【課題】ガラスに微小な孔や溝を容易かつ安価に形成できる加工方法を提供する。
【解決手段】工程（ｉ）では、波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射することによって、そのガラス板１２のうちレーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する。次に、工程（ii）では、そのガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングすることによりガラス板１２に孔を形成する。上記レーザパルス１１のパルス幅は、１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にある。波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下である。レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は、７以上である。 （もっと読む）

【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、更に主表面の面荒れを少なくする。
【解決手段】（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が６２モル％以下のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラスからなる円板を、酸化セリウム研磨工程の跡、硫酸濃度２０質量％以上８０質量％以下、過酸化水素濃度１質量％以上１０質量％以下である洗浄液を用いて５０℃以上１００℃以下の液温にて洗浄し、その後、ガラス円板の主表面をコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて仕上げ研磨する。 （もっと読む）

【課題】 耐候性および耐久性を有し、かつ、絵柄層の色調が所望のデザインイメージとマッチングするインクジェット印刷板ガラス製造方法を提供する。
【解決手段】 板ガラス１０上に、インクジェット式印刷により紫外線硬化性樹脂インクからなる絵柄層２０を形成し、紫外線照射により該紫外線硬化性樹脂インクを硬化させ、さらに、該絵柄層２０上に透明の電子線硬化性樹脂を塗布し、その後、該電子線硬化性樹脂上から電子線を照射して、前記絵柄層２０の紫外線硬化性樹脂インクおよび該電子線硬化性樹脂を硬化させた後、主波長が２６０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下の紫外線を照射してインクジェット印刷板ガラス１を製造する。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で実現可能なレーザ光によるガラス基板加工装置を提供する。
【解決手段】この装置は、ガラス基板が載置されるワークテーブル２と、レーザ光出力部１５と、入力されたレーザ光を複数の点に集光させるための回折光学素子３２及び集光レンズ３５と、第１中空モータ１７と、１対のウェッジプリズム３４ａ，３４ｂと、第２中空モータ１９と、を備えている。第１中空モータ１７は、複数の集光点を、集光レンズ３５から出射される複数のレーザ光の中心軸の回りに回転させる。１対のウェッジプリズム３４，３４ｂは、複数の集光点の回転軸を、集光レンズ３５から出力される複数のレーザ光の中心軸から偏倚させる。第２中空モータ１９は、中心軸から偏倚された複数の集光点を、ワークテーブル２のガラス基板の表面に沿った平面内で、中心軸の回りに回転走査する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板強度を損なうことなく、精度良く刻印を有したフラットパネルディスプレイを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、ガラス基板にレーザ光照射による刻印を有したフラットパネルディスプレイにおいて、ガラス基板の厚み方向の異なる位置と、ガラス基板の面内方向の異なる位置とに複数の微小クラックを形成し、刻印の少なくとも一部は複数の微小クラックによって構成されていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】石英ガラス治具等の石英ガラス加工品に対して、表層クリーン度を向上させる純化処理装置及びその装置を用いた純化処理方法を提供する。
【解決手段】筐体と、
該筐体内部に設けられた円筒状の石英ガラス製純化処理容器と、
前記純化処理容器の外方に設けられかつ前記純化処理容器内部を加熱してヒートゾーンを形成する作用を行うヒーターと、
石英ガラス加工品格納及び取り出し用の底部開口部と、
前記底部開口部を密封状態で閉塞する閉塞手段と、
石英ガラス加工品を上下動可能な状態で保持する保持手段と、
前記純化処理容器の下端部に設けられかつ前記純化処理容器内にガスを導入するためのガス導入部と、
純化処理容器内のガスを前記筐体の外部に排気するためのガス排気通路と、を含み、
前記保持手段に保持された石英ガラス加工品を前記純化処理容器内で純化処理することができるようにした。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル等のフラットパネルディスプレイのガラス基板上に精度よく、かつ熱プロセスおよび応力に対しての耐性の高いアライメントマークを簡単に形成する。
【解決手段】ガラス基板に刻印する方法であって、ガラス基板の所定位置に、可視光吸収体を含む膜を形成する膜形成ステップと、所定位置にレーザ光を照射してガラス基板に刻印する刻印ステップと、膜にレーザ光を照射して膜の少なくとも一部を除去する照射ステップとを有し、刻印ステップのレーザ光の波長は、ガラス基板の光の吸収率が塗布膜の光の吸収率より低い波長であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製品上、特にガラス上に永続的なプロセスマークを施すための、迅速かつ精密で、特に個別の印字を可能にする方法を提供する。
【解決手段】レーザを使用して製品上、特にガラス上に永続的なプロセスマークを施す方法である。レーザ光２が顔料層３に衝突することによって、局所プラズマが形成され、二酸化チタン３１とカーボンブラック３２が反応して炭化チタン３４となり、ガラス物品１の表面にこの炭化チタン３４が堆積し、所望のプロセスマークを形成する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、石英ガラス基板の研磨に用いられたコロイダルシリカ等の研磨剤と研磨パッドによる有機物汚染等の異物とをほぼ完全に取り、最終洗浄の負担を軽くした予備洗浄の方法を提供することにある。
【解決手段】フッ素又はフッ素化合物と硫酸と水とからなる洗浄液に研磨した石英ガラス基板の洗浄方法であって、該洗浄液中の硫酸濃度が９３〜９９ｗｔ％、フッ素濃度が０．１〜２ｗｔ％（洗浄液全体で１００ｗｔ％）であり、該洗浄液の温度が５０℃以上１００℃以下であることを特徴とする研磨した石英ガラス基板の洗浄方法。 （もっと読む）

本発明は、ガラス物品の表面の少なくとも一部分を処理するための方法において、以下の工程を任意の順序で含むことを特徴とする方法を開示する：前記部分上に少なくとも一種の高ｐＨ固形物を乾式適用する、ガラス物品を前記高ｐＨ固形物の融点に少なくとも等しい温度に加熱する。 （もっと読む）