動界面ゾル−ゲル法でゲルナノシート化し、これを基材に転写して、必要により焼成することを特徴とするセラミックス積層膜の製造方法を提供し、この方法により、基材上に実質的に厚みが10〜1000nmであるセラミックスナノシートを任意の枚数積層した構造のセラミックスナノシート積層膜が提供される。 (もっと読む)


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