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国際特許分類[C04B35/16]の内容

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【課題】イオン導電性を向上させ、長期間の使用に耐え得る化学的安定性を賦与させることが可能なアパタイトセラミックスの製造方法と、このアパタイトセラミックス用いた燃料電池を提供する。
【解決手段】ランタノイドとSi(ケイ素)とを含む原料を反応させてランタノイドシリケートからなるアパタイトセラミックスを合成する際に、下記組成式(1)のアパタイトセラミックスが生成されるようAl又はMgの少なくとも一方をドープすると共に、遷移金属を添加することを特徴とするアパタイトセラミックスの製造方法。(1−α){Ln9.333+x(Si6-yu+y)O26+1.5x-(2-0.5u)y}−α(MOγ)…(1)(但し、Ln;ランタノイド、T;Al又はMgの少なくとも一方の元素、M;遷移金属、0.3<x<0.867、0.1≦y≦0.4、0.002≦α<0.05、γ;遷移金属Mの価数に応じて決定される変数) (もっと読む)


【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量%で、SiO 20〜65%、CaO 3〜25%、MgO 7〜30%、Al 0〜20%、BaO 5〜40%を含有し、かつ質量比で、1≦SiO/BaO≦4の関係を満たすことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。 (もっと読む)


【課題】付加元素を水に溶出させることができ、かつ、付加元素が短期間に消尽することを抑制できるセラミックスを製造する方法を提供すること。
【解決手段】熱水保持装置用セラミックスの製造方法において、ケイ素酸化物とケイ素含有酸化物とから選ばれる少なくとも一種のケイ素材料粉末と、アルカリ土類金属、アルカリ金属、バナジウム、亜鉛、セレン、リン、硫黄、塩素、鉄、ホウ素、フッ素、アルミニウム、ケイ素、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、銅、ヒ素、モリブデン、ヨウ素、炭素から選ばれる少なくとも一種の付加元素と、を含む混合物を、付加元素が非酸化物状体で含まれるような雰囲気で焼成・冷却する。 (もっと読む)


【課題】 小型化が可能な高反射率の発光素子搭載用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 互いに焼結温度が異なる絶縁層用ガラスセラミック材料および拘束層用ガラスセラミック材料を準備し、それぞれ平板状に形成するとともに積層して、絶縁層11と拘束層12とが交互に、最上層が拘束層12となるように積層された平板状積層体を作製する工程と、平板状積層体の上面に発光素子の搭載部となる領域17を設けるとともに、絶縁層用ガラスセラミック材料を平板状積層体の上面に、搭載部となる領域17を取り囲む枠状に積層して積層体を作製し焼成する工程とを備える発光素子搭載用基板の製造方法である。枠部3の上部と下部との収縮差を利用して枠部3の内側面を傾斜させることができるため、凹部の内側面を破断面とせずに傾斜させることができ、小型化が可能で高反射率の発光素子搭載用基板9の製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】低温で焼成して得ることを可能としつつ、焼結性を確保し、抗折強度を維持すると共に、優れた誘電特性を有する誘電体磁器、誘電体磁器の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】誘電体磁器は、Mg2SiO4を含む主成分と、亜鉛酸化物及びガラス成分を含む副成分とを含み、X線回折において、主相であるMg2SiO4の2θが36.0°から37.0°の間におけるX線回折ピーク強度IAに対する、未反応なまま存在する亜鉛酸化物の2θが31.0°から32.0°及び33.0°から34.0°におけるX線回折ピーク強度IBのピーク強度比IB/IAが10%以下であると共に、相対密度が96%以上である。 (もっと読む)


【課題】透過率が低く、十分な反射率や緻密さを有するLED素子用基板を得ることができるガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】このガラスセラミックス組成物は、LED素子用基板の製造に用いられるガラスセラミックス組成物であって、30〜45質量%のホウケイ酸系ガラス粉末と、35〜55質量%のアルミナ粉末、および10〜25質量%のチタン化合物の粉末を含有する。ホウケイ酸系ガラス粉末は、SiOを40〜65質量%、Bを8〜20質量%、Alを3〜12質量%、ROを合計で9〜28質量%、ROを合計で0.5〜8質量%含有し、「Bの3倍」+「ROの2倍」+「ROの10倍」の値が105〜145の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】表面電極の引張強度の向上。
【解決手段】本発明のセラミックス基板7は、セラミックス基板7の表層部を緻密にし、表層部における気孔9の最大幅の平均値を、内層部における気孔10の最大幅の平均値よりも小さくする。基板表面近傍が緻密になることにより、基板表面に形成された電極13の引張強度測定の際、電極周りに破壊起点が生じることを抑制し、電極13と誘電体層8の最上層の界面近傍に亀裂が進展することを防止する。これにより、電極13の引張強度測定でセラミックス基板7の破壊が生じたとしても、セラミックス基板7の内層部がえぐれるモードで破壊し、セラミックス基板7の表面に形成された電極13の引張強度が向上する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するLTCC基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】25〜60質量%のガラス粉末と15〜50質量%のアルミナ粉末および10〜40質量%の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、SiOを0〜50質量%、Bを15〜50質量%、Alを0〜10質量%、ZnO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる1種以上を合計で3〜65質量%、LiO、NaOおよびKOから選ばれる1種以上を合計で0〜20質量%、Biを0〜50質量%含有し、「(B+Biの含有量)の3倍」+「(ZnO+CaO+SrO+BaOの含有量)の2倍」+「(LiO+NaO+KOの含有量)の10倍」の値が200を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】高強度で熱伝導率やヤング率も高く、且つ緻密であると同時に、1000℃以下の低温での焼成によって製造することができ、Cu、Ag、Au、Al等の低抵抗導体から成る配線層を表面或いは内部に備えた絶縁基板として有用な低温焼成セラミック焼結体を得る。
【解決手段】結晶相として、(a)ガーナイト結晶相および/またはスピネル結晶相、(b)アスペクト比が3以上の針状晶を含むセルシアン結晶相、及び(c)AlN、Si、SiC、Al、ZrO、3Al・2SiO及びMgSiOの群から選ばれる少なくとも1種の結晶相、を含有しており、且つ開気孔率が0.3%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


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