【課題】優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［式（Ｉ）中、Ｚ^１は、Ｃ_７〜Ｃ_２０アルキレン基、Ｃ_３〜Ｃ_２０２価の飽和環状炭化水素基、又は、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキレン基とＣ_３〜Ｃ_２０２価の飽和環状炭化水素基とを組み合わせた基を表す。］
（もっと読む）

【課題】優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるモノマー、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位からなる重合体、並びに、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位及び式（ＩＩ）で表されるモノマーに由来する構造単位からなる重合体からなる群から選ばれる１種以上と、式（Ｉ）で表されるモノマーに由来する構造単位を有さず、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸と作用してアルカリ水溶液で溶解しえる樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３は水素原子又はメチル基を表す。Ｗ^１はＣ_３〜Ｃ_２０２価の飽和環状炭化水素基を表す。Ａ^１は単結合又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^２−を表す。Ａ^２は単結合又は−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ_２）_ｎ−を表す。Ｒ^４は置換基を有していてもよいＣ_３〜Ｃ_２０飽和環状炭化水素基を表す。］
（もっと読む）

【課題】優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する繰り返し単位及び式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を含むフォトレジスト組成物。［Ｒ^１及びＲ^３１は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいＣ_１−６アルキル基を表す。Ｚ^１は、単結合又は＊−［ＣＨ₂］_ｓ３−ＣＯ−Ｌ^４−基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ独立に、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｔは、骨格に−ＳＯ_２−を含む複素環基を表す。］
（もっと読む）

【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びＣＤ均一性を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１及びＬ^２はＣ_1-17アルキレン基を表し、前記アルキレン基の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。環Ｗ^１はＣ_３-３６飽和炭化水素環を表す。ｖは１又は２の整数を表す。Ｒ^５はＣ_1-６アルキル基又はＣ_1-6アルコキシ基を表す。ｗは０〜２の整数を表す。環Ｗ^２はＣ_３-３６飽和炭化水素環を表す。Ｒ^１はＣ_1-１２炭化水素基を表す。Ｒ^２はＣ_1-６アルキル基又はＣ_1-6アルコキシ基を表す。ｓは０〜２の整数を表す。Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】優れた解像度及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１及びＬ^２はＣ_1-17アルキレン基を表し、前記アルキレン基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。環Ｗ^１はＣ_３-３６飽和炭化水素環を表す。ｖは１又は２の整数を表す。Ｒ^５はＣ_1-６アルキル基又はＣ_1-6アルコキシ基を表す。ｗは０〜２の整数を表す。環Ｗ^２はＣ_４-３６ラクトン環を表す。Ｒ^３はＣ_1-６アルキル基又はＣ_1-6アルコキシ基を表す。ｔは０〜２の整数を表す。Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］
（もっと読む）

【課題】欠陥が少なく、かつ優れた形状及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ、Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、単結合又は置換基を有していてもよい２価の飽和炭化水素基、該飽和炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｙ^１は、（ｍ＋１）価の飽和環状炭化水素基、該基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＳＯ_２−で置き換わっていてもよい；Ｘ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子はフッ素原子で置換されており、該基に含まれる少なくとも１つの水素原子は水酸基で置換されていてもよい；ｍは、１又は２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】酸発生剤の中間体として有用で、且つ固体状であるアンモニウム塩化合物を製造すること。
【解決手段】水と相分離する１種又は２種以上の溶媒を、液状の式（Ｉ）で表される化合物と接触させることを特徴とする固体状の式（Ｉ）で表される化合物の製造方法〔式（Ｉ）中、Ｑ¹及びＱ²は、互いに独立に、フッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｒは、有機基を表す。Ｚ¹〜Ｚ³は、互いに独立に、水素原子、Ｃ_1-12脂肪族炭化水素基等を表す。〕。
（もっと読む）

【課題】優れた形状及びＤＯＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分とする酸発生剤（Ａ）及び式（ａａ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂（Ｂ）を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はＦ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は置換基を有していてもよい２価飽和炭化水素基、該基中の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｙ^１は、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基等、該基中の−ＣＨ_２−は、−ＣＯ−、−Ｏ−等で置き換わっていてもよい；Ｒ^ｃは、Ｈ又はアルキル基；Ｚ^＋は有機対カチオン；Ｔは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、少なくとも１つの−ＳＯ_２−で置き換わっている；Ｒ^１はＨ、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよいアルキル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】原料の脂肪酸アルキルエステルとして未精製品を使用しても、簡便な操作により、臭気の良好なα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩を製造できる方法を提供すること。
【解決手段】着色抑制剤の存在下で、脂肪酸アルキルエステルとスルホン化ガスとを接触させてスルホン化するスルホン化工程と、該スルホン化工程の生成物を低級アルコールによってエステル化するエステル化工程と、該エステル化工程後に中和して中和物を得る中和工程と、該中和物を漂白して漂白物を得る漂白工程と、該漂白物を５０℃以上で空気又は不活性ガスが存在する貯留槽に供給すると共に、前記の空気又は不活性ガスと接触させつつ、前記の空気又は不活性ガスを該貯留槽に供給・排出して置換処理を施す脱臭工程とを有するα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩の製造方法。 （もっと読む）