国際特許分類[C07C269/04]の内容
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シタグリプチン中間体及びその調製方法並びに用途
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含ハロゲンカルバマート基とアシル基を有するエチレンジアミン誘導体の製造方法、及びそれらの製造中間体
【課題】エチレンジアミン誘導体の工業的生産に有利な方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン置換されたカルバマート基を有するアミノニトリルを酸存在下にて接触水素化反応を行った後に、アシル化を行うことにより含ハロゲンカルバマート基とアシル基を有するエチレンジアミン誘導体を得る。更に、アミノ酸アミドを水存在下で含ハロゲンカルバマート化行い、次いでビルスマイヤー試薬のような脱酸素剤と反応させることにより、収率良く原料のアミノニトリルを調製する。
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触媒処理方法
【課題】工業的に効率良くイソシアネートを製造できながら、そのイソシアネートの製造コストを低減できる触媒処理方法を提供すること。
【解決手段】1級アミンと、尿素および/またはN−無置換カルバミン酸エステルと、アルコールとを、触媒の存在下において反応させ、カルバメートを製造し、次いで、カルバメートを熱分解反応させ、イソシアネートおよび残渣を得た後、残渣から、触媒を回収する。このような触媒処理方法によれば、カルバメート製造工程において用いられる触媒を、熱分解工程の後に回収できるため、工業的に効率良くイソシアネートを製造できながら、そのイソシアネートの製造コストを低減できる。
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イソシアネート残渣の処理方法
【課題】カルバメートの分解液から得られるイソシアネート残渣を、アミンに分解することができるイソシアネート残渣の処理方法を提供すること。
【解決手段】カルバメートの熱分解反応により得られる分解液から、イソシアネートおよびアルコールを分離したイソシアネート残渣を、溶媒存在下、高圧高温水に接触させて、アミンに分解する。このようにイソシアネート残渣を処理すれば、カルバメートの分解液から得られるイソシアネート残渣を、アミンに分解することができる。また、このようなイソシアネート残渣の処理方法によれば、イソシアネート残渣を、カルバメートの製造原料となるアミンに分解できるため、イソシアネートの製造におけるコストを低減することができる。
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殺虫性化合物を製造するための中間体および殺虫性化合物の製造方法
【課題】殺虫剤として優れた防除効果を示し、又他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、生物農薬などと混合使用することによっても優れた防除効果を示す殺虫剤を提供する。
【解決手段】式(1)の化合物、これを有効成分として含有する殺虫剤、及び製造方法。
{A1、A2、A3、A4は炭素、窒素又は酸化された窒素、R1は置換されていても良いC1-C6アルキル基、フェニル基、複素環基、R2、R3は、水素、置換されていても良いC1-C4アルキル基、C1-C4アルキルカルボニル基、G1、G2、G3は、酸素又は硫黄、Xは、水素、ハロゲン、置換されていても良いC1-C4アルキル基、アミノ基、nは0〜4の整数、Qは、置換されていても良いフェニル基、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、複素環基}
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光学活性3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−フルオロ−1−プロパノールの製造方法
【課題】光学活性3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−フルオロ−1−プロパノールの工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の製造方法は、以下の3工程から成る。
また、本発明の製造方法における鍵中間体として、新規物質である光学活性3−tert−ブトキシカルボニルアミノ−2−フルオロプロピオン酸エステルを提供する。
本発明の製造方法では、パラジウム触媒の使用量を格段に低減することができ、且つ1回で反応を完結させることができるため、製造コストが安く、操作が簡便である。さらに、最終目的物が結晶化し、再結晶精製を行うことにより高純度品が得られる。
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ジ−及び/又はポリイソシアネート及びグリコールを共同して製造する方法
本発明は、ジイソシアネート及び/又はポリイソシアネート、及びグリコールの組合された製造方法に関し、該方法は、グリコールを製造するために工程A、B、C及びEを含み、及びジイソシアネート及び/又はポリイソシアネートを製造するために工程A、C、D、E、F及びGを含んでおり、そして物質の組合せが、工程Aで得られた反応混合物を分離して工程B及びCを形成することにより行われ、工程Aで、水性アルキレンオキシドが二酸化炭素と反応してアルキレンカーボネートを含む反応混合物を形成し、工程Aで得られたアルキレンカーボネート含有反応混合物の一部が、工程Bで加水分解されてグリコールが形成され、工程Aからの反応混合物の残りのアルキレンカーボネート含有流が、工程Cで脱水され、工程Dで、芳香族ニトロ化合物又はニトリルを水素化することによってアミンが合成され、工程Eで、工程Cからの脱水されたアルキレンカーボネート含有混合物が、一価アルコールを使用してエステル交換され、対応するジアルキルカービネートを得、ここでグリコールが、組み合わせ生成物として得られ、工程Fで、工程Eで得られたジアルキルカーボネート−含有反応混合物が、工程Dで得られたアミンと反応されて、対応するモノカルバメート、ジカルナメーチ、及び/又はポリカルバメートを含む混合物が形成され、これが工程Gでスプリットされて対応するジイソシアネート及び/又はポリイソシアネートが得られる。 (もっと読む)
ウレタンの製造方法
芳香族アミンとジアルキルカーボネートとの反応によりウレタンを製造する方法であって、ジアルキルカーボネートのアルキル基は4〜18個の炭素原子を含み且つ2位で分岐しており、前記反応はアミノ基に対して化学量論量未満の塩基の存在下で行うことを特徴とするウレタンの製造方法 (もっと読む)
N−保護アミノ酸の製造方法
【課題】N-保護アミノ酸の製造方法の提供。
【解決手段】アルカリ条件下でアミノ酸のアミノ基に保護基を導入する反応を行いN-保護アミノ酸を生成させた後、該反応液から、抽出工程及び濃縮工程を経ることなく、生成したN-保護アミノ酸を結晶として得る方法。N-保護アミノ酸含有反応液(アルカリ性)に対して水溶性有機溶媒、及び随意に水、を添加した後に、酸により中和を行うと、N-保護アミノ酸の生成から結晶の取得までの工程において、抽出、濃縮、再結晶のいずれの工程も必要とせずに良好な結晶が得られる。
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化合物及びフォトレジスト組成物
【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(C1)で表される化合物をクエンチャーとして使用すれば、上記目的を達成できる[下記式中、Rc1は式(1)で表される基である。Rc2は少なくとも1つのニトロ基を有する芳香族炭化水素基を表す。Rc3は、式(3−1)、式(3−2)又は式(3−3)で表される基である。Rc4は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。Rc5は2価の炭化水素基を表す。Rc6〜Rc8、Rc10、Rc12〜Rc14は、それぞれ独立に、炭化水素基を表す。Rc9及びRc11は、それぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基を表す。]。
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