国際特許分類[C03C3/097]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | ガラス;鉱物またはスラグウール (20,277) | ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着 (12,070) | ガラスの組成物 (4,759) | シリカを含むもの (3,673) | 重量比で40%から90%シリカを有するもの (2,451) | りん,ニオブまたはタンタルを含むもの (153)
国際特許分類[C03C3/097]に分類される特許
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ディスプレイ基板
【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚0.1mm以上のディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△T400が、0.5〜5.0%の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。
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ガラス成形体の製造方法、光学素子及び光学機器
【課題】特に遷移金属であるNb2O5成分を含有するガラスにおいて、着色の少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、Nb2O5成分を必須成分として含有するガラス原料を溶解し、溶解したガラス中で非酸化性ガスをバブリングする工程を有する。この製造方法は、ガラス原料Sを溶融する溶融槽11と、この溶融槽11に連通され且つ溶融ガラスGを清澄する清澄槽12と、この清澄槽12に連通され且つ溶融ガラスGを撹拌する撹拌槽13と、を用い、ガラス原料Sを溶融槽11で溶融する溶融工程、溶融したガラス原料Sを清澄槽12で清澄させる清澄工程、清澄した溶融ガラスGを撹拌槽13で撹拌する撹拌工程、撹拌した溶融ガラスGを流出させる流出工程、及び、流出したガラスを成形する成形工程を有することが好ましい。
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ガラス基板
【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるHAMRに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Na2SO4を緩衝剤として混合し、H2SO4とNaOHにてpHが10に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−50mVより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。
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光学ガラス及び分光透過率の劣化抑制方法
【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、P2O5成分、SiO2成分及びB2O3成分からなる群より選択される1種以上を合計で5.0%以上40.0%以下、Nb2O5成分を10.0%以上60.0%以下含有し、ソラリゼーション(波長450nmにおける分光透過率の劣化量)が5.0%以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。
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半導体封止用ガラス、半導体封止用外套管及び半導体電子部品
【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ104dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO230〜50%、Al2O30〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO2+TiO2(ZrO2、TiO2の合量)0〜25%、La2O3+Nb2O5(La2O3、Nb2O5の合量)0〜20%を含有する。
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光触媒ガラスおよびその製造方法
【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 TiO2成分、WO3成分、ZnO成分、Nb2O5成分、及びTa2O5成分からなる群より選択される1種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、10〜75%含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。
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3次元精密成形用薄リチウムアルミノケイ酸ガラス
3次元精密成形に用いられ、かつ強化処理に適する薄リチウムアルミノケイ酸ガラスが提供される。本発明ガラスは、50MPa以下の中心引っ張り応力、600〜1200MPaの表面圧縮応力、最大で500MPaまで達する曲げ強度、及び550℃以下のガラス転移温度を有する。 (もっと読む)
高い弾性率を有するアルミノケイ酸リチウムガラス及びその製造方法
本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、(mol%で)以下の組成:60〜70 SiO2、10〜13 Al2O3、0.0〜0.9 B2O3、9.6〜11.6 Li2O、8.2〜<10 Na2O、0.0〜0.7 K2O、0.0〜0.2 MgO、0.2〜2.3 CaO、0.0〜0.4 ZnO、1.3〜2.6 ZrO2、0.0〜0.5 P2O5、0.003〜0.100 Fe2O3、0.0〜0.3 SnO2、0.004〜0.200 CeO2を有する。以下の比率及び条件:(Li2O+Al2O3)/(Na2O+K2O)>2、0.47<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.70、0.8<CaO+Fe2O3+ZnO+P2O5+B2O3+CeO2<3(式中、6つの酸化物のうち少なくとも4つが含まれる)が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも82GPaの弾性率を有する。その上、それは、540℃未満のガラス転移温度Tg及び/又は1150℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも550N/mm2の曲げ強度を有し得るように化学的及び/又は熱的に強化することができる。 (もっと読む)
化学強化ガラス
本発明は、リチウムアルミノシリケートガラスの化学強化に関し、これによって、高レベルの表面張力と深い表面張力ゾーンをもたらす、中程度の温度での速やかな強化が可能となる。 (もっと読む)
光学ガラス、プリフォーム、及び光学素子
【課題】アッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でNb2O5成分を75.0%未満、及び、P2O5成分を40.0%未満含有し、及び、TiO2成分の含有量が30.0%以下であり、0.62以上0.69以下の部分分散比[θg,F]を有し、15以上27以下のアッベ数(νd)を有する。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。
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