【課題】
医薬等の製造において重要な合成中間体となり得る、N-メチルカルバミン酸エステル誘導体類の製造法及びその合成中間体をみいだすこと。
【解決手段】
下記式
【化１】


[R¹はC1-3アルキル基を示し、R²、R³及びR⁴は同一又は異なって、水素原子、C1-3アルキル基、C1-3アルコキシ基若しくはフッ素原子を示す]で表される化合物(I)のアミノ基を、塩基の存在下、ジ-tert-ブチルジカーボネイトと反応させることにより得られる化合物(II)を、還元することを特徴とする化合物(III)の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造のための工程数が少なくて手間がかからず、カルボキシル基とアミノ基の脱水縮合反応を促進する触媒、及びそれを用いたカルボン酸アミドの製造方法を提供することを解決課題とする。
【解決手段】カルボキシル基含有化合物と、第１アミノ基又は第２アミノ基含有化合物との脱水縮合反応によりカルボン酸アミドを製造する方法であって、ＦＳＭ−１６、ＭＣＭ−４１、ＭＣＭ−４８、ＭＣＭ−５０、ＳＢＡ−１、ＳＢＡ−１１、ＳＢＡ−１５、ＳＢＡ−１６からなる群より選択される一種以上のメソポーラスシリカを反応触媒として使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学活性アンモニウムベタイン類が有するアニオン部位の求核性に基づくイオン性求核触媒としての作用を利用した光学活性を有する化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表されるアンモニウムベタイン類及びその光学異性体をイオン性求核触媒として用いる光学活性を有する化合物の製造方法。
【化１】


［式（１）において、Ｒ^１とＲ^２とは同じであってもよく異なっていてもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基及び置換基を有するアリール基のうちの少なくとも１種である。Ｒ^３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基又はスルホニル基である。Ｍｅはメチル基である。］ （もっと読む）

【課題】エチレンジアミン誘導体の工業的生産に有利な方法を提供すること。
【解決手段】ハロゲン置換されたカルバマート基を有するアミノニトリルを酸存在下にて接触水素化反応を行った後に、アシル化を行うことにより含ハロゲンカルバマート基とアシル基を有するエチレンジアミン誘導体を得る。更に、アミノ酸アミドを水存在下で含ハロゲンカルバマート化行い、次いでビルスマイヤー試薬のような脱酸素剤と反応させることにより、収率良く原料のアミノニトリルを調製する。 （もっと読む）

【課題】低温で架橋塗膜が形成可能であり、湿気安定性、貯蔵後の硬化性も良好なブロックポリイソシアネート組成物の提供。
【解決手段】ポリイソシアネート骨格を有するポリイソシアネート（ａ）に、マロン酸ジエステル（ｂ）を、ポリイソシアネート（ａ）のイソシアネート基に対し７５−１５０モル％添加し反応させる第１工程、並びに、この生成物と有機アミン化合物（ｃ）とを反応させる第２工程を含む、ブロックポリイソシアネート組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】殺虫剤として優れた防除効果を示し、又他の殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤、生物農薬などと混合使用することによっても優れた防除効果を示す殺虫剤を提供する。
【解決手段】式（１）の化合物、これを有効成分として含有する殺虫剤、及び製造方法。


{A１、A2、A3、A4は炭素、窒素又は酸化された窒素、R1は置換されていても良いC1-C6アルキル基、フェニル基、複素環基、R2、R3は、水素、置換されていても良いC1-C4アルキル基、C1-C4アルキルカルボニル基、G1、G2、G3は、酸素又は硫黄、Xは、水素、ハロゲン、置換されていても良いC1-C4アルキル基、アミノ基、ｎは０〜４の整数、Qは、置換されていても良いフェニル基、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、複素環基} （もっと読む）

【課題】光学活性３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−フルオロ−１−プロパノールの工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の製造方法は、以下の３工程から成る。


また、本発明の製造方法における鍵中間体として、新規物質である光学活性３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−２−フルオロプロピオン酸エステルを提供する。
本発明の製造方法では、パラジウム触媒の使用量を格段に低減することができ、且つ１回で反応を完結させることができるため、製造コストが安く、操作が簡便である。さらに、最終目的物が結晶化し、再結晶精製を行うことにより高純度品が得られる。 （もっと読む）

本発明は、改良型のラコサミド調製方法に関する。本発明はまた、ラコサミドの調製において有用な新規な中間体に関する。本発明はまた、ラコサミドの精製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｃ１）で表される化合物をクエンチャーとして使用すれば、上記目的を達成できる［下記式中、Ｒ^c1は式（１）で表される基である。Ｒ^c2は少なくとも１つのニトロ基を有する芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^c3は、式（３−１）、式（３−２）又は式（３−３）で表される基である。Ｒ^c4は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^c5は２価の炭化水素基を表す。Ｒ^c6〜Ｒ^c8、Ｒ^c10、Ｒ^c12〜Ｒ^c14は、それぞれ独立に、炭化水素基を表す。Ｒ^c9及びＲ^c11は、それぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基を表す。］。
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