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国際特許分類[C07C229/42]の内容

国際特許分類[C07C229/42]に分類される特許

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【課題】 現在知られている結晶化方法の限界および不利な点を克服することである。
【解決手段】 非荷電形および少なくとも1つの荷電形を有する弱酸性および/または弱塩基性化合物の結晶化方法であって、
a)溶媒中の前記化合物の溶液を、初期pH値および前記化合物の初期全濃度を有し、前記初期pH値は前記化合物が前記溶液中で主に前記荷電形で存在するように選択され、前記初期全濃度が前記非荷電形の固有溶解度より高く選択されるよう準備するステップと、
b)前記溶液のpH値を、前記溶液が実質的に飽和状態であり前記非荷電形の濃度が実質的に前記固有溶解度に等しくなる予め決定した目標pH値に到達するまで前記化合物の溶解度の減少に導く方向に徐々に変化させるステップ、および
c)前記化合物の結晶形成をさせながら前記溶液を実質的に飽和状態に維持するステップを含む。 (もっと読む)


本発明は、ジペプチジルペプチダーゼIV(DPP−IV)を阻害し、糖尿病、特にはII型糖尿病、ならびに高血糖、代謝症候群、高インシュリン血症、肥満、アテローム性動脈硬化、各種免疫調節疾患および他の疾患の予防または治療に有用な化合物に関する。 (もっと読む)


本発明は、一般式(I)を有する化合物に関するものであり、式中、R及びRは、同一でも異なってもよく、−H又は1〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分枝アルキル基を含む群から選択されるか、一緒になって5個又は6個の原子の芳香族又は脂肪族環を形成しており;Y及びZは、同一でも異なってもよく、−H、−OH、−COOH、−OR、−CH(OR)COOHを含む群から選択され、ここでRは、H、フェニル、ベンジル、−CF又は−CFCF、ビニル、アリル及び1〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分枝アルキル基から選択される。
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【課題】本出願は、硫黄原子又は窒素原子を含む架橋によって結合されているダブルパラ−フェニレンジアミン類の新規ファミリーに関するものであり、また、ケラチン繊維を染色するためのこれの使用に関する。
【解決手段】これらの新規パラ−フェニレンジアミン類は、ケラチン繊維を染色するための酸化ベースとして使用され得る。 (もっと読む)


本発明は、式(I)[式中、Aは、プロピオン酸NSAID若しくは酢酸NSAIDのベースとなる分子又はその誘導体であり、Xは、−COH、1H−テトラゾール−5−イル又は2H−テトラゾール−5−イルであり、R及びRは、それぞれ独立して、C1〜6アルキル及びC3〜6シクロアルキルからなる群から選択される]で表される化合物又はその製薬上許容される塩、並びに、該化合物を含有する医薬組成物及び該化合物を使用する方法を包含する。本発明の化合物は、Aβ42のレベルを低下させ、従って、アルツハイマー病の進行を防止するか又は遅らせるか又は逆転させるのに有用である。
【化31】

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本発明は、無機又は有機基材上への強接着性コーティングの製造方法であって、第一の工程a)において、低温プラズマ、コロナ放電、又は火炎を、無機又は有機基材上に作用させ、第二の工程b)において、1種以上の定義された光開始剤、又は定義された光開始剤と少なくとも1個のエチレン性不飽和基を含有するモノマーとの混合物、あるいは前述の物質の溶液、懸濁液、又はエマルションを、好ましくは常圧で、無機又は有機基材に塗布し、第三の工程c)において、適切な方法を用いて、これら前述の物質を乾燥するか、かつ/又は電磁波を照射し、そして場合により、第四の工程d)において、そのように前処理した基材上に更なるコーティングを塗布する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】4-アミノビフェニル誘導体アリールアミン化合物の改良された合成方法の提供。
【解決手段】(i) 第1二置換4-アミノビフェニル化合物を供給する工程、(ii) 任意に第1二置換4-アミノビフェニル化合物をホルミル化してビスホルミル置換化合物を形成する工程であって、第1二置換4-アミノビフェニル化合物がビスホルミル置換化合物でない、前記工程、(iii) ビスホルミル置換化合物を酸性にしてホルミル官能基を酸官能基に変換し、酸性にした化合物を形成する工程、及び(iv)酸性にした化合物に水素添加して酸性にした化合物における少なくとも1つの不飽和二重結合を飽和させる工程を含む。 (もっと読む)


本発明は、一般式(I)の化合物、および、特に糖尿病性網膜症の治療のための、カスパーゼ−10阻害剤としてのそれらの使用に関する。 (もっと読む)


ジアミン化合物、並びそのような化合物に基づく、ポリマー、コポリマー、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、又はポリイミドが提案される。化合物は、一般式(Ia)及び(Ib)のうちの1つにより表わされる。そのような構造は、特に残基Bの特定の選択肢によって、例えば配向層に使用される場合、光安定的な、改善されたVHRを持つ垂直に整列する材料を提供する。
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