【課題】エポキシ樹脂組成物にした際に溶解性が良好であり、かつ、エポキシ樹脂硬化物に高い耐熱性を付与できるエポキシ樹脂用硬化剤として用いることができる、新規なカリックスアレーン誘導体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ−１）で示されるカリックスアレーン誘導体。
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【課題】アルカリ現像液に対する溶解速度を制御することができ、解像度を低下させることなく、高感度で形状が良好なパターンを得ることができる化学増幅型のネガ型レジスト材料として有用なカリックスレゾルシンアレーン誘導体、その製造方法、それを含むネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記化学式(1)で表されるレゾルシノール誘導体とＲ^３−Ｘで表されるハロゲン化アルキルを反応させ、前記レゾルシノール誘導体の有するフェノール性水酸基に非酸分解性基を導入することにより得られるカリックスレゾルシンアレーン誘導体。


［式中、Ｒ^１はアリール基、置換基を有するアリール基、アルキル基等を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基等を表し、ｎは０〜２の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の潤滑層の材料として有用な新規な潤滑剤組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも１種の下記式（１）で表される化合物を含有する潤滑剤組成物である。Ｘは置換されていてもよい環状基、Ｙは単結合又は２価以上の連結基を表し、但し、Ｘ及びＹの少なくとも一方は、１つ以上の水酸基等の極性基を；Ｚは炭素原子（Ｃ）、フッ素原子（Ｆ）、及び任意の１種又は２種の原子（但し、水素原子は考慮しないものとする）から構成される、２価以上の連結基を表し；ｎは１〜１０の実数；ｍは０〜１の実数；ｓ及びｔはそれぞれ１以上の実数を表す。
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【課題】 本発明は、工業的な実施に好適であり、且つ、経済的に有利な９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンの製造方法、即ち、一定の品質を維持し、ポリマー原料として優れた９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンを副生成物が少なく、且つ短時間で効率よく製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ヘテロポリ酸存在下、フルオレノンとフェノキシエタノールを反応させ、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンを製造する方法において、１４×１０^３Ｐａ以下の減圧下、９０〜１５０℃の温度範囲で反応させることを特徴とする９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンの製造法。 （もっと読む）

【課題】液晶材料製造中間体である１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１２）で表される１，７，８−トリフルオロナフタレン誘導体を、脱保護反応を行うことにより、１，７，８−トリフルオロ−２−ナフトール誘導体を製造する。


（Ｒ^１及びＲ^２は、Ｈ、置換されていても良いＣ１〜６のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等を、Ｒ^８は、水酸基の保護基を表す。） （もっと読む）

【課題】ラジカル重合で得られるポリマー或はコポリマーの分子量を効率的に調節できる連鎖移動剤として有用なヒドロキシスチレンダイマー誘導体、その製造方法、連鎖移動剤及びラジカル重合性モノマーの重合方法を提供する。
【解決手段】ヒドロキシスチレンダイマー誘導体の構造は、式（１）


（式中、置換基Ｒ¹およびＲ³は水素原子、アルコキシ基またはアセトキシ基のいずれかであり、Ｒ²はアセチル基またはアルキル基のいずれかである）で表される。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有する液晶化合物の精製法及びこの精製法により得られた液晶化合物を使用した信頼性の高い液晶材料の提供。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１及びＲ^２はお互い独立して炭素数１から４の分岐していないアルキル鎖を表すが、−ＣＨ_２ＣＨ_２−は−ＣＨ＝ＣＨ−と置き換えられてもよく、Ｒ^１及びＲ^２に含まれる炭素原子の合計が奇数であり、ｍ及びｎはお互い独立して０又は１を表すがｍ＋ｎは１を表し、Ｌ^１は単結合、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。）で表される化合物をアセトン単独、アルコール類単独又はアセトン及びアルコール類の混合溶媒から再結晶することにより精製する。 （もっと読む）

本発明は、ポリオールを安定化する方法、ならびに、ポリオールおよび安定剤を含む混合物に関する。式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物が安定剤として用いられ、式中、ｎは１、２、３または４であり、ｍは１、２または３であり、ｐは２であり、Ｑは硫黄またはＣ_１〜Ｃ_４−アルキレンであり、Ｒ^１は、存在し得る他の基Ｒ^１からそれぞれ独立して、Ｃ_１〜Ｃ_８−アルキルまたはＣ_１〜Ｃ_８−アルコキシであり、さらに、式（ＩＩ）の２つのフェニル環または式（Ｉ）のフェニル環の少なくとも１つのオルト位が、第２級または第３級残基により置換されていなければならない。
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【課題】高収率で、高立体選択的に光学活性なα付加型アリル化反応によるホモアリル化合物を製造する方法の提供。
【解決手段】水と有機溶媒との混合溶媒中で、金属触媒の存在下で、かつリガンドの存在下又は不存在下で、アリルボラン化合物と、カルボニル化合物やそのヒドラゾン誘導体とを反応させる触媒的不斉α付加型アリル化反応により、立体選択的にα付加型アリル化化合物を製造する。例えば、カルボニル化合物の場合、Ｚｎ金属と２，９−ジメチルフェナントロリン(Ligand3)の存在下に、下式の反応によりα付加体４ａ化合物が高収率で得られる。
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【課題】高屈折率樹脂材料用の２価アルコール類、その重合体であるポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、それらの樹脂の成形体および光学素子を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される２価アルコール類、およびその重合体であるポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、それらの樹脂からからなる成形体および光学素子。


〔式中、Ｌは炭素数２以上１２以下のオキシアルキレン基、又は炭素数２以上１２以下のポリ（オキシエチレン）基を示す。〕 （もっと読む）