国際特許分類[C07C311/48]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 非環式化合物または炭素環式化合物 (64,036) | スルホン酸アミド,すなわちスルホン酸基の単結合で結合している酸素原子がニトロまたはニトロソ基の一部でない窒素原子で置き換えられている化合物 (1,284) | スルホン酸アミド基の窒素原子がさらに他の異種原子に結合しているもの (126)
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤
【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1−1)で表される化合物;式(b1−1)中、Y10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;R6およびR7は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y11およびY12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。X−はアニオンである。
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感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により一般式(II)で表される酸を発生する化合物、及び、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を有する。)
【化1】
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感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
【課題】通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する一般式(I)で表される化合物、及び、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(一般式(I)における各符号は本明細書及び特許請求の範囲に記載の意味を表す。)
【化1】
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新規イオン液体、及びその用途
【課題】 耐磨耗性、耐蒸発性に優れ、さらに安定した流動性を示し、広い温度範囲、使用条件で安定した潤滑性能を有する合成潤滑油として有用なイオン液体を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で示されることを特徴とするイオン液体。
【化1】
(一般式(1)中、R1は、置換基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキル基、R2は、置換基を有していてもよい炭素数4〜16のアルキル基、R3およびR4は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基である。
ただし、R1がn−プロピル基であり、かつR2がn−ブチル基である場合を除く。)
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イオン液体組成物、及びその用途
【課題】 耐磨耗性、耐蒸発性に優れ、さらに安定した流動性を示し、広い温度範囲、使用条件で安定した潤滑性能を有する合成潤滑油、また電解液材料として有用なイオン液体組成物を提供する。
【解決手段】 アニオン部がビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミドアニオンであるイオン液体(A)を含むイオン液体組成物であって、イオン液体(A)のカチオン部が異なるイオン液体を2種以上含有してなることを特徴とするイオン液体組成物。
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スルホニル化法およびパーハロゲン化スルファニリドの合成に有用な試薬
【課題】ハロゲン化スルホニル、特にこれらのハロゲン化物が重いハロゲン化物を用いて、スルホンアミドを得るための方法を提供する。
【解決手段】スルファニリド官能基の硫黄原子により担われる炭素上のパーハロゲン化スルファニリド合成のために有用な方法、および試薬。前記パーフルオロアルカンスルホニル化方法は、求核性原子が窒素である求核性試薬と、重いスルホニルハロゲン化物、有利には塩化スルホニル、およびπ結合との共鳴を有するメタロイド原子を含む有機塩基を、連続的または同時の添加により、含む試薬とを接触させることからなる段階を含むこと、および前記スルホニルの有機部分が、硫黄により担われる炭素上に、パーハロゲン化、有利にはパーフルオロ化される。有機化学に対する中間体合成に応用可能である。
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アリール基を有するスルホニウム塩の製造法
【課題】スルホキシド化合物から1工程でアリール含有スルホニウム塩を製造する方法。
【解決手段】スルホキシド化合物(A)と、芳香族化合物(B)と、一般式(5):
で表されるスルホンイミド(C)とを、脱水剤の存在下、接触及び混合させる、を含む、一般式(7):
で表されるスルホニウム塩の製造方法。
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スルホニウム塩の製造方法
【課題】ハロゲン化物イオンがフリーのスルホニウム塩の製造方法を提供する。
【解決手段】対アニオンとして、スルホン酸アニオンを有するスルホニウム化合物と、スルホンイミド塩とを接触・混合させることにより、下記一般式(5):
で表されるスルホニウム塩を製造する方法。
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イミド酸塩の製造方法
【課題】イミド酸塩を、安価な原料を用いて、高選択率で効率よく製造する。
【解決手段】アルカリ金属フッ化物と、ハロゲン化スルフリルもしくはハロゲン化ホスホリルと、アンモニアもしくはアンモニウム塩とを反応させることで、式
[式中、Rはハロスルホニル基(−SO2X1;X1はハロゲン(フッ素、塩素))、又はジハロホスホリル基(−POX2X3;X2、X3は同一、又は異なるハロゲン(フッ素、塩素)を表す。Mはアルカリ金属を表す。]で表されるイミド酸塩を製造する。副生物の生成を大幅に抑制しつつ、高収率で目的とするイミド酸塩を製造できる。
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スルホニウム塩及びその製造法
【課題】光酸発生剤としてカチオン重合活性の高いスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記一般式(1):
{式中、R1、及びR2は、各々独立に、置換されていてもよいアリール基であり、R3は、アルキル基、ナフチル基又は置換アリール基のいずれかであり、aは、2〜8の整数であり、bは、0又は1であり、a’は、1〜8の整数であり、そして、b’は、0又は1である。}で表されるスルホニウム塩。
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