【課題】基板にキズが発生するのを防止しつつ、安定して基板を洗浄することができる、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄板１と、洗浄板１を振動させる振動部２と、基板に非接触な状態で基板上を吸引し、洗浄板１の先端部１ａの近傍に吸込み口を有する吸引部３，４と、洗浄板１を基板に対して相対的に移動させる移動手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来よりも搬送によりガラス基板につく傷をなるべく少なくするガラス基板搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程において前記ガラス基板を略水平状態で搬送するガラス基板搬送装置１００であって、回転軸１０１と、駆動部と、リング部材１０２とを備える。回転軸１０１は、ｊ個（ｊは４以上の整数）ある。回転軸１０１は、搬入側から搬出側に向かって第１、第２、・・・、第ｊ回転軸１０１と並ぶ。リング部材１０２は、第１状態となるように配置される。第１状態とは、直線Ｌ１および直線Ｌ２それぞれと第ｍ回転軸１０１（ｍは２より大きく、かつ、ｊより小さい整数）とが直交する点Ｐ１および点Ｐ２上にリング部材１０２が装着されておらず、かつ、第ｍ回転軸１０１上のＰ１およびＰ２の間にリング部材１０２が１つ装着されている状態である。 （もっと読む）

【課題】水蒸気等の気体を遮蔽するガスバリア性や可撓性に優れ、しかも２枚のガラス基板を一定の間隔に保持するスペーサ材としての機能も備えたシール材を提供する。
【解決手段】シール材１は、厚み１〜１００μｍのガラスリボンからなり、その両面２，３と、側面４は、火造り面となっている。ガラスリボンはその偏肉が、その厚みの２０％以内であり得、厚みに対する幅のアスペクト比が２５〜２０００であり得、遷移元素を含有し得る。ガラスリボンの表面は、成膜処理され得る。 （もっと読む）

【課題】欠陥がなく耐久性、透光性に優れたガラス製マイクロレンズアレイを容易にかつ高精度に大量生産できるガラス製マイクロレンズアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】本ガラス製マイクロレンズアレイ製造方法は、鏡面研磨されたガラス基板にレーザ光を吸収する膜を形成し、前記膜にレーザ光を照射してガラス基板に局所的な応力を与え、その後前記膜を除去し、前記ガラス基板にドライ・エッチングあるいはウエット・エッチングを施して、局所的に応力が存在する部分を凹レンズ状にする。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラス基板から成る半導体フォトマスクやナノインプリントテクノロジーにおいて、使用されているレジスト膜と、レジスト膜の上に形成されている保護膜を同時に除去することができ、不要となった膜成分を容易に回収でき、剥離させるための溶剤を長く使用することができると共に、レジスト膜又は保護膜の除去能力及び膜の除去にかかるタクトタイムを改善できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面にレジスト膜が被覆された合成石英ガラス基板を、テルペン類が溶解している溶剤に浸漬して、上記レジスト膜を剥離し、次いで当該基板を水リンスする。 （もっと読む）

【課題】外観品質の向上を図った光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子の製造方法が、アルカリ性または酸性の溶液を用いて、光学素子成形素材を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄された光学素子成形素材を減圧下で加熱する熱処理工程と、前記熱処理された光学素子成形素材を加熱軟化して、成形型によりプレス成形する成形工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】裏面のラフネスが大きい透明材料や、欠陥が存在する透明材料などであっても、被加工面を精度良く加工することができるレーザー加工方法を提供する。
【解決手段】レーザー光を用いて透明材料を加工する方法であって、レーザー光の発振波長は、１９３〜１１０００ｎｍであり、且つ、透明材料は、レーザー光の吸収係数が１ｃｍ^−１以下であり、透明材料の被加工面に対し、レーザー光の吸収係数が１μｍ^−１以上のレーザー光吸収物質を付着させるレーザー光吸収物質付着工程と、透明材料に付着させたレーザー光吸収物質の表面側からレーザー光を照射し、透明材料の被加工面に加工を施すレーザー加工工程とを含むことを特徴とする、透明材料のレーザー加工方法である。 （もっと読む）

【課題】マークエッジ部分での光の散乱、反射を防ぐことにより、マークの視認性を低下させ、光学ガラス部材の光学特性に影響を与えないマークを形成する。
【解決手段】光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板１の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板１の表面を基板押圧手段６７により研磨布６１に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板１の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板１を研磨布６１に押し当て、かつ、研磨布押圧手段６７が、前記ガラス基板１の外周部近傍の前記研磨布６１を押圧しながら、前記ガラス基板１を研磨する研磨工程と、を有する。 （もっと読む）