【課題】 本発明の目的は、フルオロアルキルスルホン酸と五酸化二燐とを反応させて、フルオロアルキルスルホン酸無水物を製造する際に、高収率な製造方法を提供する。
【解決手段】 実容量１００Lあたりの最大の動力が１．０kＷ以上である、少なくとも二軸以上のブレードを具備するニーダー型反応器を用いて、フルオロアルカンスルホン酸と五酸化二燐とを４０℃以上１００℃未満で混練しながら、反応、且つ、生成するフルオロアルキルスルホン酸無水物を排出させ、排出後の該反応器内残渣を１００℃以上１４０℃未満の温度で混練しながら、未反応のフルオロアルキルスルホン酸を排出して回収し、原料として再利用することを特徴とするフルオロアルカンスルホン酸無水物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、シリコーン樹脂と相溶性がよく、帯電防止が可能な導電性を有するシリコーン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 ―（ＣＨ_２）_ｍＷ（ＣＨ_２）_ｐＮＲＲ’Ｒ”^＋・Ａ⁻（式中、Ｒ、Ｒ’及びＲ”は、同一又は異なってもよく、水素、メチル基、エチル基又はプロピル基であり、Ａは、炭素数が１〜４のペルフルオロアルキル基を有するペルフルオロアルカンスルホン酸若しくはビス（ペルフルオロアルカンスルホン）イミド、又はビス（フルオロスルホン）イミドを表し、Ｗは、ＮＨ、Ｏ又は単結合であり、ｍ及びｐは１から１０の整数である）で表されるアンモニウム基を少なくとも一つ含む特定のシリコーン化合物塩である。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ用またはＥＢ用として有用なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）又は（ａ０−２）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記基材成分（Ａ）に加えて、光反応型クエンチャー（Ｃ）を含有することを特徴とするＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物。式中の基−Ｒ^３−Ｓ^＋（Ｒ^４）（Ｒ^５）は、全体で芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。Ｍ^ｍ＋は、芳香環を１個のみ有するか又は芳香環を有さない。
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【課題】パーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩の着色の少ない有機溶媒溶液を安価で効率的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】金属酸化物と、パーフルオロアルキルスルホン酸を、パーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩が溶解するプロトン性極性有機溶媒中で反応させることを特徴とする、下記一般式(１)で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸の金属塩の製造方法。
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【課題】安定的かつ容易に薄膜を形成、あるいは有機薄膜層の多層化を容易に行うことができ、有機エレクトロニクス素子、特に高分子型有機ＥＬ素子の生産性を向上させる上で有用な電子受容性化合物を提供する。
【解決手段】第１の電荷輸送性化合物のカチオン及び／又はカチオンラジカルと、下記一般式（１ｂ）〜（５ｂ）で表されるアニオンのうちの１種とからなる電子受容性化合物。


（式中、Ｙ^１〜Ｙ^６は、それぞれ独立に二価の連結基、Ｒ^１〜Ｒ^１６は、それぞれ独立に電子求引性の有機置換基（これらの構造中にさらに置換基、ヘテロ原子をもっていてもよい。）を表す。Ｅ^１は酸素原子、Ｅ^２は窒素原子、Ｅ^３は炭素原子、Ｅ^４はホウ素原子又はガリウム原子、Ｅ^５はリン原子又はアンチモン原子を表す。） （もっと読む）

【課題】 アニオン部位の原料とカチオン部位の原料を効率よく使用でき、かつアニオン部位の原料とカチオン部位の原料の反応速度の制御が可能なイオン性化合物の製造方法により、高純度のイオン性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のペルフルオロアルキルスルホン酸エステルまたはＮ−アルキルペルフルオロアルキルスルホニルイミドであるアニオンと、特定のアミンであるカチオンとからなるイオン性化合物であって、原料のアニオンと、原料のカチオンと、をマイクロリアクタにより形成された反応流路で連続的に接触させて製造され、原料のアニオンの含有量：Ａ（ｐｐｍ）と原料のカチオンの含有量：Ｂ（ｐｐｍ）との和：（Ａ＋Ｂ）が、５００（ｐｐｍ）以下であることを特徴とする、イオン性化合物である。 （もっと読む）

【課題】１ｋＰａ以上という圧力領域において、プロピレンとプロパンなどの炭素数が３以上で且つ同じ炭素数の炭化水素であっても不飽和炭化水素と飽和炭化水素を高効率で分離することが可能な炭化水素分離方法の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）：Ｑ^１−（Ｒ）_ｎ−Ｑ^２（Ｉ）｛式中、Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ窒素原子を含む複素環基、ｎは３〜２０の整数、Ｒは下記式（II−１）〜（II−４）：−Ｃ（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（II−１）−Ｃ（＝Ｏ）−（II−２）−Ｏ−（II−３）−Ｎ（Ｒ^３）−（II−４）（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｒ^３は、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基である。）で表される基からなる群から選択されるいずれかである。｝で表される配位子と、カウンターイオンと、金属イオンとを含む金属錯体に、混合物を接触せしめる炭化水素の分離方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、優れた露光ラチチュード、及び、優れたラインエッジラフネス性能を高次元で鼎立可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１−１）により表される化合物を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


式中、Ｒ_１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、又は複素環式基を表す。Ｒ_２は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、脂肪族環式基、芳香族炭化水素基、複素環式基、シアノ基、又は、アルコキシカルボニル基を表す。Ｒ_３は、１つ以上の−ＣＨ_２−基が、エーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、又は、ウレア基により置換されていても良い、アルキレン基を表す。 （もっと読む）

【課題】フルオロアルカンスルホン酸塩から誘導されるフルオロアルカンスルホン酸の製造において、硫黄成分を効率的に低減し、工業的に有利に高純度なフルオロアルカンスルホン酸を提供する。
【解決手段】一般式［１］で表されるフルオロアルカンスルホン酸


（式中、Ｒ^ｆは炭素数１〜４の直鎖もしくは炭素数３〜４の分岐鎖のフルオロアルキル基を示す。）の製造方法において、以下の工程を含むことを特徴とする、フルオロアルカンスルホン酸の製造方法。（１）フルオロアルカンスルホン酸塩に、濃硫酸及び／又は発煙硫酸を反応させて酸分解し、フルオロアルカンスルホン酸と硫黄成分とを含む反応混合物を得る工程。（２）前記工程で得られた反応混合物に、酸化剤を添加し、続けて蒸留することにより該反応混合物からフルオロアルカンスルホン酸を得る工程。 （もっと読む）

【課題】パターンプロファイル及び焦点深度マージンに優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、特に反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いてパターン形成される場合にもこれら性能に優れ、インプランテーション用として好適な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ＰＧ１）、（ＰＧ２）、（ＰＧ３）と、ラクトン構造を含む少なくとも一種の繰り返し単位を含有する樹脂（Ａ）光酸発生剤（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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