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国際特許分類[C07C251/08]の内容

国際特許分類[C07C251/08]に分類される特許

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本発明は、第一義に式(I)のアルジミン類に関するものである。前記アルジミンは、特に硬化性組成物、とりわけイソシアネート基を含有する一成分系または二成分系の組成物の潜在的硬化剤として適当である。反応性基が存在することにより、それらはアルジミン基を含む式(X)及び(XII)の化合物に変換することができ、本発明に係るさらなる態様を実施することができる。アルジミン類、またはアルジミン基を含む化合物は、第一に接着剤及びシーリング材料として使用することができる一方で、コーティングとしても使用でき、容易に入手可能な原材料から簡単に製造することができ、良好な熱安定性を備えている。それらの三級アミノ基は驚くほど低い塩基性度を有しており、時によっては化学反応系において触媒作用を示し得る。 (もっと読む)


【課題】貯蔵安定性に優れ、常温および高温で十分な可使時間を確保でき、可使時間経過後には速やかに硬化できる1液型湿気硬化性樹脂組成物を得ることができるケチミン化合物の提供。
【解決手段】ケチミン基を2個以上有するケチミン化合物であって、前記2個以上のケチミン基が、加水分解速度の異なる2種以上のケチミン基を含むケチミン化合物。 (もっと読む)


本発明は、式(I)のアルジミンに関する。このアルジミンは、少なくとも1個のアルジミノ基と、ヒドロキシル基、メルカプト基、または二級アミノ基の形態の活性水素を含む基を少なくとも1個とを有する。このアルジミンは、簡単な方法で、活性水素に反応性を有する化合物と一緒に変換させて、広範な反応生成物を得ることができる。すなわち、例えば、イソシアネート基とアルジミノ基とを含む反応生成物を得ることができる。このような反応生成物は、接着剤、シーリング配合物、およびコーティングとして特に用いられるポリウレタン組成物に本質的に好適である。
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【課題】2−トリフルオロメチルインドール類の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】2−臭化あるいは2−ヨウ素化されたアニリン類と、2−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロペンを、パラジウム触媒と塩基の存在下に反応させ、N−(1,1,1−トリフルオロ−2−プロピリデン)アニリン類および/または、一般式(3)で表される2−トリフルオロメチルインドール類を製造する。
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【課題】安全で、簡便であり、かつ効率的な、イミドエステル塩酸塩の製造方法を提供すること。
【解決手段】(1)塩化水素を、式(II):R−O−R(式中、Rは、置換基を有していてもよい、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基を表し、Rは、置換基を有していてもよい、炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数3〜8のシクロアルキル基を表す。)で示されるシクロアルキルアルキルエーテルに溶解してなる塩化水素溶液中で、ニトリルとアルコールとを反応させる工程、及び(2)結晶として析出するイミドエステル塩酸塩を反応液から分離する工程を有する、イミドエステル塩酸塩の製造方法。 (もっと読む)


【課題】金属含有膜を作製するために使用される多座β−ケトイミナートの金属含有錯体を提供する。
【解決手段】例えば、ビス(2,2−ジメチルー5−(ジメチルアミノエチルーイミノ)ー3ーヘキサノナートーN,O,N’)ストロンチウムやトリス(2,2−ジメチルー5−(ジメチルアミノエチルーイミノ)ー3ーヘキサノナート)イットリウムなどの化合物が挙げられる。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタ用途に有用な有機半導体材料を分子設計し、得られた有機半導体材料を用いて、高いキャリア移動度を示し、ON/OFF比が高く、且つ、高耐久性(酸化安定性及び経時安定性向上)を併せ持つ、有機半導体膜、有機半導体デバイス及び有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】2環以上の芳香環が共役をもって直接または間接的に連結した部分構造または2環以上の芳香環が縮合した部分構造を有する化合物を含有する有機半導体材料において、該化合物が、下記一般式(a)で表される置換基を少なくとも1つ有することを特徴とする有機半導体材料。
【化1】
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キラルアニリンを与えるアニリンとスチレンとの一段階オルトアルキル化が、強酸触媒、例えばCFSOHを用いて得られる。配位子およびメタレーションを与える生成物の縮合が、重合温度に依存してアイソタクチックプロピレンまたは低いPDIを有するレジオランダムプロピレンまたはそれらのブロックを与えるプロピレンの重合を触媒する錯体を与える。 (もっと読む)


【課題】更なる新規の前駆物質、特にWN層用の前駆物質であって、明細書中に記載の欠点を有さず又は少なくとも公知の前駆物質に対する明らかな向上をもたらす前駆物質に大きな要望があった。
【解決手段】一般式(I)
【化1】


[式中、M、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は明細書中の意味を有する]で示される化合物によって解決される。 (もっと読む)


【課題】新規なチタン錯体の製法、それらを用いたチタン含有薄膜の形成方法の提供。
【解決手段】ジイミンと金属リチウムとを反応させ、次いでテトラキスアミド錯体を反応させることにより一般式(1)で表されるチタン錯体を製造し、そのチタン錯体を原料としてチタン含有薄膜を形成させる。
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