本発明は、ガラス物品の表面の少なくとも一部分を処理するための方法において、以下の工程を任意の順序で含むことを特徴とする方法を開示する：前記部分上に少なくとも一種の高ｐＨ固形物を乾式適用する、ガラス物品を前記高ｐＨ固形物の融点に少なくとも等しい温度に加熱する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光照射による改質現象を用いた電子部品の製造方法における加工精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】そして、この目的を達成するために本発明は、透明体１１の表面に前記透明体１１よりも反射率の高い材料からなるパターン１２を形成する工程と、前記パターン１２に光を照射するとともに前記パターン１２からの反射光の強度から前記パターン１２の高さ情報を認識する工程と、前記パターン１２の高さ情報から前記透明体１１の表面あるいは裏面の高さ情報を算出する工程と、前記透明体１１の表面あるいは裏面の高さ情報に基づき前記透明体１１にレーザー光を照射するとともに前記透明体１１を改質させる工程と、を有する電子部品の製造方法としたものである。 （もっと読む）

レーザベースの変位検出器(26)を使用して、透明な物品(20)の一つの面に塗布された化粧コーティング(22)を検出し、それによって、レーザ加工システムの中に装填されているときにどの面が最も上になっているかを判定する。具体的には、可視光に対して透明で、レーザ加工システムの中で適切な向きにすることが特に困難である物品(20)が、レーザベースの変位検出器(26)を物品(20)上の部分コーティング(22)と共に使用することによって、向きを定められる。 （もっと読む）

【課題】複数のガラスを同時に液体に浸漬しつつ、ガラスへの傷の発生を低減し、且つガラス表面への液体の供給及び排出を速やかにできる浸漬用部材、保持部材及び保持部材ユニットを提供する。
【解決手段】浸漬用部材１ａは、複数のガラスＧの液体への浸漬に用いられ、ガラスＧを互いに非接触状態に維持しつつ載置する複数の載置部１１と、前記載置部１１に液体を流入し且つ前記載置部１１から液体を流出する流路１２と、を備える。保持部材は、この浸漬用部材１と、主表面の設けられた側から載置部の少なくとも一部を覆う蓋体と、を備える。また、保持部材ユニットは、保持部材が収納容器に収納されてなる。 （もっと読む）

【課題】算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍のレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板を洗浄する洗浄工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記洗浄工程において、前記磁気ディスク用ガラス基板を、炭酸ガスを溶解した液体でスクラブ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 ガラスなどの透明部材に、不純物をドーピングするドーピング方法、および、このドーピング方法を用いて光学デバイスを製造する方法として、さらに、透明部材内に不純物のナノ粒子を生成するナノ粒子生成方法として、簡易な方法で透明部材の光学特性を大きく変化させることができるドーピング方法、光学部材の製造方法、および、ナノ粒子生成方法を提供すること。
【解決手段】 透明部材１の一表面に不純物２を当接させた状態で、前記透明部材１の前記一表面の反対側の面から超短光パルスレーザービーム４を照射し、前記透明部材１内での前記超短光パルスレーザービーム４の自己集束作用によって生じるフィラメント領域５を、前記透明部材１と前記不純物２との当接部分に生成させて、前記不純物２を前記透明部材１内にドーピングする。 （もっと読む）

【課題】加工時間を短縮して生産性の向上を図ると共に仕上がり面をより平滑にすることができるガラス材の表面加工方法を提供する。
【解決手段】ガラス材の表面加工方法は、研削加工によりシリカガラス成形体２を成形する際に、ガラス成形体２の表面に対して予め定められた鋭角な傾斜角度θ及びライン状の幅を有するレーザ２１の照射によりシリカガラス成形体２の表面を溶融する表面加工工程を含んでいる。したがって、レーザの短時間の照射に伴う表面の溶融により、ガラス成形体の表面を平滑にすることができる。 （もっと読む）

【課題】
基板面内でのパーティクル除去均一性を向上することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】
基板洗浄装置１は、処理液を貯留する処理槽１０と、基板Ｗを保持する基板保持部２１を備え、基板を昇降移動させるリフタ２０と、伝播水を貯留する伝播槽３０と、伝播槽３０の底部に設けられた超音波振動子３１と、分散発生部８０とを備え、処理槽１０に浸漬した基板Ｗと超音波振動子３１との間に分散発生部８０を配置することにより、超音波振動が付与された分散発生部８０の反対側で、基板面内におけるキャビテーションのバラツキを抑制することができる。そのため、基板Ｗ面内でのパーティクルの除去均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】被加工物の内部に形成される改質領域の断面形状をより均一にすること。
【解決手段】レーザ光１４が入射される被加工物１の上面１ａに対してレーザ光１４の光軸を傾けるようにした。それゆえ、改質領域１９の長手方向を、被加工物の上面１ａと垂直なｚ軸方向に対して傾けることができる。そして、改質領域１９のｚ軸方向の長さを短くすることができる。そのため、例えば、被加工物１の内部に、ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第１改質領域列と、ｘ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第２改質領域列とを形成した場合、第１改質領域列のｘ軸方向の幅と第２改質領域列のｚ軸方向の幅との差を低減できる。したがって、被加工物１の内部に形成される、複数の改質領域１９からなる改質領域列の断面形状をより均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】レーザビームを用いてマーキングを構成するセルの形成を行なうに際し、セルに「カスレ」を生じることのないマーキング方法、該方法によるフラットパネルディスプレイの製造方法及びレーザを用いたマーキング装置を提供する。
【解決手段】ガラスＷの表面にレーザビームを照射して、複数のセルからなるマーキングを施すレーザを用いたガラスマーキング方法および装置であって、所定のセルの形成に必要とされるパルスエネルギーを有する第１の周波数のレーザビームで形成した後、次なるセルを形成すべくレーザビームをジャンプさせる際、該レーザビームを第２の発振周波数に制御してパルスエネルギーを刻印が不能な程度まで低減して、該ジャンプ期間中は、レーザビームによる刻印をワークＷに施させないようにする。 （もっと読む）