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国際特許分類[C07C309/10]の内容

国際特許分類[C07C309/10]に分類される特許

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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用で新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、一般式(b0)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、Rは水素原子、または置換されていてもよい炭化水素基であり、pは0以上の整数であり、qは1以上の整数であり、Mは対カチオンである。]。
[化1]
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【課題】高純度かつ良好な重合性を有する不飽和二重結合基を有するスルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法は、下記一般式(1)で表される化合物と亜硫酸塩を反応する方法であって、pHを10以上に調整したアルカリ水に、下記一般式(1)で表される化合物と亜硫酸塩水溶液を滴下することを特徴とする。
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【課題】難分解性の有機フッ素化合物、例えばペルフルオロアルキル基の部分にエーテル結合を含むフッ素化カルボン酸およびフッ素化アルキルスルホン酸をフッ化物イオンまで高効率で分解できる、工業的に極めて有用な分解方法の提供。
【解決手段】難分解性の有機フッ素化合物(さらに具体的にはノナフルオロ−3,6−ジオキサヘプタン酸やペルフルオロ(2−エトキシエタン)スルホン酸)を、ペルオキソ二硫酸イオンの存在下、超音波照射して高効率に分解し、フッ化物イオンとして回収する。 (もっと読む)


【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1−1)で表される化合物;式(b1−1)中、Y10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;RおよびRは水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y11およびY12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。Xはアニオンである。
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【課題】 イオン伝導性微粒子とフッ化ビニリデンの共重合体とを含有し、上述したような燃料電池集合体の作製工程に耐え得る、優れた機械的特性、特に強い靱性と適度な可撓性とを兼ね備えたイオン伝導性膜を形成できるイオン伝導性複合体、このイオン伝導性複合体を電解質として用いて作製された膜電極接合体(MEA)、及び電気化学装置を提供すること。
【解決手段】 イオン伝導性複合体を、イオン解離性の基を有するイオン伝導性微粒子と、温度130℃、圧力20kgf/cm2の下で15分間加熱処理した後の結晶化度が30%以下であるフッ化ビニリデンの共重合体とで構成する。ポリフッ化ビニリデンの結晶化を抑えるためには、ヘキサフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、およびパーフルオロアルコキシトリフルオロエチレンからなる群から選ばれた1種または複数種をコモノマーとする。 (もっと読む)


新しい界面活性剤、及び当該界面活性剤の製造方法及び用途を提供する。この界面活性剤は、式Iの化合物である。


(上記式中、R、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は明細書中に規定される通りである)
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【課題】本発明は、プロトン伝導体として有用な、イオン解離性機能高分子を、従来よりも収率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明のイオン解離性機能高分子の製造方法は、フラーレンに、少なくとも一部がフッ素化されたスペーサー基を介してイオン解離性基の前駆体基が結合してなるイオン解離性機能分子前駆体(A)と、1g当たりのイオン解離性基の前駆体基のモル数がイオン解離性機能分子前駆体(A)と異なる、フラーレンに、少なくとも一部がフッ素化されたスペーサー基を介してイオン解離性基の前駆体基が結合してなるイオン解離性機能分子前駆体およびフラーレンから選ばれる少なくとも一種の化合物(B)と、連結分子(C)とを反応させ、連結分子(C)由来の連結鎖を介して、前記イオン解離性機能分子前駆体(A)および化合物(B)が結合してなる反応生成物を得る工程(1)を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】23℃における水への溶解度が0.1%以下である酸発生剤と、樹脂とを含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】異性化等が起こらず、目的の構造の化合物を廉価に製造することが可能なエーテル構造を有するペルフルオロスルホン酸(ペルフルオロアルコキシペルフルオロアルキルスルホン酸)及びその誘導体並びにその原料化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ化水素酸にRORSOFを加えて濃厚溶液(水素結合錯体)とし、そのまま、Fガスを用いる液相反応系に供給するか、RORSOClをフッ化水素酸に加えて、HClを放出させることでRORSOFに変換し、これをそのまま、Fガスを用いる液相反応系に供給することによって、安全にフッ素化を行うことができ、異性化等が起こらず、目的の構造の化合物を廉価に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、式(b1−1)で表される化合物を含む酸発生剤成分(B)とを含有するレジスト組成物;式中、R”〜R”はアリール基又はアルキル基を表し、その少なくとも1つは式(b1−1−0)で表される基で置換された置換アリール基であり、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Xは炭素数3〜30の炭化水素基、Qは単結合又はアルキレン基、pは1〜3の整数である。Wは炭素数2〜10のアルキレン基である。]
[化1]
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