【課題】熱処理した場合に著しい光学的変化を引き起こすことがない光透過レベル調整積層体を有するグレージングを提供する。
【解決手段】赤外線及び／又は太陽光照射領域において反射特性のｎ個の機能層と、１又は複数の誘電体層で構成されるｎ＋１個のコーティングとの交互の層からなる積層体、従って各機能層が２つのコーティングの間に配置されている積層体を備えた少なくとも１つの透明な基材を含むグレージングとする。ここでは、可視光領域で吸収性の少なくとも１つの層が、上記コーティングのうちの少なくとも１つにおいて２つの誘電体層の間に挿入される。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性を示す金属反射層システムを提供する窓ガラス板に関する。
【解決手段】層システムは、誘電体基膜、クロムまたは少なくとも４５重量％クロムを含有する金属合金の高反射を有する金属層、および窒化物最上層を含む。誘電体基膜は、ガラス表面に最も近い、少なくとも部分酸化されたＳｎＯ₂、ＺｎＯおよび／またはＴｉＯ₂層、および金属層に最も近い部分的に窒化された皮膜から成る。 （もっと読む）

本発明は、低太陽熱取得係数（ＳＨＧＣ）、改善された美しさ、機械的及び化学的耐久性、並びに、焼戻し又は熱強化耐性を特徴とする低放射率積層を提供する。本発明は、更に、基板から外側に向かって順に、第１の誘電体層と、第１の核生成層と、第１のＡｇ層と、第１のバリア層と、第２の誘電体層と、第２の核生成層と、第２のＡｇ層と、第２のバリア層と、第３の誘電体層と、任意にトップコート層とを含む低放射率コーティング、並びに、かかるコーティングを基板上に付着する方法を提供する。
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本明細書には、窓又はドア、及びそのためのガラス組立体が開示されている。ガラス組立体は、滑らかな硬化されたシリカ含有皮膜によって被覆された外側の表面と、少なくとも１層の低放射率皮膜によって被覆された反対側の表面を備えた第１のガラス板を有する。一実施形態では、第２のガラス板が、ポリマー製スペーサによって第１のガラス板に結合されると共に第１のガラス板から離間されている。第２の実施形態では、第３のガラス板が第２のガラス板に貼り合わせられており、第３の実施形態では、内側表面が低放射率皮膜によって被覆された第３のガラス板が、ポリマー製スペーサによって第２のガラス板に結合されると共に第２のガラス板から離間されている。 （もっと読む）

【課題】低い電気抵抗値を有する透明導電層をマイクロ波の照射によって確実に形成することができ、しかも、マイクロ波を高い効率で利用し得る透明導電層の形成方法を提供する。
【解決手段】透明導電層の形成方法は、第１面１１、及び、該第１面１１と対向する第２面１２を有する基体１０の第１面１１にマイクロ波吸収層２０を配置し、基体１０の第２面１２に透明導電層形成用材料層２０を塗布した後、透明導電層形成用材料層２０にマイクロ波を照射し、透明導電層２１を得る工程から成る。 （もっと読む）

透明物は、第１可視光透過率を有する第１プライ及び第２可視光透過率を有する第２プライを含み、第１可視光透過率は第２可視光透過率よりも高い。太陽光制御コーティングは、第１プライ及び第２プライの間に配置される。太陽光制御コーティングは、第１赤外反射金属層、第２赤外反射金属層及び第３赤外反射金属層を有する。第１赤外反射金属層は、第２赤外反射金属層よりも厚く、第２赤外反射金属層は、第３赤外反射金属層よりも厚い。
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【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板の強度を低下させることなく反りを抑制できる電極付きガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に形成されている電極を、質量百分率表示で、Ｂ_２Ｏ_３が３０〜５０％、ＳｉＯ_２が２５％超３５％以下、ＺｎＯが１０〜２５％、Ｌｉ_２ＯおよびＮａ_２Ｏのいずれか一方または両方とＫ_２Ｏとが合計で７〜１９％、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏのモル分率をｌ、ｎ、ｋについてｌが０．０２５以下、ｌ＋ｎ＋ｋが０．０７〜０．１７である無鉛ガラスによって電極を被覆する。 （もっと読む）

【課題】平滑な無機酸化物基板上にＡｇやＡｕなどの貴金属超微粒子を用いた金属薄膜が、無機酸化物基板と良好な密着性を有する金属薄膜形成方法およびその形成方法によって作製された金属薄膜を提供すること。
【解決手段】無機酸化物基板１の表面に、酸化物に変化する元素を有するカップリング剤からなる下地層２を配置し、下地層２の上に金属超微粒子が分散された液体を塗布して金属超微粒子層３を形成する。その後、金属超微粒子が金属化する温度に昇温して金属薄膜層５を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ＶＯ_２が毒性の強いＶ_２Ｏ₅に酸化されることが防止されたサーモクロミックガラスを提供する。
【解決手段】 二酸化バナジウム膜の表面の保護層として犠牲金属／酸化物の積層体を設け、前記犠牲金属層の最低厚みが前記酸化物層を形成した後でも犠牲金属として存在する厚み、つまり犠牲金属が全部酸化されずに金属のまま残る厚みとした。前記犠牲金属層の厚みとしては、例えば１．０〜１５．０ｎｍが好ましい。 （もっと読む）

加熱可能なトランスペアレンシは、基板と、基板の少なくとも一部分の上に形成された導電被膜とを備える。電源は導電被膜に接触している。電源は、導電被膜に交流（ＡＣ）を供給するように構成されている。
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