【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜７０％、ＳｉＯ_２ ２０〜７０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５０％、ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０〜３０％を含有し、モル比Ｂ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比ＳｉＯ_２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．１〜６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋Ｇｄ_２Ｏ_３）が０．１〜０．９９であると共に、屈折率が１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３を０．１〜６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）／（ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３）が０．１〜５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）が０〜１０、質量比（ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）／（ＢａＯ＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が０．００１〜４０、屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol％表示にて、SiO₂とAl₂O₃を合計で70〜85％（ただし、SiO₂の含有量が50％以上）、Al₂O₃の含有量が3％以上、Li₂O、Na₂OおよびK₂Oを合計で10％以上、CaOとMgOを合計で1〜6％（ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い）、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂を合計で０％を超えて4％以下含み、SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂の合計含有量に対するLi₂O、Na₂OおよびK₂Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 （もっと読む）

【課題】加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性薄膜材料、特にプロトン伝導性薄膜材料を創案すること。
【解決手段】本発明のイオン伝導性薄膜材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、薄板形状を有し、その厚みが１〜５００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、加湿しなくても、２００〜５００℃の中温域で良好なイオン伝導性を有し、成形性や長期安定性に優れたイオン伝導性材料、特にプロトン伝導性材料を創案することである。
【解決手段】本発明のイオン伝導性材料は、組成として、モル％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ １５〜８０％、ＳｉＯ₂ ０〜７０％、Ｒ₂Ｏ（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、及びＡｇ₂Ｏの合量） ５〜３５％を含有すると共に、Ｒ₂Ｏ成分（Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ、Ｒｂ₂Ｏ、Ｃｓ₂Ｏ、Ａｇ₂Ｏ）の内、少なくとも２種以上を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に点スクラッチおよび穴のような損傷が発生することに対して優れた耐性を有するガラスを提供する。
【解決手段】組成中に０．３％以上のアルカリ土類酸化物と０．１〜４％の燐酸を有するアルミノシリケートグラスであって、フロート法により成形され、該成形時にフロートバス上に１０００℃以上の温度で少なくとも１０分間維持することにより、その表面に特有の配置でアルカリ土類リン酸塩の析出物を持つガラスとする。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分と、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｎａ_２Ｏ成分及びＢａＯ成分からなる群から選択される１種以上と、を含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）